JPS63300940A - 粒子解析装置 - Google Patents
粒子解析装置Info
- Publication number
- JPS63300940A JPS63300940A JP62135638A JP13563887A JPS63300940A JP S63300940 A JPS63300940 A JP S63300940A JP 62135638 A JP62135638 A JP 62135638A JP 13563887 A JP13563887 A JP 13563887A JP S63300940 A JPS63300940 A JP S63300940A
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- Japan
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- light
- photoelectric detector
- scattered
- particles
- detector
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- Pending
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、フローサイトメータ等に用いられ、検体粒子
による散乱光及び蛍光を検出することによって検体粒子
の性質を解析する粒子解析装置に関するものである。
による散乱光及び蛍光を検出することによって検体粒子
の性質を解析する粒子解析装置に関するものである。
［従来の技術］
フローサイトメータとは、高速で流れる細胞浮遊溶液、
即ちサンプル液に例えばレーザー光を照射し、その散乱
光・蛍光による光電信号を検出し、細胞の性質・構造を
解明する装置であり、細胞化学、免疫学、血液学、腫瘍
学、遺伝学等の分野で使用されている。
即ちサンプル液に例えばレーザー光を照射し、その散乱
光・蛍光による光電信号を検出し、細胞の性質・構造を
解明する装置であり、細胞化学、免疫学、血液学、腫瘍
学、遺伝学等の分野で使用されている。
このフローサイトメータ等に用いられる従来の粒子解析
装置では、フローセルの中央部の例えば２００ ｇｍＸ
２００ルｍの・微小な矩形断面を有する流通部内を、
シース液に包まれて通過する血球細胞などの被検粒子に
レーザー光等の照射光を照射し、その結果として生ずる
前方及び側方散乱光により、被検粒子の形状・大きさ・
屈折率等の粒子的性質を得ることが可使である。また、
蛍光剤により染色され得る被検粒子に対しては、照射光
とほぼ直角方向の側方散乱光から被検粒子の蛍光を検出
することにより、被検粒子を解析するための重要な情報
を求めることができる。
装置では、フローセルの中央部の例えば２００ ｇｍＸ
２００ルｍの・微小な矩形断面を有する流通部内を、
シース液に包まれて通過する血球細胞などの被検粒子に
レーザー光等の照射光を照射し、その結果として生ずる
前方及び側方散乱光により、被検粒子の形状・大きさ・
屈折率等の粒子的性質を得ることが可使である。また、
蛍光剤により染色され得る被検粒子に対しては、照射光
とほぼ直角方向の側方散乱光から被検粒子の蛍光を検出
することにより、被検粒子を解析するための重要な情報
を求めることができる。
第２図は従来の粒子解析装置の構成図であり、レーザー
光源１から光軸Ｏに沿って、結像光学系２、フローセル
３、遮光板４、集光レンズ５、光電検出器６が順次に配
置されており、フローセル３の中央部に設けられた流通
部３ａには、紙面に対して垂直な方向に被検粒子が流れ
ている。また、結像光学系２は例えば２個のシリンドリ
カルレンズの軸を互いに直交に配置した光学系とされて
いる。
光源１から光軸Ｏに沿って、結像光学系２、フローセル
３、遮光板４、集光レンズ５、光電検出器６が順次に配
置されており、フローセル３の中央部に設けられた流通
部３ａには、紙面に対して垂直な方向に被検粒子が流れ
ている。また、結像光学系２は例えば２個のシリンドリ
カルレンズの軸を互いに直交に配置した光学系とされて
いる。
レーザー光源ｌから出射するレーザー光束りは、結像光
学系２において任意の長径拳短径を有する楕円形のビー
ムに形成され、フローセル３の流通部３ａを流れる被検
粒子に照射される。被検粒子によって散乱されないレー
ザー光束りは、遮光板４によって遮光され、被検粒子に
よる散乱光は集光レンズ５を介して光電検出器６に入射
し、光強度に応じた電気信号に変換される。
学系２において任意の長径拳短径を有する楕円形のビー
ムに形成され、フローセル３の流通部３ａを流れる被検
粒子に照射される。被検粒子によって散乱されないレー
ザー光束りは、遮光板４によって遮光され、被検粒子に
よる散乱光は集光レンズ５を介して光電検出器６に入射
し、光強度に応じた電気信号に変換される。
一般に、前方散乱光の強度は被検粒子の径に比例してい
るので、得られた光強度から被検粒子の径を算出するこ
とが可能であるが、同時に径の大き過ぎる被検粒子を４
１確定する際には、光電検出器６の出力が飽和し測定不
能となる問題点がある。
るので、得られた光強度から被検粒子の径を算出するこ
とが可能であるが、同時に径の大き過ぎる被検粒子を４
１確定する際には、光電検出器６の出力が飽和し測定不
能となる問題点がある。
このため従来の粒子解析装置においては、光電検出器日
