JPS6329335B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6329335B2 JPS6329335B2 JP52074478A JP7447877A JPS6329335B2 JP S6329335 B2 JPS6329335 B2 JP S6329335B2 JP 52074478 A JP52074478 A JP 52074478A JP 7447877 A JP7447877 A JP 7447877A JP S6329335 B2 JPS6329335 B2 JP S6329335B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- disk substrate
- disk
- magnetic field
- particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気デイスクの製造方法に係り、特に
デイスク基板上に形成した磁性塗膜の配向方法に
特徴を有する磁気デイスクの製造方法に関する。
デイスク基板上に形成した磁性塗膜の配向方法に
特徴を有する磁気デイスクの製造方法に関する。
磁気デイスクを製造する場合、デイスク基板上
に例えばスピンコート法等によつて磁性塗膜を形
成し、次いでこのデイスク基板に磁場を印加して
磁性塗膜中の磁性粒子、即ち強磁性体の長軸をデ
イスク基板の円周方向に配向させることが行われ
る。即ち、デイスク基板上に塗布した磁性材料が
適当な粘度を有している間にデイスク基板面従つ
て塗布した磁性層面に平行でかつ該デイスクの接
線方向の磁場を印加することにより磁性層内の磁
性粒子を円周方向に配向させて該磁性層の磁気特
性の改善を計つている。
に例えばスピンコート法等によつて磁性塗膜を形
成し、次いでこのデイスク基板に磁場を印加して
磁性塗膜中の磁性粒子、即ち強磁性体の長軸をデ
イスク基板の円周方向に配向させることが行われ
る。即ち、デイスク基板上に塗布した磁性材料が
適当な粘度を有している間にデイスク基板面従つ
て塗布した磁性層面に平行でかつ該デイスクの接
線方向の磁場を印加することにより磁性層内の磁
性粒子を円周方向に配向させて該磁性層の磁気特
性の改善を計つている。
しかしながら、単に上述の如く磁場を印加した
のみでは充分な配向度即ち角形比（Br／Bs）を
得ることができない。
のみでは充分な配向度即ち角形比（Br／Bs）を
得ることができない。
従つて本発明の目的は従来技術では達成し得な
かつた高い角形比の磁性層を有する磁気デイスク
を製造する方法を提供することにある。
かつた高い角形比の磁性層を有する磁気デイスク
を製造する方法を提供することにある。
上述の目的を達成する本発明の特徴は、磁気異
方性を有する磁性粒子を含む磁性層をデイスク基
板上に形成し、次いで、形成した磁性層中の磁性
粒子をデイスク基板面に平行でかつ該デイスクの
接線方向に平行に配向させる磁気デイスクの製造
方法において、前記面内配向磁場の影響を受けな
い場所で、前記デイスク基板の両面に近接し前記
デイスク基板を挟んで配置された少なくとも１対
の異極間磁石からなる垂直磁場発生手段により前
記磁性層に垂直磁場を印加し、前記磁性層中の前
記磁性粒子を一旦垂直方向に配向する第１の工
程、前記垂直方向に配向された磁性粒子を前記垂
直磁場から遠ざけて該磁性粒子を水平方向に整位
せしめる第２の工程、前記デイスク基板の上下面
に対向して配置された少なくとも２対の磁石によ
つて発生された面内配向磁場を印加して前記水平
方向に整位された磁性粒子をさらに印加磁束方向
に配向させる第３の工程を具備し、前記第１から
第３の工程のうちの任意の工程から開始し、前記
順序で複数回繰り返すことにある。
方性を有する磁性粒子を含む磁性層をデイスク基
板上に形成し、次いで、形成した磁性層中の磁性
粒子をデイスク基板面に平行でかつ該デイスクの
接線方向に平行に配向させる磁気デイスクの製造
方法において、前記面内配向磁場の影響を受けな
い場所で、前記デイスク基板の両面に近接し前記
デイスク基板を挟んで配置された少なくとも１対
の異極間磁石からなる垂直磁場発生手段により前
記磁性層に垂直磁場を印加し、前記磁性層中の前
記磁性粒子を一旦垂直方向に配向する第１の工
程、前記垂直方向に配向された磁性粒子を前記垂
直磁場から遠ざけて該磁性粒子を水平方向に整位
せしめる第２の工程、前記デイスク基板の上下面
に対向して配置された少なくとも２対の磁石によ
つて発生された面内配向磁場を印加して前記水平
方向に整位された磁性粒子をさらに印加磁束方向
に配向させる第３の工程を具備し、前記第１から
