JPS633009B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕 本発明は特にフオルステライト皮膜の良好な一
方向性電磁鋼板の製造方法に関するものである。 〔従来の技術〕 一方向性電磁鋼板は主にトランス鉄心に用いら
れる軟磁性材料である。この種の鋼板は透磁率を
磁束の流れる方向にのみ著しく高める目的で磁化
容易軸が圧延方向に対し数度の範囲内にそろつた
結晶粒（（110）〔001〕方位粒）により構成され、
また成分的にはSiを含有することにより固有抵抗
を高め、ジユール熱に起因する鉄損を低減してい
る。その表面には鋼板製造過程の脱炭焼鈍時に選
択酸化されたSiO₂とその上に塗布されたMgOと
が仕方焼鈍時に固相反応することにより生じたフ
オルステライト、MgSiO₄、が数μｍの厚さで付
着しており、絶縁皮膜の役目を果たすとともに、
磁区の細分化を行ない。磁気特性的にも重要な役
割りを任つている。通常はさらに張力付加の目的
でコロイダルシリカを主体とした２次皮膜が施さ
れた後、トランス鉄心として利用されている。こ
のような観点からすれば一方向性電磁鋼板は圧延
方向に、（110）〔001〕方位を持つ結晶粒によりお
おわれ、表層部にフオルステライトを主体とする
セラミツクス皮膜及び２次皮膜を有する複合材料
であると言える。 さて、このような一方向性電磁鋼板における
（110）〔001〕方位の高い集積度の達成と、酸化物
系セラミツクスであるところのフオルステライト
皮膜の生成は通常、最終仕上焼鈍と呼ばれるBox
焼鈍中ほぼ時期を同じくして起こる。前者は２次
再結晶と呼ばれる（110）〔001〕方位粒の異常粒
成長、後者は鋼板表面におけるSiO₂−MgO系固
相反応により達成され、この２つの反応は本質的
にまつたく異つた現象であるにもかかわらず、関
接的に干渉しあいながら現実の反応は進行してい
る。 周知のようにフオルステライト、Mg₂SiO₄、
はMgOがMg⁺⁺とO^--の形でSiO₂中に侵入するこ
とにより生成する（G.W.Brindley＆R.Hayami
Phil、Mag.12、505（1965））。方向性電磁鋼板製
造に関する研究分野においては、この反応系に
MnO₂、TiO₂、B₂O₃、CaO、Sr化合物などの物
質が微量存在することにより、生成したフオルス
テライトの性質が変わることが経験的に知られて
いる。例えば特公昭51−12450号公報において
MnO₂の添加が、同51−12451号公報において
TiO₂の添加がそれぞれ開示された。また、特公
昭57−32716号公報、特開昭55−89422号公報及び
特開昭56−75577号公報においてSr化合物のフオ
ルステライト皮膜特性に及ぼす効果が開示され
た。特開昭54−66935号公報ではMgOを主体とし
た焼鈍分離済中に含まれるCaO成分の量に応じて
主に水酸化マグネシウムの形で持ちこまれる水分
量を管理する方法が開示されている。 これらの微量添加物がどのようなメカニズムで
MgO−SiO₂系固相反応の反応メカニズムに影響
を及ぼし、また生成したフオルステライトの結晶
粒度、フオルステライト結晶粒で構成されるいわ
ゆるフオルステライト皮膜と鋼板との密着性など
の諸性質を変化させているかということは現時点
で必ずしも明らかになつていない。しかし、これ
らの物質が共通してMgO、SiO₂、Mg₂SiO₄など
MgO−SiO₂系酸化物の融点を下げる性質を具備
していることから、これらの添加物はMg⁺⁺や
O^--の拡散速度を速める形で反応に寄与している
ものと考えられている。また、場合によつては通
常の方向性電磁鋼板の仕上焼鈍の最高温度1200℃
付近において、一部液相を形成することにより系
の反応速度を著しく高めていると推測されてい
る。 さて、本発明者らは先に、このフオルステライ
ト形成反応時に鋼中のMn活量と雰囲気の酸素分
圧（PH₂O／PH₂で表わす）を制御することによ
