JPS633085Y2 - - Google Patents
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- JPS633085Y2 JPS633085Y2 JP2258983U JP2258983U JPS633085Y2 JP S633085 Y2 JPS633085 Y2 JP S633085Y2 JP 2258983 U JP2258983 U JP 2258983U JP 2258983 U JP2258983 U JP 2258983U JP S633085 Y2 JPS633085 Y2 JP S633085Y2
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- plate
- ion source
- ring
- aperture plate
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- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案は大気圧イオン化(API)イオン源を備
えた質量分析装置に用いて好適なアパーチヤ板の
交換機構に関するものである。[Detailed Description of the Invention] The present invention relates to an aperture plate exchange mechanism suitable for use in a mass spectrometer equipped with an atmospheric pressure ionization (API) ion source.
APIイオン源を用いた質量分析装置において
は、大気圧のイオン源で出来たイオンを高真空の
質量分析装置内部に導入する必要があり、従来例
えば第1図に示す様に両者の間にアパーチヤ板を
配置する構成が知られている。図において1は
APIイオン源、2は該APIイオン源で生成された
イオンを質量分析する四重極質量分析装置、3は
該質量分析装置内部を排気する拡散ポンプ、4は
高真空の質量分析装置と大気圧のイオン源を結ぶ
中間接続室、5は接続室4内部を排気するロータ
リポンプ、6は接続室4とイオン源1の間に設け
られたアパーチヤ板、7は大気側から流入するガ
スや不要な溶媒等を減少させるために接続室4と
質量分析装置との間に設けられたスキマーであ
る。 In a mass spectrometer using an API ion source, it is necessary to introduce ions produced by an ion source at atmospheric pressure into the mass spectrometer in a high vacuum. A configuration in which plates are arranged is known. In the figure, 1 is
API ion source, 2 is a quadrupole mass spectrometer that performs mass spectrometry on ions generated by the API ion source, 3 is a diffusion pump that exhausts the inside of the mass spectrometer, 4 is a high vacuum mass spectrometer and atmospheric pressure 5 is a rotary pump that exhausts the inside of the connection chamber 4, 6 is an aperture plate provided between the connection chamber 4 and the ion source 1, and 7 is an intermediate connection chamber that connects the ion sources from the atmosphere side. This is a skimmer installed between the connection chamber 4 and the mass spectrometer to reduce solvent and the like.
この様な質量分析装置においては、圧力差を維
持するためにアパーチヤ板6に開けられるアパー
チヤの径が極めて小さく、試料による目づまり等
が起こり易いので、清掃又は交換のためにアパー
チヤ板を頻繁に取外す必要があり、従来はそのた
びに真空ポンプを停止させ、作業を行つていた。
そのため、交換乃至清掃作業終了後、再び装置が
高真空になるまで長時間を要する結果となつてい
た。 In such a mass spectrometer, the diameter of the aperture made in the aperture plate 6 to maintain the pressure difference is extremely small, and clogging with samples is likely to occur, so the aperture plate must be removed frequently for cleaning or replacement. It needed to be removed, and in the past, the vacuum pump had to be stopped each time the work was done.
As a result, it takes a long time for the device to return to high vacuum again after replacement or cleaning.
本考案はこの点に鑑みてなされたものであり、
真空を破ることなくアパーチヤ板の交換を行うこ
とのできる機構を提供するものである。 This invention was made in view of this point,
To provide a mechanism that allows an aperture plate to be replaced without breaking the vacuum.
本考案は、開口を有する基体と、該基体の表面
に該開口を2重に包囲する如く配置された2つの
Oリングと、開口部を有し該開口部を封止する如
くアパーチヤ板が取付けられる保持板とから成
り、前記保持板を前記Oリングを介して前記基体
に滑動可能に密着させると共に、前記2つのOリ
ングの間に前記保持板の開口部が同時に2つのO
リングにかかることがないようなスペースを設け
たことを特徴としている。以下本考案の一実施例
を添付図面に基づき詳述する。 The present invention includes a base having an opening, two O-rings arranged on the surface of the base so as to double surround the opening, and an aperture plate having an opening and attached to seal the opening. The retaining plate is slidably brought into close contact with the base body through the O-ring, and the opening of the retaining plate is connected between the two O-rings so that two O-rings can be attached at the same time.