第３の工程のうちの任意の工程から開始し、前記
順序で複数回繰り返すことにある。
以下図面を用いて本発明を説明する。
第１図Ａ，Ｂは本発明の一実施例における製造
装置の概略を表わす立面図、平面図である。この
図において、１は磁性層を形成すべきデイスク基
板、２は該デイスク基板１を回転させる回転装置
に連結される回転軸、３は該デイスク基板１の上
面及び下面にそれぞれ近接し該デイスク基板を挟
むように設けられた１対の磁極から成る第１の直
流磁化装置である。この第１の直流磁化装置３は
デイスク基板１の一つの半径方向に設けられてお
り、本実施例においてはデイスク基板１の上側が
Ｓ極、下側がＮ極の磁極となるように構成されて
いる。従つて磁束はデイスク基板面と垂直に下側
から上側に向つて形成される。この第１の直流磁
化装置３は、上述のように１対の異極間磁石から
なり、垂直方向成分のみのかつ磁場勾配のない垂
直磁場を発生する。デイスク基板１の軸に関して
第１の直流磁化装置３の反対側には２対の第２の
直流磁化装置４が半径方向に設けられている。第
１の直流磁化装置３と第２の直流磁化装置４は互
いに影響を与えないように離間して配置される。
この直流磁化装置４のうちの１対はデイスク基板
１の上面に近接して平行に設けられており、その
磁極はデイスク基板１の回転方向に順次Ｎ極、Ｓ
極となるように配置されている。また他の１対は
デイスク基板１の下面に同様に設けられている。
従つてこれらの第２の直流磁化装置４による磁束
はデイスク基板面と平行にかつデイスクの回転接
線方向に向つたものとなる。
装置の概略を表わす立面図、平面図である。この
図において、１は磁性層を形成すべきデイスク基
板、２は該デイスク基板１を回転させる回転装置
に連結される回転軸、３は該デイスク基板１の上
面及び下面にそれぞれ近接し該デイスク基板を挟
むように設けられた１対の磁極から成る第１の直
流磁化装置である。この第１の直流磁化装置３は
デイスク基板１の一つの半径方向に設けられてお
り、本実施例においてはデイスク基板１の上側が
Ｓ極、下側がＮ極の磁極となるように構成されて
いる。従つて磁束はデイスク基板面と垂直に下側
から上側に向つて形成される。この第１の直流磁
化装置３は、上述のように１対の異極間磁石から
なり、垂直方向成分のみのかつ磁場勾配のない垂
直磁場を発生する。デイスク基板１の軸に関して
第１の直流磁化装置３の反対側には２対の第２の
直流磁化装置４が半径方向に設けられている。第
１の直流磁化装置３と第２の直流磁化装置４は互
いに影響を与えないように離間して配置される。
この直流磁化装置４のうちの１対はデイスク基板
１の上面に近接して平行に設けられており、その
磁極はデイスク基板１の回転方向に順次Ｎ極、Ｓ
極となるように配置されている。また他の１対は
デイスク基板１の下面に同様に設けられている。
従つてこれらの第２の直流磁化装置４による磁束
はデイスク基板面と平行にかつデイスクの回転接
線方向に向つたものとなる。
第２図Ａ，Ｂ，Ｃは本実施例における磁性層の
配向の模様を説明する図であり、以下これらの図
を参照して本実施例の工程を説明する。まず、デ
イスク基板１を回転軸２に同軸に固定し、これを
矢印方向に回転させる。次いで磁性材料５を該デ
イスク基板１の内周部上に滴下する。磁性材料５
は磁性酸化鉄等の磁気異方性を有する針状粒子を
熱硬化性樹脂等のバインダーが溶解した有機溶媒
液に分散させたものである。滴下された磁性材料
５はデイスク基板１の遠心力により離心方向に拡
がり、斯くして磁性塗膜６が形成される。この形
成されたばかりの磁性塗膜６内の磁性粒子７は第
２図Ａに示す如くランダムに配向している。さ
て、デイスク基板１の回転によりこの塗膜６の部
分が適度の粘度のまま第１の直流磁化装置３に達
すると、塗膜面に対して垂直の磁場が印加される
ことから第２図Ｂの如く磁性粒子７が垂直方向に
配向する。次いで第１の直流磁化装置３を通り過
ぎ垂直方向の磁場がとり去られると塗膜の厚さが
数μmと極めて薄いため磁性粒子７は自らの反磁
場により水平方向に倒れる。この状態の塗膜が第
２の直流磁化装置４によりデイスク基板面従つて
塗膜面に平行でかつデイスク回転接線方向の磁場
を受け磁性粒子はこの磁場方向に配向される（第
２図Ｃ）。
配向の模様を説明する図であり、以下これらの図
を参照して本実施例の工程を説明する。まず、デ
イスク基板１を回転軸２に同軸に固定し、これを
矢印方向に回転させる。次いで磁性材料５を該デ
イスク基板１の内周部上に滴下する。磁性材料５
は磁性酸化鉄等の磁気異方性を有する針状粒子を
熱硬化性樹脂等のバインダーが溶解した有機溶媒
