JPS6330561B2 - - Google Patents
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- JPS6330561B2 JPS6330561B2 JP55019184A JP1918480A JPS6330561B2 JP S6330561 B2 JPS6330561 B2 JP S6330561B2 JP 55019184 A JP55019184 A JP 55019184A JP 1918480 A JP1918480 A JP 1918480A JP S6330561 B2 JPS6330561 B2 JP S6330561B2
- Authority
- JP
- Japan
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- pattern
- fourier transform
- unit
- inspected
- inverse fourier
- Prior art date
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- Expired
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95623—Inspecting patterns on the surface of objects using a spatial filtering method
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、光の回折現象を利用して規則性パ
ターン中の形状欠陥を検出するレーザ光回折パタ
ーン空間フイルタ法（以下、単に空間フイルタ法
という）による装置に関し、特に規則性パターン
を平行移動させながら逆フーリエ変換面上に配設
したフオトデイテクタアレイによつてパターン中
の欠陥を自動的に検査する装置に関する。
ターン中の形状欠陥を検出するレーザ光回折パタ
ーン空間フイルタ法（以下、単に空間フイルタ法
という）による装置に関し、特に規則性パターン
を平行移動させながら逆フーリエ変換面上に配設
したフオトデイテクタアレイによつてパターン中
の欠陥を自動的に検査する装置に関する。
各種メタルフイルタ、ICマスク等に代表され
る規則性を持つたパターン中の欠陥を検出する方
法として、近年レーザ光を用いた空間フイルタ法
が注目されている。この空間フイルタ法は、２次
元画像の処理において従来行なわれている微小光
ビームで２次画像を走査し、得られた出力信号を
電子計算機で処理する方式が処理の複雑さ、長い
処理時間、高価という問題点を持つているのに対
し、２次元画像の空間的並列処理が簡単で、しか
も安価な光学系で高速に達成できるといつた利点
を有している。このため、主に規則性２次元パタ
ーンを持つ工業製品、たとえばメタルフイルタ、
ICマスク、繊維等の欠陥検査装置として実用化
されている。
る規則性を持つたパターン中の欠陥を検出する方
法として、近年レーザ光を用いた空間フイルタ法
が注目されている。この空間フイルタ法は、２次
元画像の処理において従来行なわれている微小光
ビームで２次画像を走査し、得られた出力信号を
電子計算機で処理する方式が処理の複雑さ、長い
処理時間、高価という問題点を持つているのに対
し、２次元画像の空間的並列処理が簡単で、しか
も安価な光学系で高速に達成できるといつた利点
を有している。このため、主に規則性２次元パタ
ーンを持つ工業製品、たとえばメタルフイルタ、
ICマスク、繊維等の欠陥検査装置として実用化
されている。
この発明は上述の如き欠陥検査装置に関するも
のであり、以下にこの発明を説明する。
のであり、以下にこの発明を説明する。
先ず、空間フイルタ法を用いたこの発明の欠陥
検査装置の概略構成を第１図に示して説明する。
