JPS63307873A - 含硫黄ヘテロアントラサイクリン誘導体及びその製造方法 - Google Patents

含硫黄ヘテロアントラサイクリン誘導体及びその製造方法

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JPS63307873A
JPS63307873A JP17040087A JP17040087A JPS63307873A JP S63307873 A JPS63307873 A JP S63307873A JP 17040087 A JP17040087 A JP 17040087A JP 17040087 A JP17040087 A JP 17040087A JP S63307873 A JPS63307873 A JP S63307873A
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heteroanthracycline
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JP17040087A
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English (en)
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Yasumitsu Tamura
田村 恭光
Masayuki Kirihara
正之 桐原
Jiyunichi Sekihachi
堰八 淳一
Manabu Sasho
学 佐生
Shuji Akai
周司 赤井
Yasuyuki Kita
泰行 北
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は制癌剤として有用な含硫黄ヘテロアントラサイ
クリン誘導体及びその製造方法に関するものである。
[従来の技術] ダウノマイシン(daunomycin)やアドリアマ
イシン(adrla+aycLn)等のアントラサイク
リン系物質は強力な制癌剤として知られているが、反面
では特異な毒性が存在するため、その副作用を軽減すべ
く各種の関連化合物の合成研究が従来から盛んに行なわ
れてきた(有機合成化学第40巻第1号参照)。この様
な関連化合物の1つとしてアントラサイクリンのD′y
Jがペテロ環に置換されたヘテロアントラサイクリンの
合成研究も行なわれていて[A、S、Kende  e
t  al、、  Eur、  Pat、  Appl
、  、1)、169(1980)参照]、本発明者等
もD環[化合物(I)の右から順にA環、B環、・・・
という]がヘテロ環に置換された含窒素アセチルヒドロ
キシル体の合成に成功し、これについて先に発表を行な
゛った(第17回複素理化学討論会要旨集参照)。
[発明の目的] 本発明の目的は含硫黄ヘテロアントラサイクリン系の新
しい且つ有効な誘導体及びその製造方法を提供しようと
するものである。
[発明の構成] 本発明に係る含硫黄ヘテロアントラサイクリン話導体と
は、下記一般式(I); で示されるものである。
シリル基を意味する]よりなる群から選ばれる基を表わ
し、またR2はアセチル基若しくはトリ(低級)アルキ
ルシリルエチニル基であってR2がアセチル基のときは
R3は水素、水酸基または式−〇−R’  (式中R4
は糖残基)を意味し、R2がトリ(低級)アルキルシリ
ルエチニル基のときはR3は水素を意味する)また上述
の含硫黄ヘテロアントラサイクリン誘導体を製造する方
法の発明とは以下に示す反応手順を包含するものである
(Iり (IT) (V) (■) (■) (fX) [但しR1はトリ(低級)アルキルシリル基]低級アル
キレン基をそれぞれ意味する。)尚上記反応手順におい
て前記一般式(■)で示されるヒドロキシケタール化合
物から前記一般式(X)で示される目的物質に至る手順
として次に示す第2の手順を実施することもできる。
ケタール化合物(■)   □ (XI) (Ml) (X) 更に上記の第2の手順において、上記ヒドロキシケター
ル化合物(XI)を製造する手順として次に示す別途の
手順を実施することもできる。
(XI) 011V) (XV) (式中A2+ R’ I Dは前と同じ意味)また本発
明は含硫黄ヘテロアントラサイタリン誘導体のグリコシ
ドを製造する方法として次の反応手順も包含する。
(Xa) (xb) (式中Aは前と同じ意味、GXは糖類、Gは糖類、基を
意味する)。
尚上記のグリコジル化反応においては糖類として1−ハ
ロゲン化糖、1−0−アシル化糖、グリカールが使用で
きるほか、ピラノース、フラノース、その他の酸素を含
む異部環状化合物及びその誘導体が使用できる。
上記(xb)で示される配糖体は、糖の配位がα配位、
β配位のいずれかのものも含み、また配糖体は絶対配置
が天然型、非天然型いずれをも含む。
尚上記反応式中(rV)、(V)、(IX)及び(X)
で示す物質はいずれも本発明の目的物質(I)に包含さ
れる化合物であるがこの中で(IV)、(V)及び(I
K)は(X)の中間体としても位置づけることができる
またこの発明に係る原料物質、中間体及び目的物質は、
各A環における不斉炭素原子に基づくシス体、トランス
体及びこれらの混合体を含むものである。
しかし本発明者等の研究によれば本発明に係る含硫黄ヘ
テロアントラサイタリン誘導体の制癌効果はトランス体
よりもシス体の方がより有効であることがわかった。従
って本発明においては本発明に係る下記のトランス体(
XVI)をシス体(X■)に変換する次の手順も包含す
る。
(XVt) (X■) (式中Aは前と同じ意味) 尚武(X■)で示したシス体は7位及び9位のヒドロキ
シル基がいずれも絶対配置S又は下記式で示される様に
7位及び9位共に絶対配置Rであるものおよびこれらの
混合体も本発明に含まれる。また式(XVI)で示した
トランス体は7位のヒドロキシル基が絶対配置S、9位
のヒドロキシル基が絶対配置R又はその逆配置のもの[
)(R)、9(s)]およびこれらの混合体も本発明に
含まれる。
次に上記一般式の定義について説明する。
尚、本明細書で使用する「低級」なる用語は、炭素数1
〜6を意味するものとする。
低級アルキル基とは直鎖もしくは分岐鎖状の飽和脂肪族
炭化水素残基であり、その具体例としては例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、第3級ブチル、ペンチル、ネオペンチル、第3級
ペンチル、ヘキシル等が挙げられ、さらに好ましくは炭
素数1〜4個のアルキル基が挙げられる。
次に同じ<R’で示されるトリ(低級)アルキルシリル
基における低級アルキル及びR2で示されるトリ低級ア
ルキルシリルエチニル基における低級アルキルの例とし
てはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル
、イソブチル、第3級ブチル、ペンチル、ネオペンチル
、ヘキシル等が例示される。更にDで示される低級アル
キレン基としては、エチレン、プロピレン、イソプロピ
レン、ブチレン、イソブチレン等が例示される。
次にR4で示される糖残基は、単糖類のみならず、多糖
類、残基を含むほか、アミノ糖、その他の糖誘導体残基
を含むものである。
次に、本発明の含硫黄ヘテロアントサイクリン誘導体で
ある含硫黄ヘテロアントラサイクリン誘導体(X)の製
造方法について説明する。
(イ)化合物(II)→化合物(IV)の製造有機溶媒
存在下で、化合物(II)に化合物(III )を反応
させることによって化合物(IT)を製造する。この反
応を行なうには例えばトリクロルセリウムの存在下で化
合物(III )に例えばn −ブチルリチウム等のア
ルカリ金属化合物又はアルカリ金属等を反応させて有機
セリウム試薬とし、この有機セリウム試薬と化合物(I
I)を反応させることによって化合物(mV)を製造す
る。
即ち、例えば n−ブチルリチウム R’−CICH−一一一一一一一一 eC1g R”−C=C−Li− R’ −C=C−CeC1゜ の反応により有機セリウム試薬が生じる。
この有機セリウム試薬は低塩基性であるから化合物(!