り、フオルステライト結晶粒度が小さく、皮膜の
密着性が良好で、皮膜が鋼板に与える張力が従来
の技術によつて得られるもの以上に大きいフオル
ステライト皮膜を形成する方法を開示した（特願
昭59−53819号）。この方法は、焼鈍分離材中に添
加する微量添加物により皮膜の性質向上を図つて
きたこれまでの方法と異なり、鋼中の成分、すな
わちMn活量と外部雰囲気の酸素分圧により皮膜
の特性向上を狙うものである。そのメカニズムの
ポイントはMgO−SiO₂固相反応時に高温酸化に
よりMnOを生成させるところにあると考えられ、
微量添加物の種類が少なくて済む工業的観点から
も従来技術と異つた特徴を持つものといえる。 〔本発明が解決しようとする問題点〕 ところがこの本発明者らにより開示された技術
を10トン、20トンという単重の大きなコイルにお
いて実施する段階で、良好なフオルステライト皮
膜の近傍に、一般にしもふりと呼ばれる地金の露
出した皮膜欠陥部が多発することが判明した。こ
れらの皮膜欠陥は成品外観を悪くするだけでな
く、絶縁特性や鋼板に与える張力の劣化という磁
気特性的にも好ましくない影響を与える。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明の目的は良好なフオルステライト皮膜の
生成を目的とした本発明者らによる特願昭59−
53819号においてその後発生したこれらの問題点
を除去改善し、単重の大きなコイルにおいて良好
なフオルステライト皮膜を形成しうる仕上焼鈍方
法を提供することにある。 すなわち本発明は重量でＣ：0.025％〜0.075
％、Si：3.0％〜4.5％、酸可溶性Al：0.010〜
0.060％、Ｎ：0.0030％〜0.0130％、Ｓ≦0.010％、
およびMnを0.8％≧Mn≧0.05＋７×（Ｓ＋
0.405Se）なる関係を満足する如く含有し、又、
必要によりCr：0.07−0.25％を含有し、残部Feお
よび不可避的不純物からなるスラブから出発し、
通常の方法で一方向性電磁鋼板を作成する方法に
おいて、仕上焼鈍開始から650℃までの温度範囲
の雰囲気の酸素分圧（PH₂O／PH₂）を0.015以下
と限定し、かつ脱炭焼鈍板にマグネシアを主体と
した焼鈍分離剤を塗布する工程において、焼鈍分
離剤をスラリー状にした後、塗布・乾燥する下塗
り塗布量を片面４ｇ／m²以下にし、その上に３〜
６ｇ／m²（片面）のマグネシアを静電塗装するい
わゆる静電塗装法を並用することによりフオルス
テライト皮膜に発生する欠陥を除去する方法を提
供するものである。この方法に加え、仕上焼鈍中
800〜900℃の温度域で鋼板を10〜30時間保定する
ことにより、皮膜欠陥部の除去はより完全とな
り、また800〜900℃の温度域から1100℃までの昇
温時の酸素分圧を鋼中のMn及びＳ、Se量に対し
て特定の範囲に規定することにより皮膜特性が向
上することが明らかとなつた。 以下、本発明を詳細に説明する。 第２図はＣ：0.055％、Si：3.25％、Mn：0.18
％、Ｓ：0.006％、Ｐ：0.02％、Al：0.03％、Ｎ：
0.007％を含有する８cm×８cmの大きさの冷延板
を湿水素雰囲気中で脱炭焼鈍した後、TiO₂を５
重量部含んだマグネシアを主成分とする焼鈍分離
材を片面７ｇ／m²塗布し、仕上焼鈍を行なつた後
得られたフオルステライト皮膜に現れたしもふり
状皮膜欠陥の発生頻度を示したものである。この
実験で仕上焼鈍雰囲気はN₂25％、H₂75％とし、
かつ650℃に至るまでの酸素分圧をパラメータと
して種々の値に設定した。この実験からしもふり
状皮膜欠陥の発生頻度は仕上焼鈍前半の雰囲気の
酸素分圧がPH₂O／PH₂で0.015を越える時に特に
著しいことが判明した。また、鋼中のMn活量の
違う素材について脱炭焼鈍時の露点を変化させて
同様の実験を行なつたところ、この種の皮膜欠陥
はMn活量の高い材料においてその発生頻度が高
く、さらに脱炭焼鈍時の酸素分圧が高い場合に発