検査装置の概略構成を第１図に示して説明する。
レーザ発振器１を出たレーザビーム２は、コリ
メータ３により拡大された平行光４となつて被検
査パターン５に照射される。しかして、被検査パ
ターン５はフーリエ変換レンズ７の前焦点面上に
配設されており、後焦点面上には被検査パターン
５を通過する時に回折した光６によつて被検査パ
ターン５のフーリエ変換スペクトルが現われる。
また、フーリエ変換レンズ７の後焦点面上には、
被検査パターン５の正常パターンの（フーリエ変
換レンズ７による）フーリエ変換スペクトル強度
分布のネガパターン、すなわち空間フイルタ８が
置かれており、被検査パターン５のフーリエ変換
スペクトルのうち正常パターンに相当するスペク
トルのみが空間フイルタ８によつて吸収され、欠
陥パターンに相当するスペクトルは透過する。
メータ３により拡大された平行光４となつて被検
査パターン５に照射される。しかして、被検査パ
ターン５はフーリエ変換レンズ７の前焦点面上に
配設されており、後焦点面上には被検査パターン
５を通過する時に回折した光６によつて被検査パ
ターン５のフーリエ変換スペクトルが現われる。
また、フーリエ変換レンズ７の後焦点面上には、
被検査パターン５の正常パターンの（フーリエ変
換レンズ７による）フーリエ変換スペクトル強度
分布のネガパターン、すなわち空間フイルタ８が
置かれており、被検査パターン５のフーリエ変換
スペクトルのうち正常パターンに相当するスペク
トルのみが空間フイルタ８によつて吸収され、欠
陥パターンに相当するスペクトルは透過する。
ところで、この空間フイルタ８は逆フーリエ変
換レンズ１０の前焦点面上に配設されているた
め、空間フイルタ８を透過した光９は逆フーリエ
変換レンズ１０により逆フリーエ変換され、逆フ
ーリエ変換レンズ１０の後焦点面上に空間フイル
タリングされた逆フーリエ変換像、つまり被検査
パターン５の逆像の欠陥部分だけの像が現われ、
逆フーリエ変換像面に配設したフオトデイテクタ
アレイ１１によつて検出される。しかして、被検
査パターン５を平行光４内で光軸に直角に平行移
動しても、フーリエ変換の移行則によりフーリエ
変換レンズ７の後焦点面上に現われるフーリエ変
換パターンに変化はない。したがつて、被検査パ
ターン５を移動装置によつて平行移動しても同様
に、被検査パターン５のフーリエ変換スペクトル
のうち正常パターンに相当するスペクトルのみが
空間フイルタ８によつて吸収され、欠陥パターン
に相当するスペクトルは透過する。被検査パター
ン５の平行移動により、逆フーリエ変換像は光軸
対称の逆方向に移動する。つまり、被検査パター
ン５の逆像の欠陥部分だけの像が、光軸１２を挾
んで被検査パターン５の移動方向と反対の方向に
逆フーリエ変換面上を移動する。第１図におい
て、被検査パターン５の移動装置による移動方向
を紙面と直角とし、逆フーリエ変換面上のフオト
デイテクタアレイ１１の配列方向を紙面と平行な
方向とすれば、逆フーリエ変換面上を移動する欠
陥像はフオトデイテクタアレイ１１を直角に横切
ることになり、欠陥像が横切る位置に配設された
単位フオトデイテクタ１３によつて欠陥像の信号
として検出される。
換レンズ１０の前焦点面上に配設されているた
め、空間フイルタ８を透過した光９は逆フーリエ
変換レンズ１０により逆フリーエ変換され、逆フ
ーリエ変換レンズ１０の後焦点面上に空間フイル
タリングされた逆フーリエ変換像、つまり被検査
パターン５の逆像の欠陥部分だけの像が現われ、
逆フーリエ変換像面に配設したフオトデイテクタ
アレイ１１によつて検出される。しかして、被検
査パターン５を平行光４内で光軸に直角に平行移
動しても、フーリエ変換の移行則によりフーリエ
変換レンズ７の後焦点面上に現われるフーリエ変
換パターンに変化はない。したがつて、被検査パ
ターン５を移動装置によつて平行移動しても同様