りとの反応においては、化合物(Iりにおけるカルボニ
ル基のエノール化を抑制し、カルボニル基への1.2−
付加体[化合物(■)]を与えるものと考えているが、
反応機構の如何は本発明を制限するものではない。
尚、上記の反応において使用されるアルカリ金属化合物
又はアルカリ金属等としては、n−ブチルリチウムをは
じめとする有機リチウム化合物。
金属ナトリウム、ナトリウムアミド及びグリニヤール試
薬等が非限定的に例示される。また上記反応において使
用される有機溶媒としてはテトラヒドロフラン(以下T
)IFと略記する)、二一テル、ヘキチン、1.2−ジ
メトキシメタン、塩化メチレンなどこの反応の進行に悪
影響を与えない溶媒が例示される。これらの場合の反応
温度は通常−100℃〜−50℃で行なうのが望ましい
(ロ)化合物(IV)−化合物(V)の製造化合物(T
V)を水和反応に付して化合物(V)を製造する。この
場合水和反応は通常鉱酸又はルイス酸等の触媒を使用゛
することにより行なわれ、触媒としては、例えば希硫酸
、希硫酸及び酸化第2水銀、希硫酸及び硫酸第2水銀、
希硫酸及び酢酸第2水銀等が例示される。
(ハ)化合物(V)→化合物(■)の製造化合物(V)
に脱水剤の存在下又は酸触媒の存在下脱水装置を用いて
アルキレングリコール(Vl)を反応させる。ここで使
用される脱水剤および触媒としては、例えばパラトルエ
ンスルホン酸、メタンスルホン酸、カンファースルホン
酸等の有機スルホン酸、ポリ燐酸、濃硫酸、濃塩酸や弗
化硼素ジエチルエーテル、四塩化チタン、塩化亜鉛等の
ルイス酸等が例示される。脱水の方法としては他にモレ
キュラーシーブを用いたり、ディーンスターク装置を用
いることもできる。反応は無水の条件下、ベンゼン、エ
ーテル、ジオキサン等この反応の進行に悪影響を及ぼさ
ない溶媒中で行なうのが一般的である0反応温度は限定
されないが、通常は加温ないし加熱下に行なわれる。
上記の反応により化合物(V)はケタール化合物(■)
となり、このケタール化反応でアセチル基が保護される
(ニ)化合物(■)→化合物(■)の製造化合物(■)
に有機溶媒存在下で、ハロゲン化剤を、好ましくはラジ
カル形成試薬と共に反応させた後ひき続き水を作用させ
ることにより化合物(■)が生成する。ここで使用され
るハロゲン化剤としては、臭素、N−ブロモコハク酸イ
ミド等が例示され、ラジカル形成試薬としては、アゾビ
スイソブチロニトリル(以下AIBNと略記する)若し
くは過酸化ベンゾイル、光等が例示される。また有機溶
媒としてはクロロホルム、四塩化炭素、塩化メチレン、
1.2−ジクロロエタン、エーテル、テトラヒドロフラ
ン等この反応の進行に悪影響を与えない溶媒が例示され
る0反応温度は特に限定されないが通常加温ないし加熱
下で行なわれる。
(ホ)化合物(■)→化合物(IX)の製造化合物(■
)に氷温下で水と共に脱ケタール化剤を反応させると化
合物(IX)が得られる。
ここで使用される脱ケタール化剤としてはパラトルエン
スルホン酸、トリフルオロ酢酸、蓚酸等の有機酸、塩酸
、硫酸等の鉱酸、四塩化チタン等のルイス酸、トリメチ
ルシリルパライトや酸性シリカゲル等が例示される。
(へ)化合物(IX)→化合物(X)の製造化合物(I
X)に脱シリル化剤を反応させることにより化合物(X
)を製造する。この場合使用される脱シリル化剤として
はテトラブチルアンモニウムフルオリド、セシウムフル
オリド、カリウムフ′ルオリド弗化水素等が例示される
次に上記化合物(X)の製造において化合物(■)から
前記化合物(X[)を経て化合物(X)を製造する方法
について説明する。
(ト)化合物(■)−化合物(XI)の製造化合物(■
)に脱シリル化剤を反応させることにより化合物Oa)
を製造する。この場合使用される脱シリル化剤としては
上記(へ)の工程で使用されるものが使用できる。
(チ)化合物(XI)−化合物(X[[)の製造この反
応は前記(ニ)で述べた方法に従って行なわれる。
(す)化合物(X[[)→化合物(X)の製造この反応
は前記(ホ)で述べた方法に従って行なわれる。
次に上記(ト)の工程によって製造される化合物(X[
)について、別の方法即ち化合物(虐)を出発原料とし
て製造する方法について説明する。
(ヌ)化合物(■)−化合物(項)の製造この反応は前
記(イ)で述べた方法に従って行なわれる。
(ル)化合物(窟)−化合物(XV)の製造この反応は
前記(ロ)で述べた方法に従って行なわれる。
(ヲ)化合物(XV)−化合物(XI)の製造この反応
は前記(ハ)で述べた方法に従って行なわれる。
(ワ)化合物(Xa)→化合物(xb)の製造化合物(
Xa)に糖類を作用させてグリコジル化を行なうが、そ
の方法としては次の3通りの方法が例示される。
(a)ハロゲン上着を用いる方法 化合物(Xa)又は化合物(IX)に窒素気流下、例え
ば無水クロロホルム、無水ジクロロメタン、無水エーテ
ル等の有機溶媒中でシアン化第2水銀及び臭化第2水銀
(又は1化銀塩)及びモレキュラーシーブの存在下ハロ
ゲン上着と反応させると、脱ハロゲン化水素反応が進行
してグリコジル化が行なわれる。
グリコジル化反応に際し、原料物’Jj(Xa)として
例えばラセミ体のシス体を採用した場合に、7位及び9
位がシスでその絶対配置が7(S)。
9(S)のものと7 (R) 、 9 (R)のものの
2種のジアステレオ混合物(xb)が得られる。
上記2種の化合物を分離したい場合には薄層クロマトグ
ラフィー(以下P、TLCと略記する)等で分離すれば
よい。
(b) o−アシル化糖を用いる方法 化合物(Xa)に窒素気流下、例えば無水塩化メチレン
、無水ジエチルエーテル。
等の単−若しくは混合有機溶媒中でトリメチルシリルト
リフルオロメタンスルホン酸エステル(以下TMSOT
fと略記する)及びモレキュラーシーブの存在下O−ア
シル上着と反応させる。
この反応においても原料物質(Xa)としてラセミ体の
シス体を採用した場合に7位と9位がシスでその絶対配
置が7 (S)、 9 (S)のものと7 (R) 、
 9 (R)のものの2種のジアステレオ混物合として
生成するので、必要に応じTLCで分離すれば良い。
(C)グリカールを用いる方法 化合物(Xa)に窒素気流下、例えば無水塩化メチレン
、無水クロロホルム、無水TI(F、無水エーテル、無
水1.2−ジクロロエタン等の有機溶媒中でグリカール
として例えば3.4−ジヒドロ−2−H−ピラン及びパ
ラトルエンスルホン酸やカンファスルホン酸等のプロト
ン酸を添加反応させる。
次にトランス体(XVI)からシス体(X■)を製造す
る方法について説明する。
化合物(XVI)に異性化剤を作用させて化合物(X■
)を製造するのであるが、異性化剤としては例えばフェ
ニル硼酸及びトリフルオロ酢酸等が例示される。即ち有
機溶媒存在下で化合物(XVI)にフェニル硼酸及びト
リフルオロ酢酸を反応させるとトランスからシスへの異
性化が起こると同時にシス体が硼酸エステルの形で固定
化される。この場合の有機溶媒としては例えばトルエン
、ベンゼン、塩化メチレン等が例示される。次にこのシ
ス体に例えば塩化メチレン、アセトン。
クロロホルム、THF、エーテル等の単−若しくは混合
有機溶媒存在下で例えば2−メチル−ペンタン−2,4
−ジオール及び酢酸、蓚酸等の酸を反応させるとシス体
(X■)が得られる。
尚以下の実施例において融点は柳本微量融点測定器を用
いて測定した。旋光度はパーキン−エルマー241型、
赤外線吸収(IR)スペクトルは日本分光HPIR−1
02型を用いて測定した。核磁気共鳴(’H−NMR)
スペクトルは日立ト22型(90MH,) 。
JEOL JNM FX−90Q型(90M)l、)ま
たはJEOL JNMGX−500型(500MH□)
を用い、テトラメチルシランを内部標準として測定した
。  [”H−NMR(CDCIs、 500MH,)
と記載した場合は500MH,で測定した。他の場合は
90MHzで測定した。]質量分析(MS)スペクトル
はJEOL JMS−0300型またはESCOEMD
−05Aを用いて、20eVまたは70eVの直接法で
測定した。円二色性(CD)スペクトルはJASCOJ
−500A型を用いて測定した(C−モル濃度)、カラ
ムクロマトグラフィーの吸着剤としてはメルク社製シリ
カゲル60(70−230mesh ASTM)を使用
した。 P、TLCハメルク社製プリコーテッドTLC
プレート、シリカゲル60 F2114を使用した。抽
出液は無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
[実施例] 以下本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本
発明は下記実施例に限定されるものではない。
実施例1 化合物(!I)より化合物(X)の合成を次の(1)〜
(5)の段階で行なった。
はトリメチルシリル基)→化合物(rV)シリル基) 140℃のオイルバスで2時間減圧乾燥したトリクロロ
セリウム(2,30g 、 9.32ミリmol )に
窒素置換下で予め乾燥したTHF(10ml)を加え室
温で1時間攪拌した。別にトリメチルシリルアセチレン
(1,2a+1 、8.44ミリm01)の乾燥THF
溶液(aml)に窒素置換の下、−40℃でn−ブチル
リチウム(5,1ml、 8.15ミリmol)のヘキ
サン溶液を滴下し同温度で30分攪拌した。これを上記
トリクロロセリウムのTHF懸濁液に一78℃で滴下し
て1時間攪拌した後−78℃で5.10−ジヒドロキシ
−2−トリメチルシリル−6,7゜8.9−テトラヒド
ロアントラ[2,3−blチオフェン−4,7,11−
トリオン(180mg。
0.41+8ミリmol)の乾燥THF溶液(30ml
)を滴下した。これを同温度で2時間攪拌後、水を加え
室温になるまで放置後10%塩酸で酸性とし、次いで塩
化メチレンで抽出し、飽和食塩水で洗浄夜更に硫酸ナト
リウムで乾燥した後溶媒を留去しカラムクロマトグラフ
ィー(クロロホルム)により精製し、(±)−5,7,
10−トリヒドロキシ−2−トリメチルシリル−7−ト
リメチルシリルエチニルー6.7,8.9−テトラヒド
ロアントラ[2,3−b]チオフェン−4,11−ジオ
ンの赤色結晶(239B、 0.493ミリmol )
を得た。
融点:108〜110℃ I R(CHC1s  ) CI−’  1510. 
