JPS63297202A - オゾン発生方法およびその装置 - Google Patents
オゾン発生方法およびその装置Info
- Publication number
- JPS63297202A JPS63297202A JP13566187A JP13566187A JPS63297202A JP S63297202 A JPS63297202 A JP S63297202A JP 13566187 A JP13566187 A JP 13566187A JP 13566187 A JP13566187 A JP 13566187A JP S63297202 A JPS63297202 A JP S63297202A
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- JP
- Japan
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- ozone
- oxygen
- mixed gas
- outlet
- ozonizer
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B13/00—Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
- C01B13/10—Preparation of ozone
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は、高濃度のオゾン発生装置に関する。
（従来の技術）
一般に、無声放電によるエネルギーや水銀放電管から放
出される紫外線の光子エネルギーによって酸素分子の一
部が解離して原子状酸素となり、この原子状酸素が酸素
分子と結合して酸素３原子のオゾンが発生する。
出される紫外線の光子エネルギーによって酸素分子の一
部が解離して原子状酸素となり、この原子状酸素が酸素
分子と結合して酸素３原子のオゾンが発生する。
そして、上記オゾン発生装置例として、例えば特開昭５
３−３９８８号公報にて開示された装置がある。
３−３９８８号公報にて開示された装置がある。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、上述の従来のオゾン発生装置においては
オゾン発生効率が良好とは言い彊＜、□ある程度以上の
オゾン濃度になると、オゾンの生成効率が急激に低下す
る。
オゾン発生効率が良好とは言い彊＜、□ある程度以上の
オゾン濃度になると、オゾンの生成効率が急激に低下す
る。
すなわち、酸素分子と原子状酸素とからオゾンが生成さ
れると共に、オゾンから酸素分子と原子状酸素へと分解
するのも顕著となり、ある濃度になれば飽和状態を呈し
、高濃度のオゾン生成は困難となる。
れると共に、オゾンから酸素分子と原子状酸素へと分解
するのも顕著となり、ある濃度になれば飽和状態を呈し
、高濃度のオゾン生成は困難となる。
本発明は、上述の従来の事情に対処してなされたもので
、生成されたオゾンと酸素とを分離し、高濃度のオゾン
を提供しようとするものである。
、生成されたオゾンと酸素とを分離し、高濃度のオゾン
を提供しようとするものである。
（問題点を解決するための手段）
すなわち本発明は、オゾンと酸素の混合ガスから上記オ
ゾンと上記酸素とを分離し、上記オゾンを濃縮する手段
を備えたことを特徴とする特（作 用） 本発明のオゾン発生装置では、生成したオゾンと酸素の
混合ガスを例えばジェット分離器で処理することにより
、質量の異なるオゾン（ｏ３）と酸素（０□）とを分離
し、濃縮された高濃度オゾンを得ることができる。
ゾンと上記酸素とを分離し、上記オゾンを濃縮する手段
を備えたことを特徴とする特（作 用） 本発明のオゾン発生装置では、生成したオゾンと酸素の
混合ガスを例えばジェット分離器で処理することにより
、質量の異なるオゾン（ｏ３）と酸素（０□）とを分離
し、濃縮された高濃度オゾンを得ることができる。
したがって、本発明オゾン発生装置をオゾンによる処理
装置、例えばアッシング装置等に利用することによりア
ッシング効果を高めることも可能となる。
装置、例えばアッシング装置等に利用することによりア
ッシング効果を高めることも可能となる。
（実施例）
以下５本発明オゾン発生装置および上記オゾン発生装置
をアッシング装置に利用した実施例について、図面を参
照して説明する。
をアッシング装置に利用した実施例について、図面を参
照して説明する。
第１図に示すように、本発明オゾン発生装置上は概略オ
ゾン発生器２、ジェット分離器からなるオゾン濃縮器３
とから構成されている。
ゾン発生器２、ジェット分離器からなるオゾン濃縮器３
とから構成されている。
そして、酸素供給源４がら供給される酸素ガスを供給口
５から取り入れ、オゾン発生器２でオゾンを発生させて
オゾン濃縮器３の流入口６ヘオゾンと酸素の混合ガスを
送る。オゾン濃縮器３に流入した上記混合ガスは、この
オゾン濃縮器３の分離作用により、オゾンと酸素に分離
され、オゾンはオゾン流出ロアから流出し、一方酸素は