に、被検査パターン５のフーリエ変換スペクトル
のうち正常パターンに相当するスペクトルのみが
空間フイルタ８によつて吸収され、欠陥パターン
に相当するスペクトルは透過する。被検査パター
ン５の平行移動により、逆フーリエ変換像は光軸
対称の逆方向に移動する。つまり、被検査パター
ン５の逆像の欠陥部分だけの像が、光軸１２を挾
んで被検査パターン５の移動方向と反対の方向に
逆フーリエ変換面上を移動する。第１図におい
て、被検査パターン５の移動装置による移動方向
を紙面と直角とし、逆フーリエ変換面上のフオト
デイテクタアレイ１１の配列方向を紙面と平行な
方向とすれば、逆フーリエ変換面上を移動する欠
陥像はフオトデイテクタアレイ１１を直角に横切
ることになり、欠陥像が横切る位置に配設された
単位フオトデイテクタ１３によつて欠陥像の信号
として検出される。
ところで、第２図Ａは単位矩形開口の規則的配
列で成る被検査パターンの例を示すものであり、
同図Ｂは被検査パターンの逆フーリエ変換像（点
線部）とフオトデイテクタアレイ（実線部）の開
口形状と位置の関係を示している。
列で成る被検査パターンの例を示すものであり、
同図Ｂは被検査パターンの逆フーリエ変換像（点
線部）とフオトデイテクタアレイ（実線部）の開
口形状と位置の関係を示している。
しかして、第２図Ａにおいて斜線部は不透明部
を、斜線部以外は透明部をそれぞれ表わしてお
り、被検査パターン５を構成する単位矩形開口１
９は横方向ピツチａ、縦方向ピツチｂで規則正し
く配列されており、このため隣接する単位開口間
の境界線２０は横寸法ａ、縦寸法ｂの矩形とな
る。また、第２図Ｂに示すように、被検査パター
ン５の逆フーリエ変換像２１は空間フイルタされ
た結果、点線で描くように見えなくなつた単位矩
形開口の逆フーリエ変換像１９Ａにより構成さ
れ、同図Ａの被検査パターン５を矢印２２の方向
に図示しない移動装置によつて平行移動すると、
逆フーリエ変換像２１は矢印２２とは反対方向の
矢印２３の方向へ平行移動する。しかして、この
逆フーリエ変換面上に開口をもつ単位フオトデイ
テクタ１３を矢印２３とは直角な方向に配列して
固定し、単位フオトデイテクタ１３の開口を横寸
法ａ、縦寸法ｂの大きさとし、フオトデイテクタ
アレイ１１の配列方向の中心線２４に直角な単位
フオトデイテクタ１３の中心線２５を、単位矩形
開口の逆フーリエ変換像１９Ａの矢印２３の方向
と平行な中心線２６と一致させる。こうすれば、
逆フーリエ変換像２１の矢印２３方向への移動に
従つて、逆フーリエ変換像１９Ａが繰返し単位フ
オトデイテクタ１３を横切ることになる。
を、斜線部以外は透明部をそれぞれ表わしてお
り、被検査パターン５を構成する単位矩形開口１
９は横方向ピツチａ、縦方向ピツチｂで規則正し
く配列されており、このため隣接する単位開口間
の境界線２０は横寸法ａ、縦寸法ｂの矩形とな
る。また、第２図Ｂに示すように、被検査パター
ン５の逆フーリエ変換像２１は空間フイルタされ
た結果、点線で描くように見えなくなつた単位矩
形開口の逆フーリエ変換像１９Ａにより構成さ
れ、同図Ａの被検査パターン５を矢印２２の方向
に図示しない移動装置によつて平行移動すると、
逆フーリエ変換像２１は矢印２２とは反対方向の
矢印２３の方向へ平行移動する。しかして、この
逆フーリエ変換面上に開口をもつ単位フオトデイ
テクタ１３を矢印２３とは直角な方向に配列して
固定し、単位フオトデイテクタ１３の開口を横寸
法ａ、縦寸法ｂの大きさとし、フオトデイテクタ
アレイ１１の配列方向の中心線２４に直角な単位
フオトデイテクタ１３の中心線２５を、単位矩形
開口の逆フーリエ変換像１９Ａの矢印２３の方向
と平行な中心線２６と一致させる。こうすれば、
逆フーリエ変換像２１の矢印２３方向への移動に
従つて、逆フーリエ変換像１９Ａが繰返し単位フ
オトデイテクタ１３を横切ることになる。
次に、被検査パターン５の中に欠陥が存在する