1600.295ONMR(CDCIs)δ 0.16(9H,s)。
0.42 (9H,s)。
1.95〜2.35(28,t)。
2.414(2H,t) 。
3.10(2H,s)。
7.75(18,s)。
13.08(IH,s)。
13.27 (LH,s) はトリメチルシリル基)→化合物(V)シリル基) THF (30臆l)に(±)−5,フ、10−トリヒ
ドロキシー2−トリメチルシリル−7−トリメチルシリ
ルエチニルー6.7,8.9−テトラヒドロアントラ[
2,3−b]チオフェン−4゜11−ジオン(265m
g、 0.548ミリmol )を加え、更に酸化第2
水銀(237mg、 1.09ミリmol )及び3M
硫酸(5sl)を加え70℃で1.5時間加熱撹拌を行
なった後10%塩酸を加え塩化メチレンで抽出し、飽和
食塩水で洗浄した。次いで硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒
を留去しカラムクロマトグラフィー(展開溶媒ベンゼン
;ジエチルエーテル=10:1)により精製し、(±)
−7−アセチル−5,7,1O−)−ジヒドロキシ−2
−トリメチルシリル−6,7,8,9−テトラヒドロア
ントラ[2,3−b]チオフェン−4゜11−ジオンの
赤色結晶(213,4mg、 0.496ミリmol 
)賀得た。
融点=197〜201℃ I  R(CHC1s  )  Cm−’   151
0. 1605.1フ10゜95O NMR(CDCIs)δ 0.42(9H,s)。
1.85〜2.10(2H,br)。
2.40(3H,s)。
2.75〜3.05 (4H,br) 。
7.74(IH,s)。
13.06 (IH,s) 。
13.22(IH,s) はトリメチルシリル基)→化合物(■)シリル基、Dは
エチレン基) (±)−7−アセチル−5,7,10−トリヒドロキシ
−2−トリメチルシリル−6,7,8゜、9−テトラヒ
ドロアントラ[2,3−b]チオフェン−4,11−ジ
オン(210+sg、 0.488ミリm01)エチレ
ングリコール(344yag、 5.54ミリmol)
 、パラトルエンスルホン酸(40a+g)を加えこれ
をディーンスタークをつけて還流した。3時間後場化メ
チレン及び炭酸水素ナトリウム飽和水溶液を加え、振ど
う抽出し有機層を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、
次いで硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を留去した後、カラ
ムクロマトグラフィー(塩化メチレン)で精製し橙赤色
結晶の(±)−7−((1,1−エチレンジオキシ)エ
チル]−5.7.10−トリヒドロキシ−2−トリメチ
ルシリル−6、フ、8.9−テトラヒドロアントラ[2
,3−b]チオフェン−4,11−ジオン(227mg
、 0.479 ミリmol )を得た。
融点:198〜201℃ I R(CHC1s ) cm−’  1510.16
00.2560゜2875、2950.356O NMR(CDCIs )δ 0.42(9H,s)。
2.11 (2)1.br) 。
2.70〜3.00(4H,br) 。
4.08(4H,s)。
7.76(1)1.s)。
13.14(IH,s)。
13.35(IH,s) はトリメチルシリル基、Dはエチレン基)R1はトリメ
チルシリル基) (±)−7−[(1,1−エチレンジオキシ)エチル]
−5,7,1O−)−ジヒドロキシ−2−トリメチルシ
リル−6,7,8,9−テトラヒドロアントラ[2,3
−b]チオフェン−4,11−ジオン(30mg、 0
.063ミリmol)のクロロホルム溶液(5ml)に
四塩化炭素(1,5ml) 、水(1,5if)及びA
IBN(45mg)を加えた後、臭素(90mg、 0
.563ミリmol )の四塩化炭素溶液(4,5ml
)を徐々に加え、攪拌しながら40〜50℃に加熱還流
した。16時間後チオ硫酸ナトリウム飽和水溶液とクロ
ロホルムを加え抽出を行ない、更に塩化ナトリウム飽和
水溶液で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥した後溶媒を留去
しく±)−ツー((1,1−エチレンジオキシ)エチル
]−5,7,9,10−テトラヒドロキシ−2−トリメ
チルシリル−6,7,8,9−テトラヒドロアントラ[
2,3−b]チオフェン−4,11−ジオンの赤色結晶
を得た。この化合物に0℃の下でトリフルオロ酢酸の8
0%水溶液(20ml)を加え攪拌し1.5時間復水及
びクロロホルムを加えて抽出し、次いで硫酸ナトリウム
で乾燥し溶媒を留去した後カラムクロマトグラフィー(
クロロホルム:ジエチルエーテル−5:1)で精製し、
赤色結晶の(±)−ツーアセチル−トランス−5゜7.
