JPS63293379A - 減圧器 - Google Patents
減圧器Info
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- JPS63293379A JPS63293379A JP63111734A JP11173488A JPS63293379A JP S63293379 A JPS63293379 A JP S63293379A JP 63111734 A JP63111734 A JP 63111734A JP 11173488 A JP11173488 A JP 11173488A JP S63293379 A JPS63293379 A JP S63293379A
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- pressure reducer
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- B01D—SEPARATION
- B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
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- B01D—SEPARATION
- B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
- B01D46/42—Auxiliary equipment or operation thereof
- B01D46/4272—Special valve constructions adapted to filters or filter elements
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
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- F17C13/04—Arrangement or mounting of valves
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01D—SEPARATION
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- B01D2271/02—Gaskets, sealings
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- B01D2279/35—Filters adapted for separating dispersed particles from gases or vapours specially modified for specific uses for venting arrangements
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- F17C2205/03—Fluid connections, filters, valves, closure means or other attachments
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- Y10T137/7722—Line condition change responsive valves
- Y10T137/7781—With separate connected fluid reactor surface
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は入口、減圧装置および低圧出口を有する最終段
階を備えた型の純粋ガス用減圧器に関するものである。
階を備えた型の純粋ガス用減圧器に関するものである。
微粒子含有量を最小にする必要のある純粋ガスの使用に
対して、通常使用場所の上流に設置されたフィルタ装置
(予備フィルタ)が使用される。しかしながら、ある分
野とくに電子技術の分野において、純粋ガスを供給され
る設備の信頼性を改善する“清浄管”(設備および管系
)を利用することが必要である。このガスは弁を備えた
圧縮ガスシリンダから供給される。減圧器がそのような
シリンダの出口に連結され、シリンダに収容されたガス
の圧力を予定の利用装置に適した低圧レヘルに減圧する
。さて、そのようなシリンダから流出するガス流によっ
て運ばれる固体微粒子の数は多くかつ制御するのが困難
であり、したがってこれらの微粒子のほとんどすべてを
濾過しうる減圧器を利用することが望ましい。
対して、通常使用場所の上流に設置されたフィルタ装置
(予備フィルタ)が使用される。しかしながら、ある分
野とくに電子技術の分野において、純粋ガスを供給され
る設備の信頼性を改善する“清浄管”(設備および管系
)を利用することが必要である。このガスは弁を備えた
圧縮ガスシリンダから供給される。減圧器がそのような
シリンダの出口に連結され、シリンダに収容されたガス
の圧力を予定の利用装置に適した低圧レヘルに減圧する
。さて、そのようなシリンダから流出するガス流によっ
て運ばれる固体微粒子の数は多くかつ制御するのが困難
であり、したがってこれらの微粒子のほとんどすべてを
濾過しうる減圧器を利用することが望ましい。