生しやすいことがわかつた。 本発明者らはこれらの皮膜欠陥の発生状況を詳
細に調査し、次の結論を得た。すなわち、これら
の皮膜欠陥は1200℃付近の高温焼鈍の際、フオル
ステライトを構成するところのMgOとSiO₂、あ
るいは焼鈍分離材中に意図的に加えられるTiO₂
やＢ、不可避的に混入するNa₂Oなどアルカリあ
るいはアルカリ土類酸化物、そして鋼中成分が高
温酸化することにより生成するFeO、MnO、
Al₂O₃など、これらの複合酸化物系の組成が、共
晶点が1200℃以下の共晶組成を満たしたことによ
り生ずる溶融物形成に起因する。そして仕上焼鈍
前半650℃までの焼鈍雰囲気の酸素分圧の過度の
上昇は（Fe、Mn）Ｏ系の酸化物を過剰に生成
し、これらの酸化物の存在によりフオルステライ
ト生成後も、その複合酸化物系の融点が1200℃以
下となり結果的にしもふり状皮膜欠陥を生成する
との結論に達した。 さて、これらの知見に基づいて本発明者らは仕
上焼鈍雰囲気をPH₂O／PH₂で0.015以下に保つた
状態で10トンコイルで同様の実験を行なつた。し
かしながらその結果、本発明者らは小試料試験に
おいては消滅したしもふり状皮膜欠陥が10トンコ
イル試験では除去されないという新たな問題に直
面した。 この問題を解決するために本発明者らは次のよ
うな考察に基づきひき続き実験を行なつた。焼鈍
分離材の塗布には通常、マグネシアと各種添加物
を純水に溶き、スラリー状懸だく液として鋼板に
塗布・乾燥するという方法がとられる。この際、
マグネシアの水和反応が進み、Mg（OH）₂が一部
形成される。この水和成分が仕上焼鈍中400〜500
℃の温度範囲で放出され、コイル板間の酸素分圧
を上昇させる。コイル外部雰囲気の酸素分圧を
PH₂O／PH₂で0.015以下に制御しても、実際に鋼
板直上の雰囲気の酸素分圧がそのような値になる
まで時間がかかり、結果的にしもふり状皮膜欠陥
を誘発してしまう。第３図にはこのようなコイル
板間の酸素分圧（この場合は水蒸気分圧）の経時
変化をコンピユーターを用いてシミユレーシヨン
した例を示す。このようなコイル板間の酸素分圧
の過度の上昇を押さえるためには、板間に不必要
に持ち込まれる水和成分をできるだけ減らすこ
と、板間のガス通気性を高めることという２つの
方策が基本的に有効である。本発明者らによる特
開昭58−67871号公報において開示されたマグネ
シアを主成分とする懸だく液の塗布後に非水和性
死焼マグネシア粉体を静電的に付着する方法（以
化静電塗装法という）はコイル内に持ち込む水和
成分量を制御するという本目的にかなうものであ
る。第１表に前記外部雰囲気の条件を満足させた
状態でコイル巾１ｍの10トンコイルに通常のマグ
ネシアコーテイング法（塗布量片面７ｇ／m²）及
び静電塗装法（塗布量下塗り片面３ｇ／m²、静電
塗装片面５ｇ）によりマグネシアを塗布し、仕上
焼鈍して得た成品のコイル中央部のしもふり状皮
膜欠陥の発生頻度を示す。このように静電塗装法
を採用することにより、実際のコイルで仕上焼鈍
を行なつても、しもふり状皮膜欠陥の発生を防ぐ
ことが可能となつた。

【表】 以上述べたごとく、静電塗装法の採用によりフ
オルステライト皮膜は安定生成することが明らか
になつたが、さらに工業的には第２表に示すよう
に仕上焼鈍中800〜900℃の温度域において鋼板を
10〜30時間保定することによりフオルステライト
皮膜の欠陥はより確実に減少する。これを次に説
明する。

【表】 第４図にMn：0.2％、Ｓ：0.004％を含む冷延
板をPH₂O／PH₂0.366の雰囲気で脱炭焼鈍したの
ち、TiO₂を５重量部含むマグネシアを塗布仕上
焼鈍した素材の仕上焼鈍中各温度における酸化皮
膜の組成変化をGDS（Glow Discharge Optical
Emission Spectroscopy）で調べた結果を示す。
この図からわかるように800〜900℃の温度域でSi
が表面に集まつてくる。赤外線反射スペクトルを
用い存在形態を調べたところ、これらのSiは