9.10−テトラヒドロキシ−2−トリメチルシリル−
6,7,8,9−テトラヒドロアントラ[2,3−b]
チオフェン−4,11−ジオン(18,5B、 0.0
41 ミリa+ol )を得た。
融点:176〜181℃ I R(CHC1s ) cm−’  1510.18
10.171ON M R(CD Cl s )δ 0.42 (9H,S) 。
2.17〜2.28(2H,br) 。
2.40(3H,S)。
2.97〜3.03(2o、br)。
3.87,4.06  (2H,a+)。
5.35〜5.40(IH,br)。
7.81(1)1.8) 。
13.20  (IH,s)。
13.63  (IH,s) はトリメチルシリル基)→化合物(X)(±)−7−ア
セチル−トランス−5,7゜9.10−テトラヒドロキ
シ−2−トリメチルシリル−6,7,8,9−テトラヒ
ドロアントラ[2,3−b]チオフェン−4,11−ジ
オン(20mg、 0.045ミリ+nol )をTH
F(3ml)に溶解し、テトラ−n−プチルアンモニウ
ムフルオリド(40mg)を加え室温下15分撹拌後水
を加えクロロホルムで抽出し次いで塩化ナトリウム飽和
水溶液で洗浄し更に硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去
しカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メチルア
ルコール−10:1)で精製し紫色結晶を得た。さらに
P、TLC(クロロホルム・ニジエチルエーテル+5−
1)で精製しく±)−7−アセチル−トランス−5,7
,9,10−テトラヒドロキシ−6,7,8,9−テト
ラヒドロアントラ[2,3−blチオフェン−4,11
−ジオン(16IIg、 0.043ミリmol )の
赤色結晶を得た。
融点=171〜176℃ I R(CHC1s ) cm−’  1710.16
0ON M R(CD C1s )δ 2.40(s、3B、C0CH5) 。
5.46 (11,IH,CH) 。
7.72(d、IH,arom、 J−5Hz)。
7.82(d、IH,arom、J=5Hz) 。
13.18 (S、IH,OH) 。
13.56 (S、1)1.OH) 実施例2 化合物(■)より化合物(X)の合成を実施例1の方法
とは別途の次の2段階で行なった。
R1はトリメチルシリル基、DはエチレンDはエチレン
基) 実施例1の(5)段階の合成手順と同様の方法で(±)
−7−((1,1−エチレンジオキシ)エチル] −5
,7,10−)−ジヒドロキシ−2−トリメチルシリル
−6,7,8,9−テトラヒドロアントラ[2,3−b
lチオフェン−4,11−ジオン(59mg、 0.1
24ミリmol )及びテトラ−n−プチルアンモニウ
ムフルオリド(50mg)より得られた粗生成物をカラ
ムクロマトグラフィー(クロロホルム:酢酸エチルエス
テル=2:1)で精製し、(±)−7−[(1,1−エ
チレンジオキシ)エチル] −5,7,10−トリヒド
ロキシ−6、フ、8.9−テトラヒドロアントラ[2゜
3−b]チオフェン−4,11−ジオンの赤色結晶(5
0mg、100%)を得た。
融点:188〜192℃(n−C6H14−CHCl3
)IR(KCI) c+a−’ : 1605.151
0゜lH−NMR(CDCIs)δ: 1.46(3H,s、 13−CHs)1.8−2.1
 (2H,mJ−CH2)2.7−3.1(4H,m、
 6.9− (:)12 x2)4.07 (4)1.
 S、 QC)12CH20)7.71(IH,d、 
J=5)1z、 Ar−H)7.76(1)1. d、
 J−5)1z、 Ar−)1)13.19 (1)1
. s、 Ar0H)13.42(IH,s、 Ar−
0H)実施例1の(4)段階の合成手順と同様の方法で
(±) −7−[(1,1−エチレンジオキシ)エチル
]−5.7.10−トリヒトワキ、−6゜7,8.9−
テトラヒドロアントラ[2,3−b]−チオフェン−4
,11−ジオン(34,5mg。
0.086ミリmol )より(±)−7−アセチル−
トランス−5,7,9,10−テトラヒドロキシ−6゜
7,8.9−テトラヒドロアントラ[2゜3b]チオフ
ェン−4,11−ジオンの赤色結晶(23,6mg、 
82%)を得た。
この場合のハロゲン化反応で使用した反応試剤等の量は A I BN  (40mg、  0.24ミリmol
  )クロロホルム(70ml)、四塩化炭素(8ml
)水(8ml)と臭素(100mg、 0.625ミリ
mol)及び四塩化炭素(5ml)の混合溶液、飽和チ
オ硫酸ナトリウム水溶液(10mft)であった。
又脱ケタール化反応で使用した反応試剤の量はトリフル
オロ酢酸80%水溶液(25a+1)水(15ml)及
びクロロホルム(20+1X2)の混合溶液であり、残
漬の精製はP、TLC(塩化メチレン:ジエチルエーテ
ル=10:1)で行なった。
融点:171〜176℃(n −C6)114− Ca
Ha)IR(CHCLs) cm−’ : 1710.
1600゜’)I−NMR(CDCIs、 5M)IZ
)  δ:2.17(IH,dd、J=12.5. 9
.5)1z、 8−ax)I)2.34(IH,ddd
、J=12.5,6.5.2.5)IZ、 8−eqH
)2.41(3H,S、 C0CHs) 2.91(18,dd、 J−18,0,2,5)IZ
、 6−eqH)3.08(IH,dd、 J−18,
0,1,5Hz、 6− axH)5J7(1)1. 
brt、 J−8,0Hz、シy2−19Hz、 9−
CH)7.71(LH,d、  J−5,0Hz、  
Ar−H)7.81(IH,d、  J−5,0Hz、
  Ar−0H)13.16(IH,s、 Ar−0H
)13.54(IH,s、^r−OH) 実施例3 化合物(II)より化合物(X)の合成を次の(1)〜
(5)の段階で行なった。
トリメチルシリル基)−化合物(rV)(A’基) 実施例1の(1)段階の合成手順と同様の方法で、5.
10−ジヒドロキシ−2−トリメチルシリル−6,7,
8,9−テトロヒドロアントラ[2,3−blチオフェ
ン−4,8,11−トリオン(22mg、 0.057
ミリmol)、トリクロロセリウム(281mg、 1
.14ミリmol)(トリメチルシリル)アセチレン(
0,15m1.1.03ミリmol )及びn−ブチル
リチウム(0,63m1.1.00ミリmol )より
(±)−5,8,10−トリヒドロキシ−2−トリメチ
ルシリル−8−トリメチルシリルエチニル−6,7,8
,9−テトラヒドロアントラ[2,3−b]チオフェン
−4,11−ジオンの赤色結晶(28,0mg、  1
00%)を得た。
融点二86〜89℃(n −C6H14−CaHa)I
R(CHCh) cffl−’ : 1800.151
0゜’H−NMR(CDCI+)  δ: 0.17[9H,s、(: =C−5t(CH3)3F
0.42[9H,s、  2−5i(CHs)sll、
9〜2.4(2H,m、7− CH2)2.7〜3.3
  (4H,m、  6.9−CHz  X 2)7.
74(IH,s、Ar−H) 13.06  (IH,s、  Ar−0H)実施例1
の(2)段階の合成手順と同様の方法で(±)−5,8
,10−トリヒドロキシ−2−トリメチルシリル−8−
トリメチルシリルエチニル−6,7,8,9−テトラヒ
ドロアントラ[2,3−b]チオフェン−4,11−ジ
オン(25mB、 0.052ミリmol ) 、黄色
酸化第2水銀(22B、 0.104ミリmol )及
び3M硫酸(1ml)より、(±)−8−アセチル−5
,8゜10−トリヒドロキシ−2−トリメチルシリルー
6、フ、8.9−テトラヒドロアントラ[2゜3−b]
チオフェン−4,11−ジオンの赤色結晶(20,2B
、  90%)を得た。
融点:218〜221℃(CC14) IR(CHCIs) cm−’:1710 、1600
.1510゜”H−NMR(CDCIs)  δ: 0.42(9H,s、 Si (CHs)s)1.9−
2.0 (2H,cm、 7−CHz)2.40(3H
,s、 C0CHs) 2.8−3.1(4H,1,6,9−CH,X2)3.
78(IH,brs、 8−0H)7.77(1)1.