場合を第３図Ａ，Ｂについて説明する。
場合を第３図Ａ，Ｂについて説明する。
ここにおいて、被検査パターン５中に第３図Ａ
に示すような大穴欠陥２７及び小穴欠陥２８が存
在すると、逆フーリエ変換面では同図Ｂに示す如
く大穴欠陥２７の場合は逆フーリエ変換像２７
Ａ、小穴欠陥２８の場合は逆フーリエ変換像２８
Ａの斜線で示す欠陥部分だけの明るい像となつて
結像する。したがつて、被検査パターン５を矢印
２２の方向へ移動装置によつて移動すれば、欠陥
２７及び２８の逆フーリエ変換像２７Ａ及び２８
Ａは矢印２３の方向へ移動し、移動する過程で大
穴欠陥２７の逆フーリエ変換像２７Ａは単位フオ
トデイテクタ１３１に、小穴欠陥２８の逆フーリ
エ変換像２８Ａは単位フオトデイテクタ１３２に
よりそれぞれ欠陥面積に比例した光量として並列
的に検出される。すなわち、単位フオトデイテク
タからの出力波形は第４図Ａ，Ｂに示すように、
単位フオトデイテクタ１３１からの大穴欠陥２７
の欠陥面積に比例した検出信号UP１、単位フオ
トデイテクタ１３２からの小穴欠陥２８の欠陥面
積に比例した検出信号UP２となり、その信号レ
ベルの大きさから欠陥面積を求めることができ
る。この場合、許容される欠陥面積に相当するス
レツシヨルドUPSを設定しておけば、このスレ
ツシヨルドUPSを越えた信号を２値化するだけ
のコンパレータによつて欠陥信号として自動検出
することができる。なお、検出信号UP１及びUP
２の時間的な差は、大穴欠陥２７及び小穴欠陥２
８の距離をｃ、矢印２２方向への移動速度をｖと
すればｃ／ｖとなる。また、単位フオトデイテク
タ１３１，１３２…によつてマルチフオトデイテ
クタを構成している。
に示すような大穴欠陥２７及び小穴欠陥２８が存
在すると、逆フーリエ変換面では同図Ｂに示す如
く大穴欠陥２７の場合は逆フーリエ変換像２７
Ａ、小穴欠陥２８の場合は逆フーリエ変換像２８
Ａの斜線で示す欠陥部分だけの明るい像となつて
結像する。したがつて、被検査パターン５を矢印
２２の方向へ移動装置によつて移動すれば、欠陥
２７及び２８の逆フーリエ変換像２７Ａ及び２８
Ａは矢印２３の方向へ移動し、移動する過程で大
穴欠陥２７の逆フーリエ変換像２７Ａは単位フオ
トデイテクタ１３１に、小穴欠陥２８の逆フーリ
エ変換像２８Ａは単位フオトデイテクタ１３２に
よりそれぞれ欠陥面積に比例した光量として並列
的に検出される。すなわち、単位フオトデイテク
タからの出力波形は第４図Ａ，Ｂに示すように、
単位フオトデイテクタ１３１からの大穴欠陥２７
の欠陥面積に比例した検出信号UP１、単位フオ
トデイテクタ１３２からの小穴欠陥２８の欠陥面
積に比例した検出信号UP２となり、その信号レ
ベルの大きさから欠陥面積を求めることができ
る。この場合、許容される欠陥面積に相当するス
レツシヨルドUPSを設定しておけば、このスレ
ツシヨルドUPSを越えた信号を２値化するだけ
のコンパレータによつて欠陥信号として自動検出
することができる。なお、検出信号UP１及びUP
２の時間的な差は、大穴欠陥２７及び小穴欠陥２
８の距離をｃ、矢印２２方向への移動速度をｖと
すればｃ／ｖとなる。また、単位フオトデイテク
タ１３１，１３２…によつてマルチフオトデイテ
クタを構成している。
次に、単位円形開口の60゜千鳥状配列で成る被
検査パターンの場合の、逆フーリエ変換像及びフ
オトデイテクタアレイの開口形状、位置を第５図
に示して説明する。
検査パターンの場合の、逆フーリエ変換像及びフ
オトデイテクタアレイの開口形状、位置を第５図
に示して説明する。
この場合、円形開口配列の１つの中心線３３に
平行な逆フーリエ変換像３２の平行移動方向３４
に直角な中心線３５上に配列される単位円形開口
の逆フーリエ変換像３６と同心で、かつ隣接する
単位円形開口との境界線に内接する円を開口とす
る単位フオトデイテクタ３７と、中心線３５と平