液に分散させたものである。滴下された磁性材料
５はデイスク基板１の遠心力により離心方向に拡
がり、斯くして磁性塗膜６が形成される。この形
成されたばかりの磁性塗膜６内の磁性粒子７は第
２図Ａに示す如くランダムに配向している。さ
て、デイスク基板１の回転によりこの塗膜６の部
分が適度の粘度のまま第１の直流磁化装置３に達
すると、塗膜面に対して垂直の磁場が印加される
ことから第２図Ｂの如く磁性粒子７が垂直方向に
配向する。次いで第１の直流磁化装置３を通り過
ぎ垂直方向の磁場がとり去られると塗膜の厚さが
数μmと極めて薄いため磁性粒子７は自らの反磁
場により水平方向に倒れる。この状態の塗膜が第
２の直流磁化装置４によりデイスク基板面従つて
塗膜面に平行でかつデイスク回転接線方向の磁場
を受け磁性粒子はこの磁場方向に配向される（第
２図Ｃ）。
第３図は本実施例装置により製造した磁性層と
従来装置により製造した磁性層の磁気特性を表わ
す図である。この図において横軸はデイスク基板
面に平行でかつデイスクの接線方向に平行な磁場
即ち面内配向磁場（Oe）、縦軸は角形比（Br／
Bs）を表わしており、７は従来装置即ち面内配
向操作のみを行う装置による場合、８は本実施例
装置により800Oeの垂直磁場を印加した後、面内
配向操作を行つた場合、９は本実施例装置により
1600Oeの垂直磁場を印加した後、面内配向操作
を行つた場合である。なお、これらの場合に用い
た磁性粒子はγ―Fe2O3であり、この保磁力は
350Oeである。
従来装置により製造した磁性層の磁気特性を表わ
す図である。この図において横軸はデイスク基板
面に平行でかつデイスクの接線方向に平行な磁場
即ち面内配向磁場（Oe）、縦軸は角形比（Br／
Bs）を表わしており、７は従来装置即ち面内配
向操作のみを行う装置による場合、８は本実施例
装置により800Oeの垂直磁場を印加した後、面内
配向操作を行つた場合、９は本実施例装置により
1600Oeの垂直磁場を印加した後、面内配向操作
を行つた場合である。なお、これらの場合に用い
た磁性粒子はγ―Fe2O3であり、この保磁力は
350Oeである。
第３図からも明らかのように、一度垂直方向に
配向させた磁性粒子は、垂直磁場を取り去ると反
磁場によつて水平方向に倒れ、この倒れた状態の
磁性粒子に面内配向磁場を印加すると、無配向状
態の磁性粒子にいきなり面内配向磁場を印加した
場合よりもはるかに配向度が良くなり、従つて角
形比が向上する。
配向させた磁性粒子は、垂直磁場を取り去ると反
磁場によつて水平方向に倒れ、この倒れた状態の
磁性粒子に面内配向磁場を印加すると、無配向状
態の磁性粒子にいきなり面内配向磁場を印加した
場合よりもはるかに配向度が良くなり、従つて角
形比が向上する。
なお、前述の実施例ではスピンコート法により
磁性層を形成しているが、本発明はその他の磁性
層形成方法例えばスプレーコート法にも適用でき
る。さらに、垂直配向磁場及び面内配向磁場の印
加方法については、面内配向磁場を印加する前に
垂直配向磁場を印加してこれを取り去るようにす
れば良く、上述の実施例の印加方法に限定される
ものではない。実際の製造工程においては、前述
の工程は複数回の繰り返しの後、磁性塗料の乾燥
により終了する。
磁性層を形成しているが、本発明はその他の磁性
層形成方法例えばスプレーコート法にも適用でき
る。さらに、垂直配向磁場及び面内配向磁場の印
加方法については、面内配向磁場を印加する前に
垂直配向磁場を印加してこれを取り去るようにす
れば良く、上述の実施例の印加方法に限定される
ものではない。実際の製造工程においては、前述
の工程は複数回の繰り返しの後、磁性塗料の乾燥
により終了する。
以上詳細に説明したように、本発明の製造方法
は、磁性層に垂直配向磁場を印加してこれを取り
去つた後、面内配向磁場を印加しているため、配
向度が非常に良くなり、従つて磁気特性が大幅に
向上される利点を有している。
は、磁性層に垂直配向磁場を印加してこれを取り
去つた後、面内配向磁場を印加しているため、配
向度が非常に良くなり、従つて磁気特性が大幅に
向上される利点を有している。
第１図Ａ，Ｂは本発明の一実施例装置の立面
図、平面図、第２図Ａ，Ｂ，Ｃは上記実施例の作
用を説明する図、第３図は製造された磁性層の磁
気特性図である。 １…デイスク基板、２…回転軸、３…第１の磁
化装置、４…第２の磁化装置、５…磁性材料、６
…磁性塗膜。
図、平面図、第２図Ａ，Ｂ，Ｃは上記実施例の作
用を説明する図、第３図は製造された磁性層の磁
気特性図である。 １…デイスク基板、２…回転軸、３…第１の磁
化装置、４…第２の磁化装置、５…磁性材料、６