 S、 Ar−H)13.07 (IH,s、  ^r
−OH)13.28(IH,s、 Ar−OH)エチレ
ン基) 実施例2の(3)段階の合成手順と同様の方法で(±)
−8−アセチル−5,8,10−トリヒドロキシ−2−
トリメチルシリル−6,7,8゜9−テトラヒドロアン
トラ[2,3−b]チオフェン−4,11−ジオン(1
8B、0゜0419ミリl1lol ) 、エチレング
リコール(29,5mg、 0.0476ミリmol 
)及びパラトルエンスルホン酸(5mg)より、(±)
−a−4t、t−(エチレンジオキシ)エチル] −5
,8,10−1リヒドロキシ−2−トリメチルシリル−
8,7,8,9−テトラヒドロアントラ[2,3−b]
チオフェン−4゜11−ジオンの赤色結晶(19,5m
g、 98%)を得た。
融点:248〜250℃(n −C6HI4− CaH
a)IR(CHCIs) Cm−’:1600 、15
10゜”H−NMR(CDCIs)  δ: 0.42(9H,s、 Si (CHs)s)1.46
(38,s、 13−CHs)1.6−2.3 (2)
1. m、 7−CH2)2.8−3.2 (4H,t
a、 6.9−CH2X 2)4.07 (4H,S、
 0CH2CH*O)7.75(IH,s、Ar−H) 13.15 (IH,S、  ^r−OH)13.31
  (IH,s、  Ar−0H)トリメチルシリル基
、Dはエチレン基)→エチレン基) 実施例2の(1)段階の合成手順と同様の方法で(±)
−8−[(1,1−エチレンジオキシ)エチル]−5,
8,10−トリヒドロキシ−2−トリメチルシリル−6
,7,8,9−テトラヒドロアントラ[2,3−b]チ
オフェン−4,11−ジオン(59tag 、 0.1
24ミリ+ool )及びテトラ−n−プチルアンモニ
ウムフルオリド(50B)より、(±) −8−[(1
,1−エチレンジオキシ)エチル] −5,8,10−
トリヒドロキシ−6,7,El、9−テトラヒドロアン
トラ〔2゜3blチオフェン−4,11−ジオン(51
mg。
100%)を得た。
融点:243〜24フ’e (CC14)IR(CHC
Is) cm−’:1605 、1510゜”H−NM
R(CDCIs) δ: 1.47(3H,s、 13−CHs)1.8−2.1
(2B、 ta、 8−C)!、)2.7−3.1(4
H,ta、 6.9−CH2X 2)4.08(4)1
.1−、0CHxCHzO)7.67(IH,d、 J
−5Hz、 Ar−H)7.80(IH,d、 J−5
Hz、^r−H)13.22 (1M、 S、^r−0
旧13.40 (18,s、 Ar−0H)実施例2の
(2)段階と同様の合成手順で(±)−8−[(1,1
−エチレンジオキシ)エチル]−5,8,10−トリヒ
ドロキシ−6゜7.8.9−テトラヒドロアントラ[2
,3−b]チオフェン−4,11−ジオン(31,1m
g。
0.077ミリa+ol )から、(±)−a−yセチ
ル−トランス−5,8,8,10−テトラヒドロキシ−
6,7,8,9−テトラヒドロアントラ[2゜3−b]
チオフェン−4,11−ジオンの赤色結晶(20,6B
、  71%)を得た。
この場合使用した反応試剤等の種類及び量は実施例(2
)の場合と同じであった。
融点=110〜115℃(CC14) IR(COCl2) c+o−’:1710 、180
0゜’H−NMR(CDCIs−50ONHz)δ:2
.18(IH,dd、 J=13.0.9.51(x、
 7−axH)2.35(IH,ddd、 J−13,
0,7,0,3,OHx。
7− eqH) 2.41(38,S、 C0CHs) 2.92(IH,dd、 J−18,0,3,0Hz、
 9−eqH)3.11(IN、 dd、 J−18,
0,1,5Hz、 9− ax)l)5.39(IH,
brt、 J−8,0Hz、uS4−19Hz、 6−
C)I)7.75(IH,d、  J−5,0Hz、 
 Ar−H)7.82(IH,d、  J−5,OHz
、 ^r−H)13.00(IH,s、  Ar0H)
13.80(IH,s、  ^r−OH)実施例4 実施例2及び3における中間生成体(XI)の合成を次
の(1)〜(3)の段階で行なった。
はトリメチシリル基) 実施例1の(1)段階の合成手順と同様の方法で無水T
HF (25■りを加えた5、10−ジヒドロキシ−6
、)、8,9−テトラヒドロアントラ[2,3−b]チ
オフェン−4,7,1l−)−ジオン(10+g) 、
 0.032ミリmol )から(±)−5,7,10
−)リヒドロキシーフートリメチルシリルエチニル−6
,7,8,9−テトラヒドロアントラ[2,3−b]チ
オフェン−4,11−ジオンの赤色結晶(13,91g
、100%)を得た。
尚この場合有機セリウム試薬の調製はトリクロ0 (’
 !J ラム(192+gg) 、0.779 s、、
り鳳o1 ) 。
トリメチルシリル)アセチレン(0,11m1.0.7
78ミリmol ) 、 n−ブチルリチウム(1,8
M。
0.3hl、 0.48ミリ+aol )及び無水TH
F(4ml)により行なった。また有機セリウム試薬と
原料物質(トリオン)の攪拌時間は2.5時間、で粗生
成物の精製はP、TLC(C)IC13)で行なった。
融点:184〜186℃(n −CIIH14−C)I
cIs)IR(CIC1*) cm−’:1655 、
1605゜’H−NMR(CDC1a)  δ: 0.16(9H,S、 Si (CH3)り2、L2.
3 (2H,tn、 8−CH2)2.8−3.2(4
B、 m、  6.9−CH2X 2)7.60(1B
、 d、 J=5Hz、 Ar−H)7.67(1)1
.d、 J−5Hx、 Ar−H)13.03 (IH
,s、 Ar−0H)13.24(1)1. s、 A
r−0)1)はトリメチルシリル基)→化合物(XV)
実施例1の(2)段階の合成手順と同様の方法で(±)
−5,7,10−トリヒドロキシ−7−トリメチルシリ
ルエチニル−6,7,8,9−テトラヒドロアントラ[
2,3−b]チオフェン−4,11−ジオン(13,9
mg、 0.034ミリmol )から(±)−ツーア
セチル−5,フ、10−トリヒドロキシ−6,7,8,
9−テトラヒドロアントラ[2,3b]チオフェン−4
,11−ジオンの赤色結晶(9,9mg 、 82%)
を得た。
この場合使用した黄色酸化第二水銀: 1B、5B。
0.0854ミリmo1.3M硫酸: 0.5ml で
あった。
また粗生、酸物の精製はカラムクロマトグラフィー(ク
ロロホルム:アセトン!50:1)で行なった。
融点:243〜246℃(n −C3H14−C)IC
13)IR(MCI)cm−’:1700 .1595
゜’H−NMR(CDCh) δ: 1.8−2.1 (2H,m、  8−CH2)2.3
8(3H,S、  C0CH,)2.8−3.2 (4
H,If、 6.9− CH2X 2)3.79(IH
,S、  7−0)1)7.11(LH,d、   J
”5Hz、  Ar−)1)7.76(IH,d、 J
−5Hz、 ^r−H)13.13(IH,s、 Ar
−0H)13.34(IH,S、 Ar−0H)エチレ
ン基) 実施例1の(3)段階の合成手順と同様の方法で(±)
−7−アセチル−5,7,10−トリヒドロキシ−6,
7,8,9−テトラヒドロアントラ[2,3−b]チオ
フェン−4,11−ジオン(25mg、 0.070ミ
リanal )から(±)−7−((1,1−エチレン
ジオキシ)エチル]−5゜7.10−)ジヒドロキシ−
6,フ、8.9−テトラヒドロアントラ[2,3−b]
チオフェン−4,11−ジオンの赤色結晶(23,5m
g、  84%)を得た。
この場合使用したエチレングリコール: 52.1mg
0.840ミリmol 、パラトルエンスルホン酸:9
mgであり、粗生成物はカラムクロマトグラフィー(ク
ロロホルム:酢酸エチル−10=1〜5:1)で精製し
た。
この生成物の融点、IR,NMR,の測定値は実施例2
の(1)段階で生成した化合物(XI)と完全に一致し
た。
実施例5 行なった。
窒素気流下で(±)−ツーアセチル−トランス−5,7
,9,10−テトラヒドロキシ−6゜7.8.9−テト
ラヒドロアントラ[2,3−b]チオフェン−4,11
−ジオン(5,6mg 。
0.015ミリmol )及びフェニル硼酸(5,51
11g。
0.045 ミリmol )をトリフルオロ酢酸(0,
17m1)及び無水トルエン(0,811)の混合液と
ともに水冷下3時間攪拌後、徐々に昇温し、室温で合計
13時間攪拌した。これに飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液(1+1)を加え、塩化メチレン(15ml)で抽出
し、有機層を2回水洗後乾燥して溶媒を減圧留去した。
残漬を2−メチルペンタン−2,4−ジオール(0,l
a+1 )及び酢酸(0,1ml )とともに、塩化メ
チレン(1,5ml )とアセトン(t、smIL)の
混合液に溶かし、N温で2時間攪拌した。反応液を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液(5ml)と塩化メチレン(
10mA)の混合液に混ぜ、有機層を分離し、水洗後乾
燥し溶媒を減圧留去した。残渣をn−ペンタン(15m
lx2)で洗浄後、P、TLC(塩化メチレン:ジエチ
ルエーテル10:1)で精製し、(±)−7−アセチル
−シス−5,7,9,10−テトラヒドロキシ−6,7
,8,9−テトラヒドロアントラ[2,3−b]チオフ
ェン−4,11−ジオンの赤色結晶(4,8+og 、
 86%)を得た。
融点=192〜198℃(CC14) IR(COCl2)CI+−’  : 1705.16
05゜’H−NMR(C[1C1s、50QMHz) 
δ :2.113(IH,dd、 J−14,3,4,
6Hz、 8−axH)2.35 (IH,dd、 J
=14.3.1.8Hz、8−eqH)2.43(3B
、 s、 (:0C)13)2.98(IH,d、  
J=18.3Hz、 8−axH)3.19(IH,d
d、 J=18.3,1.8)1x、6−eqH)3.