酸素流出口８に接続された帰還路９を通り、オゾン発生
器２の供給口１０に入る。そして再びオゾン発生器２に
よりオゾン化される。
５から取り入れ、オゾン発生器２でオゾンを発生させて
オゾン濃縮器３の流入口６ヘオゾンと酸素の混合ガスを
送る。オゾン濃縮器３に流入した上記混合ガスは、この
オゾン濃縮器３の分離作用により、オゾンと酸素に分離
され、オゾンはオゾン流出ロアから流出し、一方酸素は
酸素流出口８に接続された帰還路９を通り、オゾン発生
器２の供給口１０に入る。そして再びオゾン発生器２に
よりオゾン化される。
ここで、オゾン濃縮器３について詳述する。第２図にお
いて、オゾン濃縮器３の流入口６がらオゾンと酸素の混
合ガスを供給すると、この混合ガスはノズル１１を通り
、曲面壁１２に沿って進行する。
いて、オゾン濃縮器３の流入口６がらオゾンと酸素の混
合ガスを供給すると、この混合ガスはノズル１１を通り
、曲面壁１２に沿って進行する。
そして、進行しながら圧カ１５０〜６００Ｔｏｒｒ程度
まで膨張させると、分離隔壁１３を境に曲面壁１２の中
心側の流出ロアがらオゾンが、曲面壁１２の外周側の流
出口８から酸素が分離流出する。分離が生ずる理由は、
流れる方向に垂直に作用する圧力拡散成分によるもので
あり、圧力勾配は遠心力と釣合うので質量の異なるもの
は分離される。
まで膨張させると、分離隔壁１３を境に曲面壁１２の中
心側の流出ロアがらオゾンが、曲面壁１２の外周側の流
出口８から酸素が分離流出する。分離が生ずる理由は、
流れる方向に垂直に作用する圧力拡散成分によるもので
あり、圧力勾配は遠心力と釣合うので質量の異なるもの
は分離される。
つまり、オゾンと酸素の場合、オゾンは酸素より重いの
で遠心力がより大きく圧力勾配がより大きく作用するの
で曲壁面１２の中心側に大きく曲げられ、酸素はオゾン
に比べて軽いのであまり曲げられない。したがって、分
離隔壁１３によりオゾンと酸素を分離することができる
。
で遠心力がより大きく圧力勾配がより大きく作用するの
で曲壁面１２の中心側に大きく曲げられ、酸素はオゾン
に比べて軽いのであまり曲げられない。したがって、分
離隔壁１３によりオゾンと酸素を分離することができる
。
次に、上述のオゾン濃縮装置をアッシング装置に利用し
た一実施例について説明する。
た一実施例について説明する。
第３図において、処理室３１内に設けられた載置台３２
に被処理基板例えば半導体ウェハ３３を載置し、昇降装
置３４により半導体ウェハ３３を位置決めすると共に、
ヒータ３５を温度制御装置３６により温度制御して半導
体ウェハ３３を例えば１５０〜５００’Ｃ程度の範囲に
加熱する。
に被処理基板例えば半導体ウェハ３３を載置し、昇降装
置３４により半導体ウェハ３３を位置決めすると共に、
ヒータ３５を温度制御装置３６により温度制御して半導
体ウェハ３３を例えば１５０〜５００’Ｃ程度の範囲に
加熱する。
一方、酸素供給源４がら酸素ガスをオゾン発生装置上に
供給し、発生する高濃度のオゾンを含むガスをガス流量
、調節器３７で流量調節して、コーン部３８、このコー
ン部３８の開口部に設けられたガス流出板３９等から構
成されるガス流出部赳に流出させる。
供給し、発生する高濃度のオゾンを含むガスをガス流量
、調節器３７で流量調節して、コーン部３８、このコー
ン部３８の開口部に設けられたガス流出板３９等から構
成されるガス流出部赳に流出させる。
ここで、オゾンを含むアッシングガスは、ガス流出板３
９に設けられた流出口４１がら半導体ウェハ３３に向っ
て流出し、半導体ウェハ３３をアッシング処理する。ア
ッシング処理により生成した排ガスは、載置台３２を囲
むように設けられた排気口４２がら吸引され排気装置４
３により排気される。
９に設けられた流出口４１がら半導体ウェハ３３に向っ
て流出し、半導体ウェハ３３をアッシング処理する。ア
ッシング処理により生成した排ガスは、載置台３２を囲
むように設けられた排気口４２がら吸引され排気装置４
３により排気される。
なお、オゾンは温度が高いと寿命が急激に短かくなるの
で、コーン部３８を取巻く冷却管４４に冷却装置４５か
らの冷却水等を循環させて、コーン部３８を例゛えば２
５℃程度以下に冷却する。
で、コーン部３８を取巻く冷却管４４に冷却装置４５か
らの冷却水等を循環させて、コーン部３８を例゛えば２
５℃程度以下に冷却する。
上記構成のアッシング装置では、高濃度のオゾンを利用
できるので効率のよいアッシング処理ができることは言
うまでもない。
できるので効率のよいアッシング処理ができることは言
うまでもない。
上述のように、本発明のオゾン濃縮装置によれば、高１
度のオゾンを含むガスを得ることができる。また、オゾ
ンを利用する装置に付加使用することにより、その装置
の能力アップ等も可能となる。
度のオゾンを含むガスを得ることができる。また、オゾ
ンを利用する装置に付加使用することにより、その装置
の能力アップ等も可能となる。
第１図は、本発明オゾン発生装置の一実施例の構成図、
第２図は第１図の主要部の説明図、第３図は第１図をア