行な隣接する中心線３８上に配列される単位円形
開口の逆フーリエ変換像３６Ａと同心で、かつ隣
接する単位円形開口との境界線に内接する円を開
口とする単位フオトデイテクタ３７Ａとを120゜千
鳥状配列している。このように繰返し構成したフ
オトデイテクタアレイ３９を逆フーリエ変換面上
に配設すれば、逆フーリエ変換像３２の平行移動
方向３４への移動に従つて、単位円形開口の逆フ
ーリエ変換像の中心が単位フオトデイテクタ開口
の中心を横切ることになり、単位円形開口中に欠
陥があれば第３図Ａ，Ｂの場合と同様に欠陥面積
に比例した光量として検出することができる。な
お、単位フオトデイテクタの開口は隣接する単位
円形開口の境界線が形成する正六角形でもよい。
平行な逆フーリエ変換像３２の平行移動方向３４
に直角な中心線３５上に配列される単位円形開口
の逆フーリエ変換像３６と同心で、かつ隣接する
単位円形開口との境界線に内接する円を開口とす
る単位フオトデイテクタ３７と、中心線３５と平
行な隣接する中心線３８上に配列される単位円形
開口の逆フーリエ変換像３６Ａと同心で、かつ隣
接する単位円形開口との境界線に内接する円を開
口とする単位フオトデイテクタ３７Ａとを120゜千
鳥状配列している。このように繰返し構成したフ
オトデイテクタアレイ３９を逆フーリエ変換面上
に配設すれば、逆フーリエ変換像３２の平行移動
方向３４への移動に従つて、単位円形開口の逆フ
ーリエ変換像の中心が単位フオトデイテクタ開口
の中心を横切ることになり、単位円形開口中に欠
陥があれば第３図Ａ，Ｂの場合と同様に欠陥面積
に比例した光量として検出することができる。な
お、単位フオトデイテクタの開口は隣接する単位
円形開口の境界線が形成する正六角形でもよい。
ここにおいて、第５図に示すフオトデイテクタ
アレイ３９は単位フオトデイテクタ３７及び３７
Ａによるオーバーラツプした検出領域（斜線部）
４０を有し、この検出領域に欠陥がある場合には
１つの欠陥を２つの単位フオトデイテクタ３７，
３７Ａが検出し、欠陥の数と位置の検出精度を失
なうが、欠陥の有無の検出が主目的の場合にはこ
の配列で目的を満足することができる。また、単
位円形開口の直径がその中心間ピツチに比べて比
較的小さい場合には、単位フオトデイテクタの開
口径を小さくし、中心線３５上に単位フオトデイ
テクタの開口が互いに接するように一列に並べて
フオトデイテクタアレイを構成すればオーバーラ
ツプを防止することができ、欠陥位置も正確に検
出することができる。
アレイ３９は単位フオトデイテクタ３７及び３７
Ａによるオーバーラツプした検出領域（斜線部）
４０を有し、この検出領域に欠陥がある場合には
１つの欠陥を２つの単位フオトデイテクタ３７，
３７Ａが検出し、欠陥の数と位置の検出精度を失
なうが、欠陥の有無の検出が主目的の場合にはこ
の配列で目的を満足することができる。また、単
位円形開口の直径がその中心間ピツチに比べて比
較的小さい場合には、単位フオトデイテクタの開
口径を小さくし、中心線３５上に単位フオトデイ
テクタの開口が互いに接するように一列に並べて
フオトデイテクタアレイを構成すればオーバーラ
ツプを防止することができ、欠陥位置も正確に検
出することができる。
次に、実際例を説明する。
空間フイルタ法によつて行なわれる通常の欠陥
検査は、数μのICマスタパターンから数10μ〜数
100μのメタルメツシユまでの広範囲にわたるが、
ここでは１辺が数100μの単位矩形開口を有する
被検査パターンについて説明する。一般に用いら
れる光源は出力10〜20mWのHe―Neレーザで、
レーザ光を数10mm径の平面波にコリメートして被
検査パターンに照射し、焦点距離が100mm〜200mm
の凸レンズによりフーリエ変換を行なう。空間フ
イルタには、35mm白黒フイルムに正常パターンの
フーリエ変換スペクトルを記録した振幅フイルタ
を使用する。第６図は、単位矩形開口（200μ×