7−3.8 (IH,br、 9−0H)4.5−4.
6(IH,br、 7−0H)5JO(18,brd、
 J=1.8)1z、シ%−10Hz、 9−11:H
)7.73(IH,d、 J−3,7Hz、^r−H)
7.81(IH,d、 J=3.78x、 Ar−H)
13.21 (18,s、  Ar−0)1)13.2
6 (IH,s、 Ar−0H)実施例6 法で行なった。
実施例5の合成手順と同様の方法で(±)−8−アセチ
ル−トランス−5,6,8,10−テトラヒドロキシ−
6,7,8,9−テトラヒドロアントラ[2,3b]チ
オフェン−4,11−ジオン(7,8mg、 0.02
1ミリmol )から(±)−8−アセチル−シス−5
,6,8,10−テトラヒドロキシ−6,7,8,9−
テトラヒドロアントラ[2,3b]チオフェン−4,1
1−ジオンの赤色結晶(5,3mg、  68%)を得
た。
この場合反応試剤の使用量はフェニル硼酸=7.7 m
g、 0.063 ミリmol 、  トリフルオロ酢
酸=0.24m1.2−メチル−2,4−ベンタンジオ
ール: 0.1 ml、酢酸: 0.1 mlであった
融点=203〜206℃(CCI4) IR(C)IC13) c+++−’  : 1705
.1805’)I−NMR(CDC13,500MHz
)  δ:2.18(IH,dd、  J−14,3,
4,6Hz、  7−axH)。
2.35(IH,dd、 J=14.3. 2.2Hz
、 J−7−eqH)。
2.42(3H,s、C0CHs)。
2.95(1)1.  d、  J−18,3Hz、 
 9−axH)。
3.15(IH,dd、 J=18.3. 2.2H2
,9−eqH)。
3.65−3.95(1)1.br、6−0H)。
4.45−4.60(1)1.br、13−0H)。
5.31(IH,brd、  J−4,4)1z、シ、
7.−10Hz、6−H)。
7.74(IH,d、  J−4,8H2,^r−H)
 。
7.8111(、d、  J−4,8Hz、  Ar−
H)。
13.01(IH,s、  Ar−0H)。
13.47 (IH,s、  ^r−OH)。
実施例7 の合成を次の通り行なった。
窒素気流下、室温で(±)−7−アセチル−ラス−5,
7,9,10−テトラヒドロキシ−6゜7.8.9−テ
トラヒドロアントラ[2,3b]チオフェン−4,11
−ジオン(11mg、 0.029ミリmol)の無水
クロロホルム(5ml)溶液にシアン化第二水銀(23
mg、 0.09ミリmol)、臭化第二水銀(13m
g、 0.035ミリmol)およびモレキュラーシー
ブ3A(0,3g)を加えて30分間攪拌した。ここへ
1.4−0−P−ジニトロベンゾイル−N−トリフルオ
ロアセチル−L−ダウノサミン(32mg、 0.05
88ミリmol)より調製した4−0−P−ニトロベン
ゾイル−N−)−リフルオロアセチル−し−ダウノサミ
ニルフロリドの無水クロロホルム(5ml)溶液を加え
、室温で攪拌した。
24時間後シアン化第二水銀(23mg、 0.09ミ
リmol)、臭化第二水銀(13mg、 0.035ミ
リ1dol)およびモレキュラーシーブ3A(0,3g
)を加えて30分間攪拌した後、1.4−0−P−ジニ
トロベンゾイル−N−トリフルオロアセチル−L−ダウ
ノサミン(32mg、 0.0588ミリmol)より
調製した4−0−P−ニトロベンゾイル−N−トリフル
オロアセチル−L−ダウノサミニルフロリドの無水クロ
ロホルム(5ml)溶液を加え、室温で16時間攪拌し
た0反応液をろ過し、ろ液を水、飽和食塩水で洗い硫酸
ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。残漬をP、TL
C(シリカゲル、塩化メチレン:ジエチルエーテル=t
o:Bで精製し、2種類の物質A (7,9mg) 、
及びB (11,6mg)を得た。窒素気流下、0℃で
Aの塩化メチレン−メタノール(0,5ml −5m1
)溶液に0.IN水酸化ナトリウム水溶液(0,11m
1)を加えて30分間攪拌した。酢酸を1滴加えたあと
酢酸エチルエステルと飽和食塩水を加え、有機層を分離
した。
有機層を飽和食塩水で洗い硫酸マグネシウムで乾燥後溶
媒を減圧留去した。残漬をP、TLC(シリカゲル、塩
化メチレン:ジエチルエーテル=5:1)で精製し、(
+) −(7S、  9 S) −9−〇−(3°−N
−トリフルオロアセチル−α−L−ダウノサミニル)−
7−アセチル−5,7゜9.10−テトラヒドロキシ−
6,7,8,9−テトラヒドロアントラ[2,3−b]
チオ、エン−4,11−ジオンの赤色結晶(4,9mg
、  28%)を得た。Bも同様にして塩化メチレン−
メタノール(0,5ml−511)溶液にθ、I N水
酸化ナトリウム(0,18+al)を加え以下Aの場合
と同様の操作を行なうことにより(−) −()R,9
R)−9−0−(3’−N−トリフルオロアセチル−α
−L−ダウノサミニル)−7−アセチル−5゜フ、9.