の出力が飽和しないように光電検出器６の１■■にＮＤ
Ｄフイルタを配置し、光電検出器６への入射光量を調整
しながら測定を行っている。
の出力が飽和しないように光電検出器６の１■■にＮＤ
Ｄフイルタを配置し、光電検出器６への入射光量を調整
しながら測定を行っている。
しかし、この方法では光電検出器６への入射光量を調整
する際に、過大な光量の光束が光電検出器６に入射する
虞れがあり、光電検出器６を損傷しその寿命を早めてし
まうことになる。また、この方法では光電検出器６への
入射光量に合わせてＮＤＤフイルタ交換する必要があり
、誤操作を行う可能性があるばかりでなく、作業能率を
低下させてしまうという欠点がある。
する際に、過大な光量の光束が光電検出器６に入射する
虞れがあり、光電検出器６を損傷しその寿命を早めてし
まうことになる。また、この方法では光電検出器６への
入射光量に合わせてＮＤＤフイルタ交換する必要があり
、誤操作を行う可能性があるばかりでなく、作業能率を
低下させてしまうという欠点がある。
［発明の目的］
本発明の目的は、従来例の欠点を解除し、前方散乱光の
強度に対応して光電検出器に入射する光量を調節するこ
とが可能な粒子解析装置を提供することにある。
強度に対応して光電検出器に入射する光量を調節するこ
とが可能な粒子解析装置を提供することにある。
［発明の概要］
上述の目的を達成するための本発明の要旨は、検体粒子
に光ビームを照射する照射光学系と、検体粒子による散
乱光を検出する光電検出器を含む検出光学系とを有し、
検体粒子による散乱光の強度に応じて前記光電検出器へ
の入射光量を調整する手段を備えたことを特徴とする粒
子解析装置である。
に光ビームを照射する照射光学系と、検体粒子による散
乱光を検出する光電検出器を含む検出光学系とを有し、
検体粒子による散乱光の強度に応じて前記光電検出器へ
の入射光量を調整する手段を備えたことを特徴とする粒
子解析装置である。
［発明の実施例］
本発明を第１図に図示の実施例に基づいて詳細に説明す
る。
る。
第１図は本発明の実施例であり、第２図に示した従来例
と同一符号の部材は同じ部材を示し、同一の機能を有す
るものとする０本実施例においては、第２図に示す従来
例の集光レンズ５と光電検出器６の間の光軸Ｏ上に、斜
めに設けたハーフミラ−７、ＮＤフィルタ板８が配置さ
れ、ハーフミラ−７の反射方向に光電検出器９が設けら
れ、光電検出器９の出力は演算回路１０、駆動回路１１
に順次に接続され、駆動回路１１の出力によりＮＤフィ
ルタ板８を駆動するようになっている。
と同一符号の部材は同じ部材を示し、同一の機能を有す
るものとする０本実施例においては、第２図に示す従来
例の集光レンズ５と光電検出器６の間の光軸Ｏ上に、斜
めに設けたハーフミラ−７、ＮＤフィルタ板８が配置さ
れ、ハーフミラ−７の反射方向に光電検出器９が設けら
れ、光電検出器９の出力は演算回路１０、駆動回路１１
に順次に接続され、駆動回路１１の出力によりＮＤフィ
ルタ板８を駆動するようになっている。
ハーフミラ−７は例えば入射光量の５％を反射し、残り
の９５％を透過する特性を有しており、ＮＤフィルタ板
８にはＮＤＤフイルタ取り付けられており、駆動回路１
１により複数のＮＤＤフイルタ内の１個が光軸Ｏ上に移
動される。
の９５％を透過する特性を有しており、ＮＤフィルタ板
８にはＮＤＤフイルタ取り付けられており、駆動回路１
１により複数のＮＤＤフイルタ内の１個が光軸Ｏ上に移
動される。
このように構成された粒子解析装置において、レーザー
光源１から出射されるレーザー光束りは、結像光学系２
を通りフローセル３の流通部３ａを流れる被検粒子に照
射され、被検粒子による前方散乱光は集光レンズ５を介
してハーフミラ−７に入射する。ハーフミラ−７によっ
て反射された散乱光は光電検出器９に入射し、電気信号
に変換された後に演算回路１０に入力される。そして演
算回路１０において、光電検出器９に入射した光量から
ハーフミラ−７を通過する散乱光量を算出して、光電検
出器６が飽和しないようにＮＤフィルタ板板上上複数の
ＮＤＤフイルタ内の１個を選択して駆動回路１１によっ
て光軸Ｏ上に移動する。これにより、光電検出器６が飽
和することなく前方散乱光の強度を測定することが可能
となる。
光源１から出射されるレーザー光束りは、結像光学系２
を通りフローセル３の流通部３ａを流れる被検粒子に照
射され、被検粒子による前方散乱光は集光レンズ５を介
してハーフミラ−７に入射する。ハーフミラ−７によっ
て反射された散乱光は光電検出器９に入射し、電気信号
に変換された後に演算回路１０に入力される。そして演
算回路１０において、光電検出器９に入射した光量から
ハーフミラ−７を通過する散乱光量を算出して、光電検
出器６が飽和しないようにＮＤフィルタ板板上上複数の
ＮＤＤフイルタ内の１個を選択して駆動回路１１によっ
て光軸Ｏ上に移動する。これにより、光電検出器６が飽
和することなく前方散乱光の強度を測定することが可能
となる。
上述した実施例においては、ＮＤフィルタを用いて光電
検出器６への入射光量の調節を行っているが、電気的に
各領域の透過率を可変にすることができる液晶素子を用
いることも可能である。また、前方散乱光の光電検出器
６への入射光量を調節することによって、光電検出器６
が飽和することを防止しているが、側方散乱光について
も同様に光電検出器は飽和する可能性があるので、本発
