JPS6331120B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6331120B2 JPS6331120B2 JP8689982A JP8689982A JPS6331120B2 JP S6331120 B2 JPS6331120 B2 JP S6331120B2 JP 8689982 A JP8689982 A JP 8689982A JP 8689982 A JP8689982 A JP 8689982A JP S6331120 B2 JPS6331120 B2 JP S6331120B2
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- Japan
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- protective layer
- photoresist substrate
- roller
- liquid
- photoresist
- Prior art date
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- Expired
Links
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Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフオトレジスト基板からその保護層を
除去するための処理装置に関するものである。
除去するための処理装置に関するものである。
従来フオトレジスト基板は銅張エポキシ樹脂シ
ートなどを基層とし、その片面または両面にレジ
ストインキ層と保護層とを順に積層した構成より
なり、これにパターンを露光した後、保護層を除
去し、ついで現像、エツチング処理するのが一般
的方法である。
ートなどを基層とし、その片面または両面にレジ
ストインキ層と保護層とを順に積層した構成より
なり、これにパターンを露光した後、保護層を除
去し、ついで現像、エツチング処理するのが一般
的方法である。
しかして従来の保護層としては水または有機溶
剤に可溶性の物質が使用されており、適当間隔を
置いて設けられた上下２列の回転ローラーの間を
これらフオトレジスト基板が搬送され、その間に
フオトレジスト基板の上下両面よりノズルから水
または有機溶剤を噴射して前記保護層を溶解除去
する方法が知られていた。この方法によると保護
層の除去そのものは円滑に行ないうるものの、液
中に保護層物質が溶解し、時間の経過とともにそ
の濃度が上昇し、その廃棄処理をいかにするかが
新たな問題となつている。
剤に可溶性の物質が使用されており、適当間隔を
置いて設けられた上下２列の回転ローラーの間を
これらフオトレジスト基板が搬送され、その間に
フオトレジスト基板の上下両面よりノズルから水
または有機溶剤を噴射して前記保護層を溶解除去
する方法が知られていた。この方法によると保護
層の除去そのものは円滑に行ないうるものの、液
中に保護層物質が溶解し、時間の経過とともにそ
の濃度が上昇し、その廃棄処理をいかにするかが
新たな問題となつている。
本出願人はかかる問題点を解決すべく検討を重
ねた結果、保護層として水に対して溶解すること
なく膨潤するポリビニルアルコール系樹脂を用
い、これを水と接触せしめるときは保護層が溶解
することなく膨潤することにより容易に脱落除去
され、しかも水中にはポリビニルアルコール系樹
脂が溶解しないので水の廃棄処理の問題が解決さ
れることを見出し特許出願を行なつた。ところが
この発明を前記のごとき処理装置を使つて実施し
たところ、除去された保護フイルムがときに下列
の回転ローラーにまつわり付き、連続運転の妨げ
となるという別の問題点が明らかとなつた。
ねた結果、保護層として水に対して溶解すること
なく膨潤するポリビニルアルコール系樹脂を用
い、これを水と接触せしめるときは保護層が溶解
することなく膨潤することにより容易に脱落除去
され、しかも水中にはポリビニルアルコール系樹
脂が溶解しないので水の廃棄処理の問題が解決さ
れることを見出し特許出願を行なつた。ところが
この発明を前記のごとき処理装置を使つて実施し
たところ、除去された保護フイルムがときに下列
の回転ローラーにまつわり付き、連続運転の妨げ
となるという別の問題点が明らかとなつた。
本発明者はかかる問題点を解決すべく検討した
結果、本発明を完成するに至つたのである。
結果、本発明を完成するに至つたのである。
本発明の装置の全体を第１図にもとづいて説明
する。従来のフオトレジスト基板の処理装置は適
当間隔を置いて設けられた上下２列の回転ローラ
ー１と２の間に挾まつて一方向に搬送される。搬
送される間にノズル４から液体が噴射されて、そ
のためフオトレジスト基板表面に積層されている
保護層は膨潤してフオトレジスト基板から脱離す
るのである。そこで本発明の特長は、保護層が脱
離する際にときに下列回転ローラー２にまつわり
付くことがあるのを防止することができる点にあ
り、その詳細は第２図より明らかである。
する。従来のフオトレジスト基板の処理装置は適
当間隔を置いて設けられた上下２列の回転ローラ
ー１と２の間に挾まつて一方向に搬送される。搬
送される間にノズル４から液体が噴射されて、そ
のためフオトレジスト基板表面に積層されている
保護層は膨潤してフオトレジスト基板から脱離す
るのである。そこで本発明の特長は、保護層が脱
離する際にときに下列回転ローラー２にまつわり
付くことがあるのを防止することができる点にあ
り、その詳細は第２図より明らかである。
すなわち回転ローラー２は内部が空洞になつて
おり、かつその表面に空洞からローラー表面に貫
通する小孔５が適当間隔を置いて設けられてい
る。そしてローラー２の一端より加圧した液体が
ローラー空洞内部に導入され、小孔５を径てロー
ラー２の表面に噴出する。噴出する際の液流また
は圧力でローラー２の表面にまつわり付いた保護