10−テトラヒドロキシ−6、フ、8゜9−テトラヒド
ロアントラ[2,3−b]チオフェン−4,11−ジオ
ンの赤色結晶(6,3tag。
36%)を得た。
上記Aより得えられた上記最終生成物について次の分析
データを得た。
融点:145〜150℃(CC14− CHCIs) [α]  −+152° (CHCIs、 C−0,0
5)[θ1 ”” ”−1,ISX 10’  (C*
 Hs OH)9s IR(C)ICIs) cl−’  : 1720.1
600’H−NMR(CDCIs、500M)IZ) 
 δ :1.31(1)1.d、J−6,6Hz)  
      6°−CH。
1.84(1)1.  td、  J−13,5,4,
0H2)   2’−H2,01(IH,dd、  J
−13,5,5,0)1り   2°−H2,14(I
H,dd、  J−15,4,4,48Z)   8−
H2,33(IH,dt、  J−15,4,2,0H
z)   8−H2,42(3H,S)       
       −C)lsc02.98(IH,d、 
 J−19,1)1x)       6 −H3,2
7(1)1.  dd、  J−19,1,2,0H2
)   6−H3,68(IH,り         
     7−0H4,2−4,3(IH,m)   
          3°−H4,28(IH,q、 
 J=6.68x)        5’−H5,24
(18,brd、J−2,OHz、シtzz−8H2)
9−H5,48(IH,d、 J=4.0Hz、  Z
l+7z−78Z)1°−H6,85(IH,brd、
  J−8,1Hz)      −NHCOCF37
.74(1M、  d、  J−5,IHx)    
    Ar−H7,80(18,d、  J−5,I
Hx)        Ar−Hl3.23(LH,s
)              Ar−0)113.2
7(LH,s)              Ar−O
H前前記上り得られた前記最終生成物について次の分析
データを得た。
融点:109〜115℃(CC14、 CHCl5) [a]   −258° (CMCIs 、  C=0
.05)[el  ”  ”  m+1.37xlO’
   (C*  Is  0H)211!1 1R(CHCIs) cm−’  : 1720.16
00’H−NMR(CDCIs、 500MHz)  
δ:1.28(IH,d、 JII6.6Hz)   
   6°−CH3I、138(1)1. td、 J
−13,5,5,0Hz)  2’−Hl、95(LH
,dd、 J−15,4,3,7Hz)  8−Hl、
85−2.0(IH,m)         2°−H
2,40(3H,S)           −CDC
Is2.44(1)1. brd、 J−15,4)1
x)    8−H3,04(IH,d、  J−19
,1Hz)          6 −H3,30(I
H,dd、 J=19.1.1.5Hz)  6−H3
,61(IH,brs)          7−0)
14.27−4.34(1)1.11)       
 3°−H4,47(IH,q、  JJ、6Hz) 
          5°−H5,34(IH,d、 
J−3,7Hz、 u +zz−7H2)1’−85,
52(IH,t、  J=3.OHx、  シI/2−
7H2)9−H6,67(IH,brd、 J−8,1
Hz)      −NHCOCF37.75(IH,
d、J−5,IH2)        ^r−H7,8
1(IH,d、J−5,1)IZ)        ^
r−H13,24(IH,S)           
   Ar−0)113.42 (IH,s)    
          ^r−OH化アミノ糖アミノ糖残
基を次の通り行なった。
窒素気流下、モレキュラーシーブ4A(0,2g)及び
3−N−トリフルオロアセチル−1,4−ビス(o−p
−ニトロベンゾイル)−し−ダウノサミン(17,0m
g、 0.031ミリmol)の無水塩化メチレン(°
6m1)と無水ジエチルエーテル(2all)の懸濁液
に、−40℃でTMSOTf (0,012履1.0.
062 II)を加え、−5℃で1時間攪拌してから一
15℃に冷却後、(±)−8−アセチルーシス−5,8
,8,10−テトラヒドロキシ−6、フ、8.9−テト
ラヒドロアントラ[2゜3−b〕チオフェン−4,11
−ジオン(10,6mg、 0.027ミリmol)の
無水塩化メチレン(5ml)溶液を加え、同温度で6時
間攪拌した0反応液を酢酸エチルエステル(1811)
と飽和の炭酸水素ナトリウム水溶液(16■l)と混合
して激しく攪拌した後、有機層を分離して、水層から酢
酸エチル(8ml)で抽出した。有機層を併せて飽和食
塩水で2回洗浄した後乾燥して、溶媒を減圧留去した。
残漬をP、TLC,(塩化メチレン:ジエチルエーテル
−10:1)で精製し1.2つの粗生成物を得た。粗生
成物の1つを塩化メチレン(0,5m1)及びメタノー
ル(5ml)の混合液に溶かし、窒素気流下、0.I 
N水酸化ナトリウム(0,0511)を0℃で加え、3
0分間攪拌した。酢酸を1滴加え、次に酢酸エチルエス
テル(10ml)と飽和食塩水(5ml)を加えて有機
層を分離した。飽和食塩水で洗浄後乾燥して、溶媒を減
圧留去した。残渣をP、TLC,(塩化メチレン:ジエ
チルエーテル−5=1)で精製し、赤色結晶C即ち(+
)−(BS、8S)−6−0−(3°−N−トリフルオ
ロアセチル−α−L−ダウノサミニル)−8−アセチル
−5,6,8,10−テトラヒドロキシ−6,7,8,
9−テトラヒドロアントラ[2,3−b]チオフェン−
4,11−ジオン(2,OB、  12%)を得た。同
様にしてもう1つの粗生成物より赤色結晶り即ち(−)
−(6R。
8 R) −6−〇 −(3°−N−トリフルオロアセ
チル−α−L−ダウノサミニル)−8−アセチル−5,
6,8,10−テトラヒドロキシ−6゜7.8.9−テ
トラヒドロアントラ(2,3−b]チオフェン−4,1
1−ジオン(6,5l11g。
38%)を得た。
上記最終生成物Cについて次の分析データを得た。
融点:147〜155℃(CC1a〜 CHCl5) [a]   −m+34° (CHCis 、  C=
0.05)[θ]    ”−3,97X10’  (
C21(10M)29!I IR(CHCIs)  cm−’  : 1720. 
161G”H−NMR(CDCIs、  500MHz
)  δ:1.31(IH,d、 J−6,6H2) 
       6°−CH。
1.83(IL  td、 J−13,2,4,4)1
z)   2°−H2,02(IH,dd、  J−1
3,5,5,5Hz)    2’−H2,14(18
,dd、 J−14,7,4,4Hz)   7−H2
,33(IH,td、  J−14,7,2,0Hz)
    7 −H2,42(38,S)       
       −CDCIs2.98(IH,d、  
J・19.IHz)       9−)13.27(
1)1.  dd、  J−19,1,2,0Hz) 
   9 −H3,67(IH,brd、 J=5.2
Hz)      8−0H4,20−4,31(2H
,m)        3°−H+5°−H5,25(
IH,q、J=2.0Hz、ν 、z2−8Hz)  
 6 −)15.49(1)1.d、J−4,0Hz、
ν 、7z−7Hz)   1°−)6.64(11(
、d、  JJ、+1Hz)           −
NHCOCFs7.74(IH,d、 J−5,1Hz
)       Ar−H7,81(IH,d、  J
−5,IHx)           Ar−H13,
04(IH,s)            Ar−0H
13,48(IH,s)              
Ar−OH前記最終生成物りについて次の分析データを
得た。
融点:137〜142℃(cc t4〜C)(C1,) [α]  冒−270° (CHC1s 、  C=0
.06)[θ]    −−8,I  XIO’  (
cm H,OH)IR((:HCl5) C11−’ 
 : 1720.1600’)I−NMR(CDCIs
、 500MHz)  δ:1.28(IH,d、 J
−6,6H2)      6°−CH31,84−1
,98(3H,I)     2’−H,2°−)1.
7−H2,40(3)1. s)          
 −CDCIs2.45(LH,brd、  J曽13
.9Hz)        7 −H3,03(IH,
d、  J−19,1Hz)          9 
−)13.29(1)1. dd、 J−19,1,1
,5H2)  9−H3,61(1B、 brd、 J
−5,IH2)     8−0H4,27−4,34
(18,l)        3°−H4,48(IH
,q、 J=6.6Hz)       5°−H5,
34(1)1.d、J−3,0Hz、ν5z2−7)1
z)  1’−H5.52(18,t、J−2,2Hz
、υ +72鴫7H2)   6−H[i、61i(I
H,brd、 J−8,8NZ)      −NHC
OCFs7.74(1)1.  d、  J−5,1)
1z)        Ar−)17.82(IH,d
、J−5,1Hz)        ^r−H13,0
4(IH,s)              ^r−O
H13,63(IH,S)             
 Ar−OH実施例9 ピラニル基)の合成を次の通り行なった。
窒素気流下(±)−ツーアセチル−シス−5゜7.9.