It is characterized by a space that does not cover the ring. An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.
第2図は本考案の一実施例の構成を示す断面図
であり、第1図と同一の構成要素には同一番号が
付されている。図において8は接続室4と質量分
析装置とを仕切る隔壁で、スキマー7が取付けら
れている。9は該接続室4とAPIイオン源とを仕
切る隔壁で、イオンを通過させる開口10を有し
ている。該隔壁9のイオン源側の表面には、第3
図に示す様に開口10を囲んで2重の溝が設けら
れ、該溝に夫々Oリング11,12が埋め込まれ
ている。13はアパーチヤ板を保持する保持板
で、イオンを通過させる開口14を有し、アパー
チヤ板6は該開口14を封止する様に押えリング
15によつて該保持板13に取付けられている。
そして、前記保持板13は隔壁9に密接して配置
されると共に、図示しないスライド機構により密
接状態を保つたまま矢印方向にスライド可能に設
けられている。 FIG. 2 is a sectional view showing the configuration of an embodiment of the present invention, and the same components as in FIG. 1 are given the same numbers. In the figure, 8 is a partition wall that partitions the connection chamber 4 and the mass spectrometer, and a skimmer 7 is attached to it. Reference numeral 9 denotes a partition wall that partitions the connection chamber 4 and the API ion source, and has an opening 10 through which ions pass. On the surface of the partition wall 9 on the ion source side, a third
As shown in the figure, a double groove is provided surrounding the opening 10, and O-rings 11 and 12 are embedded in the grooves, respectively. Reference numeral 13 denotes a holding plate for holding the aperture plate, which has an opening 14 through which ions pass, and the aperture plate 6 is attached to the holding plate 13 by a retaining ring 15 so as to seal the opening 14.
The holding plate 13 is disposed in close contact with the partition wall 9 and is slidable in the direction of the arrow while maintaining the close contact by a slide mechanism (not shown).
上述の如き構成において、隔壁9と保持板13
との間はOリング11によつてシールされるた
め、接続室4とイオン源はアパーチヤ板6に開け
られた微小径のアパーチヤを介して連通し、ロー
タリーポンプ5により排気されている接続室4と
大気圧のイオン源との圧力差は該アパーチヤによ
り維持される。そして、APIイオン源において生
成されたイオンは該アパーチヤを介して接続室4
へ導かれ、更にスキマー7を介して質量分析装置
内へ導入される。 In the above configuration, the partition wall 9 and the retaining plate 13
Since the connection chamber 4 and the ion source are sealed by the O-ring 11, the connection chamber 4 and the ion source communicate with each other through a small diameter aperture made in the aperture plate 6, and the connection chamber 4 is evacuated by the rotary pump 5. A pressure difference between the ion source and the atmospheric pressure ion source is maintained by the aperture. Ions generated in the API ion source pass through the aperture into the connection chamber 4.
and further introduced into the mass spectrometer via the skimmer 7.
長時間の使用によりアパーチヤの目づまり等が
起こりアパーチヤ板を交換する場合は、前記スラ
イド機構により保持板13を矢印方向に移動さ
せ、第4図の状態にすれば、接続室4とイオン源
との間は保持板13とOリング11により仕切ら
れるため、イオン源側からガスが接続室4に流入
することはなく、真空ポンプ等はそのままの状態
でアパーチヤ板6の交換を行うことが出来る。第
2図の状態から第4図の状態に移る途中で、保持
板13の開口14がOリング11を越える時Oリ
ング11によるシールがなくなるが、その外側に
Oリング12が設けられているため、接続室4に
イオン源側からガスが流入することはない。 If the aperture plate becomes clogged due to long-term use and the aperture plate needs to be replaced, move the holding plate 13 in the direction of the arrow using the slide mechanism to bring it into the state shown in Fig. 4. Since the space between them is partitioned by the holding plate 13 and the O-ring 11, gas will not flow into the connection chamber 4 from the ion source side, and the aperture plate 6 can be replaced while the vacuum pump and the like remain in place. During the transition from the state shown in FIG. 2 to the state shown in FIG. 4, when the opening 14 of the holding plate 13 passes over the O-ring 11, the seal by the O-ring 11 is lost, but since the O-ring 12 is provided on the outside, , gas does not flow into the connection chamber 4 from the ion source side.