本発明の目的はきわめて低い濾過限界を達成するとくに
簡単な構造の減圧器を得ることにある。
簡単な構造の減圧器を得ることにある。
したがって本発明は、減圧Vt fと低圧出口との間に
介装された1ミクロン以下の濾過限界を存するフィルタ
を備えた、前記型の減圧器を提供するものである。
介装された1ミクロン以下の濾過限界を存するフィルタ
を備えた、前記型の減圧器を提供するものである。
フィルタの下流側は一方では低圧出口に、また他方では
圧力計に連結された管に連通ずるのが有利である。
圧力計に連結された管に連通ずるのが有利である。
フィルタは支持グリルと背圧グリルとの間に挟持された
ダイヤフラムまたはセラミック管の型式に構成すること
ができる。
ダイヤフラムまたはセラミック管の型式に構成すること
ができる。
以下、本発明の二つの実施例を非限定的実施例として図
面を参照して説明する。
面を参照して説明する。
第1図および第2図には、高圧ガスたとえば最初の圧力
が200バールの窒素のシリンダから供給される二段減
圧器の第2段を示す。
が200バールの窒素のシリンダから供給される二段減
圧器の第2段を示す。
図示しない減圧器の第1段は通常の構造で、入口および
出口に一つ以上の予備フィルタ備え、第1段減圧器は第
2段の入口1に中圧の、たとえば数十バールのガスを供
給する。第2段の作用はガス圧力を中圧からふたたび減
圧して、たとえば数バール程度の所要の低い利用圧力の
、はとんど微粒子のないガスを出口2に供給することで
ある。
出口に一つ以上の予備フィルタ備え、第1段減圧器は第
2段の入口1に中圧の、たとえば数十バールのガスを供
給する。第2段の作用はガス圧力を中圧からふたたび減
圧して、たとえば数バール程度の所要の低い利用圧力の
、はとんど微粒子のないガスを出口2に供給することで
ある。
出口2は(図示しない)利用場所に達する(図示しない
)清浄ガス管に連結されている。
)清浄ガス管に連結されている。
垂直となしうる軸線X−Xを有する、第2段減圧器は、
水平な底壁5を有する円筒形凹所4を有する本体3を備
えている。
水平な底壁5を有する円筒形凹所4を有する本体3を備
えている。
入口1を有するノズル6は底壁5から突出している。二
つの導管、すなわち出口2および低圧圧力計に達する導
管7は、ノズル6の底部に近い底壁5に設けられている
。
つの導管、すなわち出口2および低圧圧力計に達する導
管7は、ノズル6の底部に近い底壁5に設けられている
。
プラグ8は環状シール要素9を介して、ノズル6の出口
に螺着されている。このプラグは中心孔を有し、その中
に案内10が設置されロッド11を自由に摺動させるよ
うになっている。周囲にスプラインを設けられノズル入
口1によって案内される弁12は、ばね13の作用によ
って偏倚されプラグ8の下面に密封係合する。
に螺着されている。このプラグは中心孔を有し、その中
に案内10が設置されロッド11を自由に摺動させるよ
うになっている。周囲にスプラインを設けられノズル入
口1によって案内される弁12は、ばね13の作用によ
って偏倚されプラグ8の下面に密封係合する。
第2図に一層明瞭に示すように、三つのワッシャすなわ
ち、背圧グリル14、ポリマたとえばテフロン(商品名
)のフィルタダイヤフラム15および支持グリル16が
底壁5に積層され、ノズル6から凹所4に側壁まで延び
ている。テフロンバンド17がグリル16の外周に設け
られ、好ましくは、テフロンの他のバンド18が図示の
ようにこのグリルの内周部分に設置されている。環状シ
ール要素19.20は、各バンド17.18に対して環
状部材21.22によってそれぞれ押付けられている。
ち、背圧グリル14、ポリマたとえばテフロン(商品名
)のフィルタダイヤフラム15および支持グリル16が
底壁5に積層され、ノズル6から凹所4に側壁まで延び
ている。テフロンバンド17がグリル16の外周に設け
られ、好ましくは、テフロンの他のバンド18が図示の
ようにこのグリルの内周部分に設置されている。環状シ
ール要素19.20は、各バンド17.18に対して環
状部材21.22によってそれぞれ押付けられている。
外側部材21は、凹所4に螺着された管状ナツト23に
よって所定位置に保持されかつノズル6上方に内側肩部
24を有するリングである。リング21の内周部分には
ベロー25の下端が固定され、ベロー25上端はカバー
26によって閉鎖され、カバー26ばばね28によって
下方に偏倚されるワッシャ27を担持している。
よって所定位置に保持されかつノズル6上方に内側肩部
24を有するリングである。リング21の内周部分には
ベロー25の下端が固定され、ベロー25上端はカバー
26によって閉鎖され、カバー26ばばね28によって
下方に偏倚されるワッシャ27を担持している。
内側部材22は、ノズル6上に取付けられかつプラグ8
の周辺部分によって所定位置に保持されるスリーブであ
る。
の周辺部分によって所定位置に保持されるスリーブであ
る。
作用において、ヘロー内に存在する低い圧力が十分大き
いならばワッシャ27は図示のように肩27に押付けら
れ、ロッド11は自由である。弁12は閉鎖される。こ
の圧力が設定値以下に下ると、ばね28は打克ち、カバ
ー26は下降し、ロッド11を下方に押し、ロッド11
は弁12を開く。導管1を通って入ってくる中圧ガスは
、出口2にそして圧力計導管7に、ベローの内部案内を
通り、そしてフィルタダイヤフラムを通った後、同じ調