層はローラー２から遊離し落下するのでローラー
２にまつわり付くことが完全に防止できるのであ
る。
おり、かつその表面に空洞からローラー表面に貫
通する小孔５が適当間隔を置いて設けられてい
る。そしてローラー２の一端より加圧した液体が
ローラー空洞内部に導入され、小孔５を径てロー
ラー２の表面に噴出する。噴出する際の液流また
は圧力でローラー２の表面にまつわり付いた保護
層はローラー２から遊離し落下するのでローラー
２にまつわり付くことが完全に防止できるのであ
る。
さらに本発明を詳細に説明する。フオトレジス
ト基板は通常約20〜50cm×約10〜30cm程度の四角
形の自体保持性を有するシート状物であり、これ
を回転ローラー１および２の間に挾んで処理装置
内を搬送される。したがつて回転ローラーの間隔
はフオトレジスト基板の厚さによつて決定され、
少なくともフオトレジスト基板の巾以下の間隔が
必要となる。一般に下列ローラー２が動力により
回転駆動され、上列ローラー１は自重により回転
ローラー２上に載置され、互いに反対方向に回転
する。上下ローラーは必ずしも対になつている必
要はなく上列ローラー１の一部は省略することが
できる。回転ローラー１および２の材質は何れも
金属（ステンレス、アルミニウム等）、プラスチ
ツクス（ゴム、塩化ビニル樹脂、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレン等）などが採用さ
れる。回転ローラー２は内部が空洞となつてお
り、ローラー２の表面に貫通する小孔５を有す
る。小孔の径は通常0.6〜３mmの範囲から選択さ
れ、その間隔は１〜10cmの範囲から適当な値が選
択される。ローラー２の空洞内に導入する液体は
一般に0.05〜２Kg／cm2の範囲で加圧される。
ト基板は通常約20〜50cm×約10〜30cm程度の四角
形の自体保持性を有するシート状物であり、これ
を回転ローラー１および２の間に挾んで処理装置
内を搬送される。したがつて回転ローラーの間隔
はフオトレジスト基板の厚さによつて決定され、
少なくともフオトレジスト基板の巾以下の間隔が
必要となる。一般に下列ローラー２が動力により
回転駆動され、上列ローラー１は自重により回転
ローラー２上に載置され、互いに反対方向に回転
する。上下ローラーは必ずしも対になつている必
要はなく上列ローラー１の一部は省略することが
できる。回転ローラー１および２の材質は何れも
金属（ステンレス、アルミニウム等）、プラスチ
ツクス（ゴム、塩化ビニル樹脂、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレン等）などが採用さ
れる。回転ローラー２は内部が空洞となつてお
り、ローラー２の表面に貫通する小孔５を有す
る。小孔の径は通常0.6〜３mmの範囲から選択さ
れ、その間隔は１〜10cmの範囲から適当な値が選
択される。ローラー２の空洞内に導入する液体は
一般に0.05〜２Kg／cm2の範囲で加圧される。
かくして脱離、除去した保護層フイルムは処理
装置の下部に集められる。これについで金網、多
孔板等によつて保護フイルムと液体とに分離し、
液体はポンプ６によつてノズル４に循環使用する
ことができる。
装置の下部に集められる。これについで金網、多
孔板等によつて保護フイルムと液体とに分離し、
液体はポンプ６によつてノズル４に循環使用する
ことができる。
第１図は本発明の処理装置の全体を示す図であ
り、１および２は回転ローラー、３はフオトレジ
スト基板、４はノズル、６はポンプである。 第２図は回転ローラー２の見取図であり、５は
液体噴出用小孔である。
り、１および２は回転ローラー、３はフオトレジ
スト基板、４はノズル、６はポンプである。 第２図は回転ローラー２の見取図であり、５は
液体噴出用小孔である。
Claims (1)
- １ 適当間隔を置いて設けられた上下２列の回転
ローラー１，２の間を表面が保護層で被覆された
フオトレジスト基板３が搬送され、その間にフオ
トレジスト基板３の上下両面よりノズル４から液
体が噴射されて保護層を脱離除去するフオトレジ
スト基板の処理装置において、下列回転ローラー
２の表面に液体噴出用小孔を設けることを特徴と
するフオトレジスト基板の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8689982A JPS58204590A (ja) | 1982-05-22 | 1982-05-22 | フオトレジスト基板の処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8689982A JPS58204590A (ja) | 1982-05-22 | 1982-05-22 | フオトレジスト基板の処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58204590A JPS58204590A (ja) | 1983-11-29 |
| JPS6331120B2 true JPS6331120B2 (ja) | 1988-06-22 |
Family
ID=13899676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8689982A Granted JPS58204590A (ja) | 1982-05-22 | 1982-05-22 | フオトレジスト基板の処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58204590A (ja) |
-
1982
- 1982-05-22 JP JP8689982A patent/JPS58204590A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58204590A (ja) | 1983-11-29 |
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