尚、Oリング11とOリング12との間には、
アパーチヤ板6が移動してくる部分に、少くとも
開口14がOリング11とOリング12に同時に
かからないようなスペースが必要であることは言
うまでもない。 In addition, between the O-ring 11 and the O-ring 12,
It goes without saying that at least a space is required in the area where the aperture plate 6 moves so that the opening 14 does not overlap the O-rings 11 and 12 at the same time.
上述した実施例ではOリング12を基体となる
隔壁9に設けた溝に固定したが、Oリングよりも
薄い板で外側からおさえるようにしても良い。 In the embodiment described above, the O-ring 12 is fixed in a groove provided in the partition wall 9 serving as the base, but it may be held from the outside by a plate thinner than the O-ring.
本考案は上述した例の様な接続室4が存在せ
ず、アパーチヤを介して直接質量分析装置にイオ
ンが導入される装置であつても実施することが出
来、更にはアパーチヤ板で圧力差のある2つの領
域を仕切る装置に広く実施可能である。 The present invention can be implemented even in an apparatus in which the connection chamber 4 as in the above-mentioned example does not exist and ions are directly introduced into the mass spectrometer through an aperture. It is widely applicable to devices that partition two areas.
以上詳述した如く本考案によれば、簡単な構成
で真空を破ることなくアパーチヤ板を交換するこ
との出来るアパーチヤ板交換機構が実現される。 As described in detail above, according to the present invention, an aperture plate exchange mechanism is realized with a simple configuration that allows an aperture plate to be exchanged without breaking the vacuum.
第1図は従来例の構成を示す図、第2図及び第
4図は本考案の一実施例の構成を示す断面図、第
3図は2つのOリングの配置を説明するための図
である。
1:APIイオン源、2:四重極質量分析装置、
4:中間接続室、6:アパーチヤ板、9:隔壁、
10,14:開口、11,12:Oリング、1
3:保持板。
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of a conventional example, FIGS. 2 and 4 are cross-sectional views showing the configuration of an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a diagram for explaining the arrangement of two O-rings. be. 1: API ion source, 2: quadrupole mass spectrometer,
4: Intermediate connection chamber, 6: Aperture plate, 9: Partition wall,
10, 14: Opening, 11, 12: O ring, 1
3: Holding plate.
Claims (1)
2重に包囲する如く配置された2つのOリング
と、開口部を有し該開口部を封止する如くアパー
チヤ板が取付けられる保持板とから成り、前記保
持板を前記Oリングを介して前記基体に滑動可能
に密着させると共に、前記2つのOリングの間に
前記保持板の開口部が同時に2つのOリングにか
かることがないようなスペースを設けたことを特
徴とするアパーチヤ板の交換機構。 a base body having an opening; two O-rings arranged on the surface of the base body so as to double surround the opening; and a holding plate having an opening and having an aperture plate attached thereto to seal the opening. The retaining plate is slidably brought into close contact with the base body via the O-ring, and the opening of the retaining plate is prevented from being exposed to the two O-rings at the same time between the two O-rings. An aperture plate exchange mechanism characterized by a space provided.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2258983U JPS59129161U (en) | 1983-02-18 | 1983-02-18 | Aperture plate replacement mechanism |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2258983U JPS59129161U (en) | 1983-02-18 | 1983-02-18 | Aperture plate replacement mechanism |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59129161U JPS59129161U (en) | 1984-08-30 |
| JPS633085Y2 true JPS633085Y2 (en) | 1988-01-26 |
Family
ID=30153682
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2258983U Granted JPS59129161U (en) | 1983-02-18 | 1983-02-18 | Aperture plate replacement mechanism |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59129161U (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3324422B1 (en) * | 2015-07-13 | 2019-08-07 | Shimadzu Corporation | Shutter |
-
1983
- 1983-02-18 JP JP2258983U patent/JPS59129161U/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59129161U (en) | 1984-08-30 |
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