整された低い利用圧力で供給される。
いならばワッシャ27は図示のように肩27に押付けら
れ、ロッド11は自由である。弁12は閉鎖される。こ
の圧力が設定値以下に下ると、ばね28は打克ち、カバ
ー26は下降し、ロッド11を下方に押し、ロッド11
は弁12を開く。導管1を通って入ってくる中圧ガスは
、出口2にそして圧力計導管7に、ベローの内部案内を
通り、そしてフィルタダイヤフラムを通った後、同じ調
整された低い利用圧力で供給される。
通常約0.1 ミクロンの濾過限界を有するダイヤフ
ラム15が存在するため、流出ガスにはは\微粒子が存
在しない。
ラム15が存在するため、流出ガスにはは\微粒子が存
在しない。
一点鎖線7Aで示されたような変型として、導管2およ
び/または7は、ダイヤフラム15の有効断面を増加す
るため、底壁5の範囲において拡大される。しかしなが
らこの拡大は、ダイヤフラム支持が弱体化するため制限
される。
び/または7は、ダイヤフラム15の有効断面を増加す
るため、底壁5の範囲において拡大される。しかしなが
らこの拡大は、ダイヤフラム支持が弱体化するため制限
される。
第3図に示す実施例は第1図および第2図に示す実施例
と全体的に同じであるが、要素14ないし18.20お
よび22が除去されリング21が直接底壁5に対して接
触し、プラグ8が広くかつ周囲に凹所29を有し、約0
.1 ミクロンの濾過限界を有するセラミックの管状部
分30が凹所29に整合し、導管2および7外側の底壁
5に接触することにおいて相違している。平らなシール
ガスケット31がフィルタ30の端部に設けられ、好ま
しくは、このフィルタの端部区域は多孔性をなくレジた
がって良いシールをうるため接着されている。
と全体的に同じであるが、要素14ないし18.20お
よび22が除去されリング21が直接底壁5に対して接
触し、プラグ8が広くかつ周囲に凹所29を有し、約0
.1 ミクロンの濾過限界を有するセラミックの管状部
分30が凹所29に整合し、導管2および7外側の底壁
5に接触することにおいて相違している。平らなシール
ガスケット31がフィルタ30の端部に設けられ、好ま
しくは、このフィルタの端部区域は多孔性をなくレジた
がって良いシールをうるため接着されている。
使用中、中圧ガスは前記のようにベローの内部空間にお
いてその圧力を減圧され、ついでフィルタ30を通って
外部から内部に流れ、利用圧力と同じ低圧でほとんど微
粒子なしに導管2および7に到達する。
いてその圧力を減圧され、ついでフィルタ30を通って
外部から内部に流れ、利用圧力と同じ低圧でほとんど微
粒子なしに導管2および7に到達する。
第1図は本発明による減圧器最終段の部分軸方向断面回
。 第2図は第1図の一点鎖線包囲部分Hの拡大図。 第3図は本発明による減圧器の別の実施例の図。 1−入口、2−出口、3−・一本体、4聞円筒形凹所、
5−底壁、6−・・ノズル、7聞−圧力計導管。 8・・−プラグ、9・・−環状シール要素、10−案内
。 ii−ロッド、12−・−弁、13− ばね、 14
−−背圧グリル、 15− フィルタダイヤフラム
。 16−・・−支持グリル、 17 、 ’18.−
バンド、19゜20・−シール要素、 21. 22
−リング、23−・−管状ナット、24−・・−肩部、
25−曲ベロー。 27−・・ワッシャ、26曲カバー、28凹ばね。 29−・・・凹所、3o−・・−フィルタ、31−・・
−シールガスケット
。 第2図は第1図の一点鎖線包囲部分Hの拡大図。 第3図は本発明による減圧器の別の実施例の図。 1−入口、2−出口、3−・一本体、4聞円筒形凹所、
5−底壁、6−・・ノズル、7聞−圧力計導管。 8・・−プラグ、9・・−環状シール要素、10−案内
。 ii−ロッド、12−・−弁、13− ばね、 14
−−背圧グリル、 15− フィルタダイヤフラム
。 16−・・−支持グリル、 17 、 ’18.−
バンド、19゜20・−シール要素、 21. 22
−リング、23−・−管状ナット、24−・・−肩部、
25−曲ベロー。 27−・・ワッシャ、26曲カバー、28凹ばね。 29−・・・凹所、3o−・・−フィルタ、31−・・
−シールガスケット
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、入口、減圧装置および低圧出口を有する最終段階を
備えた型の減圧器において、前記減圧器が減圧装置と低
圧出口との間に介装された1ミクロン以下の濾過限界を
有するフィルタをさらに備えた、減圧器。 2、フィルタが0.1ミクロン程度の濾過限界を有する
、請求項1記載の減圧器。 3、フィルタが支持グリルと背圧グリルとの間に挟持さ
れたダイヤフラムの型式に構成された、請求項1記載の
減圧器。 4、フィルタがセラミック管の型式に構成された、請求
項1または2記載の減圧器。 5、セラミックのフィルタ管がベロー内側に設けられ、
減圧器本体の軸方向管状部分を包囲し、該減圧器本体の
軸方向管状部分が前記入口を形成し、減圧弁を有しかつ
前記管状部分によつて低圧出口と連通する環状空間を形
成する、請求項4記載の減圧器。 6、フィルタの下流側が、一方では低圧出口にまた他方
では圧力計に連結された導管に連通する、請求項1ない
し5のいずれか1項記載の減圧器。 7、予備フィルタ装置を有する第1減圧段階を備えた請
求項1ないし6のいずれか1項記載の減圧器。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8706815 | 1987-05-15 | ||