明を適用することによって同様の効果を得ることができ
る。
検出器６への入射光量の調節を行っているが、電気的に
各領域の透過率を可変にすることができる液晶素子を用
いることも可能である。また、前方散乱光の光電検出器
６への入射光量を調節することによって、光電検出器６
が飽和することを防止しているが、側方散乱光について
も同様に光電検出器は飽和する可能性があるので、本発
明を適用することによって同様の効果を得ることができ
る。
更に、上述した実施例においてはハーフミラ−７とＮＤ
フィルタ板８を集光レンズ５と光電検出器６との間に配
置しているが、フローセル３と光電検出器６の間の光軸
Ｏ上であれば他の位置に配置してもよい、また、ハーフ
ミラ−７、光電検出器９を用いずに、光電検出器６の出
力によって光電検出器６への入射量を制御するようにし
てもよい。
フィルタ板８を集光レンズ５と光電検出器６との間に配
置しているが、フローセル３と光電検出器６の間の光軸
Ｏ上であれば他の位置に配置してもよい、また、ハーフ
ミラ−７、光電検出器９を用いずに、光電検出器６の出
力によって光電検出器６への入射量を制御するようにし
てもよい。
また、実施例は光量調整手段を検出光学系に設けたが、
レーザー光源１を含めた照射光学系に設けてもよい。
レーザー光源１を含めた照射光学系に設けてもよい。
［発明の効果］
以上説明したように本発明に係る粒子解析装置は、光電
検出器への入射光量を調節する手段を設けることによっ
て、光電検出器が飽和することなく、被検粒子による散
乱光の強度を正確に測定できるという効果がある。
検出器への入射光量を調節する手段を設けることによっ
て、光電検出器が飽和することなく、被検粒子による散
乱光の強度を正確に測定できるという効果がある。
図面第１図は本発明に係る粒子解析装置の一実施例の構
成図であり、第２図は従来例の構成図である。 符号ｌはレーザー光源、２は結像光学系、３はフローセ
ル、４は遮光板、５は集光レンズ、６は光電検出器、７
はハーフミラ−１８はＮＤフィルタ板、９は光電検出器
、１０は演算回路、１１は駆動回路である。
成図であり、第２図は従来例の構成図である。 符号ｌはレーザー光源、２は結像光学系、３はフローセ
ル、４は遮光板、５は集光レンズ、６は光電検出器、７
はハーフミラ−１８はＮＤフィルタ板、９は光電検出器
、１０は演算回路、１１は駆動回路である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、検体粒子に光ビームを照射する照射光学系と、検体
粒子による散乱光を検出する光電検出器を含む検出光学
系とを有し、検体粒子による散乱光の強度に応じて前記
光電検出器への入射光量を調整する手段を備えたことを
特徴とする粒子解析装置。 ２、前記光量を調整する手段は光学的フィルタとした特
許請求の範囲第１項に記載の粒子解析装置。 ３、前記光量を調整する手段は液晶素子とした特許請求
の範囲第１項に記載の粒子解析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62135638A JPS63300940A (ja) | 1987-05-30 | 1987-05-30 | 粒子解析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62135638A JPS63300940A (ja) | 1987-05-30 | 1987-05-30 | 粒子解析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63300940A true JPS63300940A (ja) | 1988-12-08 |
Family
ID=15156488
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62135638A Pending JPS63300940A (ja) | 1987-05-30 | 1987-05-30 | 粒子解析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63300940A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008241672A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Sysmex Corp | 分析装置 |
| JP2012108161A (ja) * | 2012-03-09 | 2012-06-07 | Sysmex Corp | 試料分析装置及び試料分析方法 |
-
1987
- 1987-05-30 JP JP62135638A patent/JPS63300940A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008241672A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Sysmex Corp | 分析装置 |
| JP2012108161A (ja) * | 2012-03-09 | 2012-06-07 | Sysmex Corp | 試料分析装置及び試料分析方法 |
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