10−テトラヒドロキシ−6,7,8゜9−テトラヒド
ロアントラ[2,3b]チオフェン−4,11−ジオン
(11,6mg、 Q、O31ミリmat)の無水塩化
メチレン(5+sl)溶液に3.4−ジヒド0−2H−
ピラン(3,1rag、 0.037 ミリmol)、
パラトルエンスルホン酸(0,5mg)を加え、室温で
25分間攪拌した0反応液を塩化メチレンと飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液との懸濁液中に激しく攪拌しながら
注ぎ有機層を分離し、水洗の後硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去した。残漬をP、TLC(塩化メチレン
:ジエチルエーテル−10: 1)で精製しく±)−9
−0−テトラヒドロピラニル−7−アセチル−5,7,
9,10−テトラヒドロキシ−6,7,8,9−テトラ
ヒドロアントラ[2,3−blチオフェン−4゜11−
ジオンの赤色結晶(5,0mg、  35%)を得た。
上記最終生成物について次の分析データを得た。
融点=186〜188℃(CHC13−CCl a ) IR(CHCIs) CI−”  : 1710.16
10’H−NMR(CDCIs、 500MHz)  
δ:L、1lS−1.95(6に、 a+)   ’l
°−)12,3°−)!2,4°−)122.05(I
H,dd、 J=14.7.3.7Hz)  8−H2
,44(3)1. !i)           −C
OCHs2.58(IH,dd、 J−14,7,2,
28Z)   8−H2,99(IH,d、  J=1
9.1Hz)       6−H3,24(11(、
dd、  J−19,1,2,2)1り   6−)1
3.63−3.87(IH,m)          
 5 −H3,99−4,03(IH,l)     
      5 −H4,98(IH,s)     
         7 −0H5,15(IH,q、J
−2,2H2,シ+zz−8H2)1°−H,9−H5
,29(IH,q、J−2,2Hz、シ、、、−8Hz
) 1°−H,9−H7,73(IH,d、  J−5
,1Hz)        Ar−)17.79(IH
,d、  J=5.1Hz)        Ar−)
113.25 (2H,S)            
 ^r−OHX 2[発明の効果] 本発明における含硫黄ヘテロアントラサイタリン誘導体
は副作用の少ない制癌剤としてすぐれた薬効が期待され
、またトリ(低級)アルキルシラン誘導体含硫黄ヘテロ
アントラサイクリンを製造すると籾の中間体として有効
である。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Aは▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式
    、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等が
    あります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼[但しR^1はトリ
    (低級)アルキルシリル基を意味する]よりなる群から
    選ばれる基を表わし、またR^2はアセチル基若しくは
    トリ(低級)アルキルシリルエチニル基であってR^2
    がアセチル基のときはR^3は水素、水酸基または式−
    O−R^4(式中R^4は糖残基)を意味し、R^2が
    トリ(低級)アルキルシリルエチニル基のときはR^3
    は水素を意味する) で示されることを特徴とする含硫黄ヘテロアントラサイ
    クリン誘導体。
  2. (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IX) (式中A^1は▲数式、化学式、表等があります▼若し
    くは▲数式、化学式、表等があります▼ [但しR^1はトリ(低級)アルキルシリル基を意味す
    る]を表わす) で示される含硫黄ヘテロアントラサイクリンのトリ(低
    級)アルキルシリル誘導体に脱シリル化剤を反応させる
    ことにより 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(X) (式中A^2は▲数式、化学式、表等があります▼若し
    くは▲数式、化学式、表等があります▼を表わす)で示
    される含硫黄ヘテロアントラサイクリン誘導体を製造す
    ることを特徴とする含硫黄ヘテロアントラサイクリン誘
    導体の製造方法。
  3. (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中A^1は前と同じ意味) で示される縮合環トリオン化合物に 一般式 HC≡C−R^1(III) (式中R^1は前と同じ意味) で示されるトリ(低級)アルキルシリルアセチレンを反
    応させて 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中A^1及びR^1は前と同じ意味) で示される含硫黄ヘテロアントラサイクリンのトリ(低
    級)アルキルシリルエチニル誘導体とし、次いでこれを
    水和反応に付して 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中A^1は前と同じ意味) で示されるアセチル置換縮合環化合物とし、更にこれに 一般式 HO−D−OH(VI) (式中Dは低級アルキレン基を意味する) で示されるアルキレングリコール類を反応させて一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) (式中A^1及びDは前と同じ意味) で示されるヒドロキシケタール化合物とし、次いでこれ
    にラジカル形成試薬と共にハロゲン化剤を反応させた後
    、ヒドロキシ置換反応を行なうことにより 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) (式中A^1及びDは前と同じ意味) で示されるジヒドロキシケタール化合物とした後、更に
    これに脱ケタール化剤を反応させることにより前記一般
    式(IX)で示される含硫黄ヘテロアントラサイクリンの
    トリ(低級)アルキルシリル誘導体とし、更にこれに脱
    シリル化剤を反応させることにより前記一般式(X)で
    示される含硫黄ヘテロアントラサイクリン誘導体を製造
    することを特徴とする含硫黄ヘテロアントラサイクリン
    誘導体の製造方法。
  4. (4)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(X I ) (式中A^2及びDは前と同じ意味) で示されるヒドロキシケタール化合物にラジカル形成試
    薬と共にハロゲン化剤を反応させた後、ヒドロキシ置換
    反応を行なうことにより 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XII) (式中A^2及びDは前と同じ意味) で示されるシリル保護基のないジヒドロキシケタール化
    合物とした後、更にこれに脱ケタール化剤を反応させる
    ことにより前記一般式(X)で示される含硫黄ヘテロア
    ントラサイクリン誘導体を製造することを特徴とする含
    硫黄ヘテロアントラサイクリン誘導体の製造方法。
  5. (5)前記一般式(VII)で示されるヒドロキシケター
    ル化合物に脱シリル化剤を反応させることにより 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(X I ) (式中A^2及びDは前と同じ意味) で示されるヒドロキシケタール化合物とし、次いでこれ
    にラジカル形成試薬と共にハロゲン化剤を反応させた後
    、ヒドロキシ置換反応を行なうことにより 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XII) (式中A^2及びDは前と同じ意味) で示されるシリル保護基のないジヒドロキシケタール化
    合物とした後、更にこれに脱ケタール化剤を反応させる
    ことにより前記一般式(X)で示される含硫黄ヘテロア
    ントラサイクリン誘導体を製造することを特徴とする含
    硫黄ヘテロアントラサイクリン誘導体の製造方法。
  6. (6)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XIII) (式中A^2は前と同じ意味) で示される縮合環トリオン化合物に前記一般式(III)
    で示されるトリ(低級)アルキルシリルアセチレンを反
    応させて 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XIV) (式中A^2及びR^1は前と同じ意味) で示される含硫黄ヘテロアントラサイクリンのトリ(低
    級)アルキルシリルエチニル誘導体とし、次いでこれに
    水和反応に付して 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XV) (式中A^2は前と同じ意味) で示されるアセチル置換縮合化合物とし、更にこれに前
    記一般式(VI)で示されるアルキレングリコール類を反
    応させて、前記一般式(X I )で示されるヒドロキシ
    ケタール化合物とし、次いでこれにラジカル形成試薬と
    共にハロゲン化剤を反応させた後、ヒドロキシ置換反応
    を行なうことにより前記一般式(XII)で示されるシリ
    ル保護基のないジヒドロキシケタール化合物とした後、
    更に脱ケタール化剤を反応させることにより、前記一般
    式(X)で示される含硫黄ヘテロアントラサイクリン誘
    導体を製造することを特徴とする含硫黄ヘテロアントラ
    サイクリン誘導体の製造方法。
  7. (7)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(Xa) (式中Aは前と同じ意味) で示される含硫黄ヘテロアントラサイクリン誘導体をグ
    リコシル化して 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(Xb) (式中Aは前と同じ意味、R^4は糖残基)で示される
    配糖体を製造することを特徴とする含硫黄ヘテロアント
    ラサイクリン誘導体の製造方法。
  8. (8)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XVI) (式中Aは前と同じ意味) で示される含硫黄ヘテロアントラサイクリン誘導体のト
    ランス−ジヒドロキシ体を異性化して、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XVII) (式中Aは前と同じ意味) で示される含硫黄ヘテロアントラサイクリン誘導体のシ
    ス−ジヒドロキシ体を製造することを特徴とする含硫黄
    ヘテロアントラサイクリン誘導体の製造方法。
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