| FR8706815A FR2615270B1 (fr) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | Detendeur pour gaz purs |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63293379A true JPS63293379A (ja) | 1988-11-30 |
Family
ID=9351116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63111734A Pending JPS63293379A (ja) | 1987-05-15 | 1988-05-10 | 減圧器 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4836242A (ja) |
| EP (1) | EP0291399A1 (ja) |
| JP (1) | JPS63293379A (ja) |
| KR (1) | KR880014303A (ja) |
| FR (1) | FR2615270B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0229365U (ja) * | 1988-08-13 | 1990-02-26 |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| GB9220975D0 (en) | 1992-10-06 | 1992-11-18 | Air Prod & Chem | Apparatus for supplying high purity gas |
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| US5680883A (en) * | 1996-04-24 | 1997-10-28 | Eaton Corporation | Manifold and valve assembly and filter/gasket therefor |
| US6620256B1 (en) | 1998-04-28 | 2003-09-16 | Advanced Technology Materials, Inc. | Non-plasma in-situ cleaning of processing chambers using static flow methods |
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| US6101816A (en) * | 1998-04-28 | 2000-08-15 | Advanced Technology Materials, Inc. | Fluid storage and dispensing system |
| US6360546B1 (en) | 2000-08-10 | 2002-03-26 | Advanced Technology Materials, Inc. | Fluid storage and dispensing system featuring externally adjustable regulator assembly for high flow dispensing |
| US6857447B2 (en) * | 2002-06-10 | 2005-02-22 | Advanced Technology Materials, Inc. | Pressure-based gas delivery system and method for reducing risks associated with storage and delivery of high pressure gases |
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| CN1295467C (zh) * | 2004-02-13 | 2007-01-17 | 中国科学院理化技术研究所 | 一种压差控制自适应节流膨胀阀 |
| US20090242043A1 (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-01 | Gm Global Technology Operations, Inc. | Hydrogen supply pressure regulator |
| FI20095649A7 (fi) * | 2009-06-10 | 2010-12-11 | Temet Oy | Paineenalennin ja suodatin, jossa on paineenalennin |
| KR102408666B1 (ko) * | 2014-10-03 | 2022-06-13 | 엔테그리스, 아이엔씨. | 압력-조절 가스 공급 용기 |
| CN114151733B (zh) * | 2021-11-16 | 2024-06-04 | 瑞星久宇燃气设备(成都)有限公司 | 一种直埋式地下调压箱 |
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