300μ）が横ピツチ400μ、縦ピツチ600μで配列し
ている被検査パターンの場合の単位矩形開口の逆
フーリエ変換線４１と、単位フオトデイテクタ開
口４２で成るフオトデイテクタアレイ４４を示
し、第２図で説明したような開口形状及び位置の
関係にある。しかして、単位フオトデイテクタに
はSiフオトダイオード、Siフオトトランジスタ、
CdSセル等を用い、逆フーリエ変換像の平行移動
方向４３に直角に逆フーリエ変換面上に配列して
フオトデイテクタアレイ４４を構成する。もし、
フオトデイテクタ素子を逆フーリエ変換面から離
したい場合には、第７図に示すように逆フーリエ
変換面上に端面をもつ直径15μ前後の単位オプテ
イカルフアイバ４５を、400μ×600μの矩形開口
内に俵積み状に互いに接するようにくまなく並べ
た単位オプテイカルフアイババンドル４６による
単位フオトデイテクタ開口４７を形成し、単位オ
プテイカルフアイババンドル４６の他方の端部４
８を逆フーリエ変換面以外に設置した単位フオト
デイテクタ素子４９に接続する。これにより各単
位フオトデイテクタ開口内の光量、すなわち単位
矩形開口中の欠陥面積を検出することができる。
このようにオプテイカルフアイバにより構成した
単位フオトデイテクタ開口をアレイ化し、各単位
オプテイカルフアイババンドルの他端にそれぞれ
単位フオトデイテクタ素子を接続すれば、第６図
の逆フーリエ変換面上にフオトデイテクタアレイ
を配列した場合と同じ機能を果すことになる。
検査は、数μのICマスタパターンから数10μ〜数
100μのメタルメツシユまでの広範囲にわたるが、
ここでは１辺が数100μの単位矩形開口を有する
被検査パターンについて説明する。一般に用いら
れる光源は出力10〜20mWのHe―Neレーザで、
レーザ光を数10mm径の平面波にコリメートして被
検査パターンに照射し、焦点距離が100mm〜200mm
の凸レンズによりフーリエ変換を行なう。空間フ
イルタには、35mm白黒フイルムに正常パターンの
フーリエ変換スペクトルを記録した振幅フイルタ
を使用する。第６図は、単位矩形開口（200μ×
300μ）が横ピツチ400μ、縦ピツチ600μで配列し
ている被検査パターンの場合の単位矩形開口の逆
フーリエ変換線４１と、単位フオトデイテクタ開
口４２で成るフオトデイテクタアレイ４４を示
し、第２図で説明したような開口形状及び位置の
関係にある。しかして、単位フオトデイテクタに
はSiフオトダイオード、Siフオトトランジスタ、
CdSセル等を用い、逆フーリエ変換像の平行移動
方向４３に直角に逆フーリエ変換面上に配列して
フオトデイテクタアレイ４４を構成する。もし、
フオトデイテクタ素子を逆フーリエ変換面から離
したい場合には、第７図に示すように逆フーリエ
変換面上に端面をもつ直径15μ前後の単位オプテ
イカルフアイバ４５を、400μ×600μの矩形開口
内に俵積み状に互いに接するようにくまなく並べ
た単位オプテイカルフアイババンドル４６による
単位フオトデイテクタ開口４７を形成し、単位オ
プテイカルフアイババンドル４６の他方の端部４
８を逆フーリエ変換面以外に設置した単位フオト
デイテクタ素子４９に接続する。これにより各単
位フオトデイテクタ開口内の光量、すなわち単位
矩形開口中の欠陥面積を検出することができる。
このようにオプテイカルフアイバにより構成した
単位フオトデイテクタ開口をアレイ化し、各単位
オプテイカルフアイババンドルの他端にそれぞれ
単位フオトデイテクタ素子を接続すれば、第６図
の逆フーリエ変換面上にフオトデイテクタアレイ
を配列した場合と同じ機能を果すことになる。
以上、レーザ光回折パターン空間フイルタ法を
用いてパターン中の欠陥を検出する方法におい
て、光軸に直角に被検査パターンを平行移動する
移動装置と、逆フーリエ変換面上にパターン中の
隣接する単位開口間の境界線を越えない大きさの