SiO₂として存在することがわかつた。これらの
ことから脱炭焼鈍時に形成された酸化皮膜は仕上
焼鈍中800〜900℃の温度域でSiO₂の濃化という
変質を遂げていることが明らかになつた。従つ
て、このようなSiO₂の濃化、すなわち複合酸化
物系のSiO₂rich側への組成の変更が系の共晶点を
1200℃以上とし、結果的にしもふり状皮膜欠陥の
発生を押えているという結論に達した。なお、こ
のような仕上焼鈍中800〜900℃におけるSiO₂の
濃化はMn活量の高い素材について特に顕著にあ
らわれる。この理由について本発明者らの見解を
次に述べる。周知のように３％Si−Fe系の高温
酸化挙動はMn活量により変動し、Mn量がある
程度以上であると、素材の酸化速度は大きく上昇
する（N.Morito＆T.Ichida 17 961（1977））。こ
のようにして形成された皮膜を仕上焼鈍中におけ
るような低酸素分圧雰囲気にさらすことにより、
皮膜組成は新たな平衡状態、すなわちSiO₂／
（Fe、Mn）₂SiO₄比の高い状態に近ずくものと考
えられる。このような変化は初期の皮膜の
SiO₂／（Fe、Mn）₂SiO₄比の低いものほどより強
く現れると考えられるのである。 以上述べた仕上焼鈍方法は、鋼中のMn活量に
応じて仕上焼鈍雰囲気の酸素分圧を制御すること
を骨子とした本発明者らによる特願昭59−53819
号と組み合わせることにより、さらに有効にその
効果を発揮することができる。第３表にMn：
0.18％、Ｓ：0.006％の素材を脱炭焼鈍し、TiO₂
を５重量部含むマグネシアを通常の方法と静電塗
装法により塗布し、仕上焼鈍して得た素材のフオ
ルステライト皮膜に現れた皮膜欠陥発生率と平均
フオルステライト結晶粒径を示す。

【表】 上段：しもふり欠陥発生率
下段：フオルステライト結晶粒径
このように仕上焼鈍中850−1100℃の雰囲気の
露点をある程度高めることによりフオルステライ
ト皮膜の結晶粒径を小さくすることができる。そ
の理由は必ずしも明らかではないが本発明者等は
特願昭59−53819号に記載の通り、鋼中Mn活量
と雰囲気の酸素分圧との組み合わせにより酸化皮
膜側に適当量のMnOが生成し、このMnOがMgO
−SiO₂系固相反応に対して触媒的効果をもつた
ものと考えている。 このような仕上焼鈍後半においてある程度の酸
素分圧をかける方法は先に述べた800〜900℃の保
定によりSiO₂／（Fe、Mn）₂SiO₄比を上げしもふ
り欠陥をなくすという考え方と一見予盾するよう
に見える。しかしすでに述べたように実験的にこ
れらの方法はMn活量の高い素材において良好な
フオルステライト皮膜を生成する上で効果を持つ
ている。これらの事象に対する本発明者らの見解
を次に述べる。 まず固相反応を促進するという観点から適当量
のMnOはMgO−SiO₂皮膜形成に有効である。従
つてMn活量の高い素材についてこのMnOの安定
性が問題となる。第５図にこのMnOの熱力学的
な安定性をMn活量をパラメータにとつて示し
た。なお、この図を作成するにあたつて必要な数
値は（“Metallurgical Thermochemistry”（５
th edition、1979）Kubaschewski＆Alcock
（Pergamon Press）より引用した。この図から
明らかなようにMnOの平衡論的な安定性は温度
雰囲気の酸素分圧及び鋼中のMn活量に強く依存
する。しかもいつたん形成したMnOを還元する
ためにはさらに速度論的因子が強く働くはずであ
る。本発明者らの見解はフオルステライト皮膜の
特性向上には適当量のMnOが必要であるという
ことであり、過剰のMnO、FeOあるいは一般に
（Fe、Mn）Ｏ系酸化物はMgO−SiO₂を主体とし
た複合酸化物系の共晶点を下げしもふり欠陥を誘
発するという意味で好ましくない。第５図から明
らかなように熱力学的平衡状態が常に実現されて
いるとすれば適当量のMnOを確保するためには