…磁性塗膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 磁気異方性を有する磁性粒子を含む磁性層を
デイスク基板上に形成し、次いで、形成した磁性
層中の磁性粒子をデイスク基板面に平行でかつ該
デイスクの接線方向に平行に配向させる磁気デイ
スクの製造方法において、 面内配向磁場の影響を受けない場所で、前記デ
イスク基板の両面に近接し前記デイスク基板を挟
んで配置された少なくとも１対の異極間磁石から
なる垂直磁場発生手段により前記磁性層に垂直磁
場を印加し、前記磁性層中の前記磁性粒子を一旦
垂直方向に配向する第１の工程、 前記垂直方向に配向された磁性粒子を前記垂直
磁場から遠ざけて該磁性粒子を水平方向に整位せ
しめる第２の工程、 前記デイスク基板の上下面に対向して配置され
た少なくとも２対の磁石によつて発生された面内
配向磁場を印加して前記水平方向に整位された磁
性粒子をさらに印加磁束方向に配向させる第３の
工程を具備し、前記第１から第３の工程のうちの
任意の工程から開始し、前記順序で複数回繰り返
すことを特徴とする磁気デイスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7447877A JPS549905A (en) | 1977-06-24 | 1977-06-24 | Production of magnetic discs |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7447877A JPS549905A (en) | 1977-06-24 | 1977-06-24 | Production of magnetic discs |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS549905A JPS549905A (en) | 1979-01-25 |
| JPS6329335B2 true JPS6329335B2 (ja) | 1988-06-13 |
Family
ID=13548410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7447877A Granted JPS549905A (en) | 1977-06-24 | 1977-06-24 | Production of magnetic discs |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS549905A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5812138A (ja) * | 1981-07-13 | 1983-01-24 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| DE3308052A1 (de) * | 1983-03-08 | 1984-09-13 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung eines magnetischen aufzeichnungsmaterials mit senkrechtausrichtung |
| JPS61187125A (ja) * | 1985-02-14 | 1986-08-20 | Hitachi Ltd | 磁気デイスクの磁場配向方法 |
| EP0203002B1 (en) * | 1985-05-20 | 1992-01-15 | Fujitsu Limited | Longitudinal magnetic coated recording medium |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS555176B2 (ja) * | 1973-08-25 | 1980-02-04 | ||
| JPS531508A (en) * | 1976-06-28 | 1978-01-09 | Nec Corp | Preparation of magnetic recording medium and device therefor |
-
1977
- 1977-06-24 JP JP7447877A patent/JPS549905A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS549905A (en) | 1979-01-25 |
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