ッシング装置に利用した一実施例である。 よ・・・オゾン発生装置、 ３・・・オゾン濃縮器、７
・・・オゾン流出口、 ８・・・酸素流出口、９・
・・帰還路、 １１・・・ノズル、１２・・・
曲面壁、 １３・・・分離隔壁。 特許出願人 東京エレクトロン株式会社第１図 第２図 （ｌ ／
第２図は第１図の主要部の説明図、第３図は第１図をア
ッシング装置に利用した一実施例である。 よ・・・オゾン発生装置、 ３・・・オゾン濃縮器、７
・・・オゾン流出口、 ８・・・酸素流出口、９・
・・帰還路、 １１・・・ノズル、１２・・・
曲面壁、 １３・・・分離隔壁。 特許出願人 東京エレクトロン株式会社第１図 第２図 （ｌ ／
Claims (2)
- （１）オゾンと酸素の混合ガスから上記オゾンと上記酸
素とを分離し、上記オゾンを濃縮する手段を備えたこと
を特徴とするオゾン発生装置。 - （２）オゾンを濃縮する手段は、ジェット分離器を利用
することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のオゾ
ン発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13566187A JPS63297202A (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | オゾン発生方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13566187A JPS63297202A (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | オゾン発生方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63297202A true JPS63297202A (ja) | 1988-12-05 |
Family
ID=15156983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13566187A Pending JPS63297202A (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | オゾン発生方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63297202A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2310109A4 (en) * | 2008-07-14 | 2012-03-28 | Tenoroc Llc | AERODYNAMIC TRUNK NOZZLE |
| JP2016139462A (ja) * | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 株式会社オーク製作所 | エキシマランプ装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5044973A (ja) * | 1973-08-01 | 1975-04-22 | ||
| JPS5334693A (en) * | 1976-09-13 | 1978-03-31 | Osaka Gas Co Ltd | Ozone generating apparatus |
| JPS5481192A (en) * | 1977-12-13 | 1979-06-28 | Mitsubishi Electric Corp | Ozone generator |
-
1987
- 1987-05-29 JP JP13566187A patent/JPS63297202A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5044973A (ja) * | 1973-08-01 | 1975-04-22 | ||
| JPS5334693A (en) * | 1976-09-13 | 1978-03-31 | Osaka Gas Co Ltd | Ozone generating apparatus |
| JPS5481192A (en) * | 1977-12-13 | 1979-06-28 | Mitsubishi Electric Corp | Ozone generator |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2310109A4 (en) * | 2008-07-14 | 2012-03-28 | Tenoroc Llc | AERODYNAMIC TRUNK NOZZLE |
| JP2016139462A (ja) * | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 株式会社オーク製作所 | エキシマランプ装置 |
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