Mn活量に応じて例えば第５図中矢印で示したよ
うに推移させればよい。簡単に表現すれば温度の
上昇とともに少しずつ雰囲気の酸素分圧も上昇さ
せればよいのである。しかし、現実の方向性電磁
鋼板の製造工程においてはこのようなことは最初
の段階からあてはまらない。なぜならば脱炭焼鈍
時の酸素分圧は(1)脱炭を行なうため、(2)フオルス
テライトを形成するのに必要なSiO₂、もしくは
酸素量、を短時間で確保するためにlog（PH₂O／
PH₂）−0.3程度に設定されており、第５図か
らわかるようにこの値は仕上焼鈍時に問題にされ
る酸素分圧の領域よりずつと高いのである。この
ようにして形成された酸化皮膜から出発して良好
なフオルステライト皮膜を形成するためには、本
発明で述べられた方法、すなわち仕上焼鈍前半の
追加酸化を押さえ（650℃以下でPH₂O／PH₂
0.015）、特に実コイルにおいてはMg（OH）₂とし
て持ち込まれる水和成分量を制限し、（静電塗装
法）、酸化皮膜の組成をある程度SiO₂richする
（800−900℃の保定）方法が有効なのである。そ
していつたんこのような状態になつたあとは逆に
温度の上昇とともにある程度の酸素分圧をかけ
MnOを必要量確保することが有効に働くのであ
る。 以上述べた技術的な進歩により、Ｓ＋
0.405Se：0.010以下かつMn：｛0.05×７（Ｓ＋
0.405Se）｝以上0.8％以下というMn活量の高い素
材について、しもふり欠陥を伴なわずにフオルス
テライト皮膜を安定して、得ることが可能となつ
た。 次に本発明の構成要因の限定条件を述べる。 鋼中のMn、Ｓ及びSeに対する規定は主に鋼中
Mn活量を確保しフオルステライト皮膜特性の向
上をはかるという観点から定めた。すなわち、前
述したように鋼中のMnが酸化してできたMnOが
成品のフオルステライト皮膜の特性を向上させる
のであるが、このために必要なfreeMn量を確保
するためにはＳが0.010％以下であることが望ま
しい。Mnをトラツプするという意味からはSeも
同様の効果を持つのでSeを増やすことも好まし
くない。以上の点からＳとSeに対する上限値を
Ｓ＋0.405Seで0.010％とした。これ以上Ｓを増や
すと材質的には線状細粒と呼ばれる２次再結晶不
良部が発生し、表面皮膜の特性も劣化する。Mn
の下限値は良好なフオルステライト皮膜を得るた
めに必要なMn活量を得るという観点からＳ及び
Se量に対し｛0.05＋７（Ｓ＋0.405Se）｝％とした。
Mnがこの値以下であると皮膜が劣化し、２次再
結晶も不安定となるので好ましくない。Mnの上
限値は0.8％と定めた。これ以上Mn量が増えると
成品の磁束密度が劣化するので好ましくない。 Ｃは0.025％未満になると二次再結晶が不安定
になり、かつ二次再結晶した場合でも磁束密度
（B₁₈で1.80T以下しか得られず）が悪いので0.025
％以上とした。一方、Ｃが多くなり過ぎると脱炭
焼鈍時間が長くなり、経済的ないので0.075％以
下とした。Siは4.5％を超えると冷延時の割れが
著しくなるので4.5％以下とした。又、3.0％未満
では製品板厚0.30mmでW_17/58が1.05W／Kg以下の
最高等級の鉄損が得られないので3.0％以上とし
た。望ましくは3.2％以上である。 本発明では二次再結晶に必要な析出物として
AlNを用いる。したがつて必要最低量のAlNを
確保するために酸可溶性Alとして0.010％以上、
Ｎとして0.0030％以上が必要である。酸可溶性Al
が0.060％を超えると熱延板のAlNが不適切とな
り、二次再結晶が不安定になるので0.060％以下
とした。Ｎについては、0.0130％を超えるとブリ
スターと呼ばれる“鋼板表面のふくれ”が発生す
るので0.0130％以下とした。 Crは磁性を安定させるのに効果がある。則ち
Crを含有させることにより、高磁束密度の得ら
れる酸可溶性Al量の範囲を拡大できる。さらに、
同一磁束密度下での鉄損特性を良好ならしめる。