単位デイテクタ開口を有し、被検査パターンの平
行移動方向と直角方向に単位デイテタク開口を配
列すれば、各単位デイテクタ開口から欠陥面積に
比例した光強度信号を並列検出することができ、
出力信号の大きさによつて欠陥面積が測定できる
と共に許容欠陥面積、すなわち臨界出力（スレツ
シヨルド）を設定すれば欠陥の有無を簡単な比較
回路だけで検出することができる。
用いてパターン中の欠陥を検出する方法におい
て、光軸に直角に被検査パターンを平行移動する
移動装置と、逆フーリエ変換面上にパターン中の
隣接する単位開口間の境界線を越えない大きさの
単位デイテクタ開口を有し、被検査パターンの平
行移動方向と直角方向に単位デイテタク開口を配
列すれば、各単位デイテクタ開口から欠陥面積に
比例した光強度信号を並列検出することができ、
出力信号の大きさによつて欠陥面積が測定できる
と共に許容欠陥面積、すなわち臨界出力（スレツ
シヨルド）を設定すれば欠陥の有無を簡単な比較
回路だけで検出することができる。
第１図はこの発明の欠陥検査装置の概略構成を
示す図、第２図Ａ，Ｂはこの発明が対象とする被
検査パターン及びこの発明に用いるフオトデイテ
クタアレイの形状、位置の関係を示す図、第３図
Ａ，Ｂは第２図Ａ，Ｂにおいて欠陥が存在する場
合を説明するための図、第４図Ａ，Ｂは単位フオ
トデイテクタの出力波形の例を示す図、第５図は
この発明が対象とする被検査パターンの他の例を
示す図、第６図は被検査パターン及びフオトデイ
テクタアレイの関係を実際の寸法で示す図、第７
図はオプテイカルフアイバでフオトデイテクタア
レイを構成した例を示す図である。 １……レーザ発振器、５……被検査パターン、
７……フーリエ変換レンズ、８……空間フイル
タ、１０……逆フーリエ変換レンズ、１１……フ
オトデイテクタアレイ、１３……単位フオトデイ
テクタ、１９……単位矩形開口、２７，２８……
欠陥。
示す図、第２図Ａ，Ｂはこの発明が対象とする被
検査パターン及びこの発明に用いるフオトデイテ
クタアレイの形状、位置の関係を示す図、第３図
Ａ，Ｂは第２図Ａ，Ｂにおいて欠陥が存在する場
合を説明するための図、第４図Ａ，Ｂは単位フオ
トデイテクタの出力波形の例を示す図、第５図は
この発明が対象とする被検査パターンの他の例を
示す図、第６図は被検査パターン及びフオトデイ
テクタアレイの関係を実際の寸法で示す図、第７
図はオプテイカルフアイバでフオトデイテクタア
レイを構成した例を示す図である。 １……レーザ発振器、５……被検査パターン、
７……フーリエ変換レンズ、８……空間フイル
タ、１０……逆フーリエ変換レンズ、１１……フ
オトデイテクタアレイ、１３……単位フオトデイ
テクタ、１９……単位矩形開口、２７，２８……
欠陥。
Claims (1)
- １ 単位開口が規則的に繰返し配列された開口群
から成る被検査パターン中の形状欠陥をレーザ光
回折パターン空間フイルタ法を利用して検査する
装置において、光源としてのレーザ光を発するた
めのレーザ発振器と、該レーザ光を拡大平行光に
するためのコリメータと、前記被検査パターンを
移動させるために移動装置を光軸に直角に、且
つ、かつ前記被検査パターンの単位開口の中心線
の一つに平行に移動する移動装置と、前記被検査
パターンを通過したレーザ回折光をフーリエ変換
するためのフーリエ変換レンズと、フーリエ変換
して得られたスペクトルから前記形状欠陥に相当
するスペクトルのみを通過させるための空間周波
数フイルタと、前記形状欠陥に相当するスペクト
ルの逆フーリエ変換像を得るための逆フーリエ変
換レンズと、前記逆フーリエ変換レンズにより変
換された逆フーリエ変換面の逆フーリエ変換像を
電気信号に変換するために、多数のオプテイカル
フアイバを俵積みしてなる単位オプテイカルフア
イババンドルの一方の側は逆フーリエ変換面に端
面をもち、この端面は逆フーリエ変換面上の前記
被検査パターンに対応する単位開口の境界線を越
ないように配置され、且つ、前記被検査パターン
に対応する単位開口を含む形状であり、また、前
記単位オプテイカルフアイババンドルの他方の側
の端部は単位フオトデイテクタ素子に接続された
構成の単位フオトデイテクタの組みをアレイ状に
複数配列したフオトデイテクタアレイと、を具備
することにより前記形状欠陥像の面積に基づいた
検査が行えることを特徴とするパターン欠陥検査
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1918480A JPS56117106A (en) | 1980-02-20 | 1980-02-20 | Inspecting device for pattern defect |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1918480A JPS56117106A (en) | 1980-02-20 | 1980-02-20 | Inspecting device for pattern defect |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56117106A JPS56117106A (en) | 1981-09-14 |
| JPS6330561B2 true JPS6330561B2 (ja) | 1988-06-20 |
Family
ID=11992244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1918480A Granted JPS56117106A (en) | 1980-02-20 | 1980-02-20 | Inspecting device for pattern defect |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56117106A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2613830B1 (fr) * | 1987-04-08 | 1990-11-02 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif pour determiner le contraste d'un ecran d'affichage en fonction de la direction d'observation |
| JP2644609B2 (ja) * | 1990-05-28 | 1997-08-25 | 科学技術振興事業団 | ヘテロダイン検波受光系を用いた振幅像及び位相像の同時検出装置 |
| KR101084167B1 (ko) * | 2009-03-04 | 2011-11-17 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 마스크 검사 장치 및 마스크 검사 방법 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54105967A (en) * | 1978-02-08 | 1979-08-20 | Toshiba Corp | Defect test system for pattern featuring directivity |
-
1980
- 1980-02-20 JP JP1918480A patent/JPS56117106A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56117106A (en) | 1981-09-14 |
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