この鉄損低減効果は、Cr含有量0.07％以上で顕著
になり、0.25％で飽和する。さらに0.25％を超え
てCrを含有せしめると、脱炭昇温時の脱炭速度
を低下せしめるという問題が生じるので、Cr含
有量を0.07％〜0.25％とする。 仕上焼鈍開始から650℃までの雰囲気の酸素分
圧はPH₂O／PH₂0.015でなければならない。こ
れ以上であると成品フオルステライト皮膜中にし
もふり欠陥が発生する。静電塗装法における塗布
量は次のようにして限定する。まず下塗りとする
通常の方法でスラリー状に塗布・乾燥することに
よる焼鈍分離材の塗布量はこれを片面４ｇ／m²以
下とする。これ以上であるとコイル板間内に持ち
込む水和成分量を不必要に多くし、仕上焼鈍時の
雰囲気の酸素分圧を制御するという本来の目的が
達成されない。また焼き付けを防止する意味で静
電塗布するマグネシアの塗布量は片面あたり３〜
６ｇ／m²とする。３ｇ／m²未満であるとコイルの
焼き付けが発生する場合が生じ、また６ｇ／m²を
越える量を塗布しても焼き付け防止の効果は同じ
で経済的でない。 800℃〜900℃の温度域で鋼板を保定し、皮膜特
性の向上を狙う場合その保定時間は10〜30時間と
限定する。これより短ければ皮膜特性向上に対す
る効果はあまり期待できず、これ以上長くしても
その効果は30時間保定の場合とくらべ大差ない。
従つて30時間を越える時間コイルを保持するのは
経済的でない。 次に本発明中の請求範囲２および４に示した仕
上焼鈍後半800〜900℃の温度域から110℃に至る
までの温度範囲における雰囲気酸素分圧の限定理
由を説明する（第１図）。この発明の目的は成品
表面に生成されるフオルステライト皮膜の特性向
上にあり、発明の詳しい内容は本発明者らによる
特願昭59−53819号と同じである。すなわち、本
発明の骨子はフオルステライト生成反応であると
ころのMgO−SiO₂固相反応において触媒的機能
を有するMnOを、SiO₂を主体とした酸化皮膜中
に必要量確保することにある。その方法として鋼
中のMn活量、具体的には鋼中Mn量及びMnをト
ラツプするＳ及びSe量に対して、MgO−SiO₂固
相反応が進行する800−900℃の温度域から110℃
に至るまでの温度範囲における、仕上焼鈍雰囲気
の酸素分圧、具体的にはPH₂O／PH₂を第１図で
示す範囲に限定したのである。 第１図中AB及びDCは成分に関する限定（前
述）でその限定理由は説明したが、繰り返すと
Mn−1.719（Ｓ＋0.405Se）が0.05（AB）以下であ
ると皮膜特性向上に有効なMnOが必要量得られ
ず、また0.8（DC）以上であると成品の磁束密度
が劣化するので好ましくない。 BCはフオルステライト皮膜の特性向上に必要
なMnOを確保するのに必要な酸素分圧で、これ
はa_Mo・PH₂O／PH₂（a_Mo・Mn活量）が一定値以上で なくてはならないことから図で示した勾配を有す
る直線となつた。PH₂O／PH₂がこれ以下である
とフオルステライト結晶の平均粒径が0.5μｍを越
えた値となり不適当である。PH₂O／PH₂の上限
値DEは、これ以上Mn活量を高くしたり雰囲気を
酸化性にすると過剰に生成した液相に起因すると
思われる皮膜不良部が発生し、成品の層間抵抗を
劣化させるので、図中に示したように設定した。
また、上限値AEは現場操業における問題から限
定される。すなわちPH₂O／PH₂を５×10^-2以上
で仕上焼鈍を行なうためには大容量の加湿器が必
要であり、さらにコイル幅方向、長手方向に均等
に酸素分圧を与えることが難しくなり、成品歩留
りも低下するので上限値はAEとする必要がある。
以上のPH₂O／PH₂とa_Moに対する制約により仕
上焼鈍中800〜900℃の温度域から1100℃に至る間
の酸素分圧は第１図ABCDEに示される範囲内に
保持する必要がある。 実施例 １ Ｃ：0.054％、Si：3.3％、Mn：0.15％、Ｐ：
0.02％、Ｓ：0.006％、Se：0.0006％、酸可溶性
Al：0.030％、Ｎ：0.007％を含有する溶鋼から連
鋳法で鋳片を作成、1150℃のスラブ加熱後、熱間
圧延にて1.8mm厚の熱延板とした。この熱延板を
1100℃×２分間の熱延板焼鈍後、0.18mmまで冷延
し、810℃の温度で温水素中の脱炭焼鈍を行なつ
た。この板に通常の方法（塗布量、片面６ｇ／
m²）及び静電塗装法（下塗り片面３ｇ／m²＋静電
塗装法（MgOのみ）片面４ｇ／m²）でTiO₂を５
重量部含むマグネシアを塗布した。このようにし
て作成した10トンコイルを窒素25％水素75％露点
−20℃（PH₂O／PH₂＝0.002）、０℃（PH₂O／
PH₂＝0.008）及び20℃（PH₂O／PH₂＝0.032）
の雰囲気で650℃まで昇温、その後の露点を−20
℃に切り換え1200℃まで昇温速度10℃／hrで昇温
した。得られた鋼板のしもふり状皮膜欠陥の発生
率を第４表に示す。

【表】 ５ ５内は本発明

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 重量％で、Ｃ：0.025％〜0.075％、Si：3.0％
   〜4.5％、酸可溶性Al：0.010〜0.060％、Ｎ：
   0.0030％〜0.0130％、Ｓ≦0.010％、およびMnを
   0.8％≧Mn≧0.05＋７×（Ｓ＋0.405Se）なる関係
   を満足する如く含有し、残部Feおよび不可避的
   不純物からなる珪素鋼スラブを、熱間圧延、冷間
   圧延し、湿水素雰囲気中での脱炭焼鈍、焼鈍分離
   剤塗布を行つた後仕上焼鈍を行う一方向性電磁鋼
   板の製造方法において、脱炭焼鈍後の鋼板に鋼板
   片面当り４ｇ／m²以下のスラリー状焼鈍分離剤を
   塗布、乾燥した後、その上に鋼板片面当り３〜６
   ｇ／m²のマグネシアを静電塗布しかつ、仕上焼鈍
   開始から650℃迄の温度域における雰囲気の酸素
   分圧（PH₂O／PH₂で表す）を0.015以下にすると
   ともに、800〜900℃の温度域で鋼板を10〜30時間
   保定することを特徴とするフオルステライト皮膜
   が良好な一方向性電磁鋼板の製造方法。 ２ 仕上焼鈍中800〜900℃の温度域から1100℃迄
   の昇温時の酸素分圧を鋼中のMn、Ｓの量に対応
   して第１図のABCDEに囲まれた領域の値にする
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方
   法。 ３ 重量％で、Ｃ：0.025％〜0.075％、Si：3.0％
   〜4.5％、酸可溶性Al：0.010〜0.060％、Ｎ：
   0.0030％〜0.0130％、Ｓ≦0.010％、Cr：0.07〜
   0.25％およびMnを0.8％≧Mn≧0.05＋７×（Ｓ＋
   0.405Se）なる関係を満足する如く含有し、残部
   Feおよび不可避的不純物からなる珪素鋼スラブ
   を、熱間圧延、冷間圧延し、湿水素雰囲気中での
   脱炭焼鈍、焼鈍分離剤塗布を行つた後仕上焼鈍を
   行う一方向性電磁鋼板の製造方法において、脱炭
   焼鈍後の鋼板に鋼板片面当り４ｇ／m²以下のスラ
   リー状焼鈍分離剤を塗布、乾燥した後、その上に
   鋼板片面当り３〜６ｇ／m²のマグネシアを静電塗
   布しかつ、仕上焼鈍開始から650℃迄の温度域に
   おける雰囲気の酸素分圧（PH₂O／PH₂で表す）
   を0.015以下とするとともに、800〜900℃の温度
   域で鋼板を10〜30時間保定することを特徴とする
   フオルステライト皮膜の良好な一方向性電磁鋼板
   の製造方法。 ４ 仕上焼鈍中800〜900℃の温度域から1100℃迄
   の昇温時の酸素分圧を鋼中のMn、Ｓの量に対応
   して第１図のABCDEに囲まれた領域の値にする
   ことを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の方
   法。