JPS63312574A - 真空装置のゲ−トバルブ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の属する技術分野］ この発明はスパッタリング装置等の真空装置に使用され
るゲートバルブ装置に関する。

〔従来の技術］ 従来のゲートバルブ装置の構成を、スパッタリング装置
を例として説明する。

第４図はスパッタリング装置の概略構成を示す図であり
、（１）は要処理基板を挿入するとともに処理済の基板
を取り出す挿入取出室で、上部の蓋（２）がヒンジ機構
により開閉可能となっている。

（３）は台板で、この台板（３）上に複数の基板を取付
けた基板ホルダー（４）が載置されている。

（５）は搬送機構で、挿入取出室（，１）　　を排気し
て真空状態とした後、この挿入取出室（１）　　と隣接
する処理室（８）間に形成された細長い開口部（６）を
塞ぐゲートバルブ（７）を開放して基板ホルダー（４）
を処理室（８）に移送する。

処理室（８）内の下方には３個のターゲット電極ＴＩ　
　−Ｔ３　　（図示はＴＩ、Ｔ２　のみ）が設けられて
おり、上部には基板ホルダー（４）を取着する取着機構
（９）が設けられている。この取着機構（９）は椀を伏
せたような逆椀状の形状をしており、その先端には円周
上の３箇所にそれぞれ１２０度離して係止爪（９ａ）を
形成している。

このように構成された装置において、まず基板ホルダー
（４）に載置された基板は挿入取出室（１）の台板（３
）　　上に載置され、排気して真空状態となった後、ゲ
ートバルブ（７）を開放し、搬送機構（５）により処理
室（８）に移送される。

ここで、取着機４１　（０）　　の爪（９ａ）が基板ホ
ルダー（４）の外周をつかみ伺定する。この状態で基板
側電極（１０）及びターゲットｆｆｉ極Ｔｌ　−Ｔ３　
に高周波電源が印加され、スパッタリングが行なわれる
。

そして、スパッタリング処理が終了すると、再びゲート
バルブ（７）を開いて基板ホルダー（４）を挿入取出室
（１）　　に移送し、大気中へ取出される。

次に、従来のゲートバルブ装置の構成について第５図に
より説明する。

第５図において、　（１１）はゲートバルブ（７）に固
定されたローラであり、開口部（６）の左右側端に設け
られた一対のレール（１２）上を滑って移動可能となっ
ている。　（１３）は一対の腕リンクであり、傘歯車（
１４）がモータ（１５）により回動させられると。

この腕リンク（１３）が左右に開き、ゲートバルブ（７
）を上下に移動して開口部（６）を開閉するよう構成さ
れている。

そして、ゲーＩ・バルブ（７）の両端部を押圧手段（１
６）により押圧して開口部（６）を密閉するようにして
いる。

しかしながら、基板または基板ホルダー（５）の径が大
きくなり、Ｕ１１０部（６）の長さが長くなると、グー
１−バルブ（７）の両端部を押えるだけでは密着が不充
分となり、真空度が悪くなるという問題が生ずる。

このため、第６図のようにグー１〜バルブ（７）の背面
側にバックアツプ材（１７）を設け、このバックアツプ
材（１７）の中央部に調節ネジ（１８）を取付け。

この調節ネジ（１８）によりゲートバルブ（７）を湾曲
させ貞着性を向上するよう工夫されている。（特公昭６
２−１３５５１号公報）尚、　（１９）はシール用バッ
キングである。

【発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、このような調節ネジ（１８）を用いてゲ
ートバルブ（７）　　を湾曲させておくことは、長期に
わたってゲートバルブ（７）を変形させてしまい、また
、調節ネジ（１８）の緩み等により適切な密着性が得に
くいという問題点がある。

〔１１１題点を解決するための手段〕 この発明に係るゲートバルブ装置は、ゲートバルブの背
面両端部を押付シリンダ等の押圧手段により押圧すると
共に、中央あるいは中間部の所定位置をカムシリンダの
動作により変位する偏心カムにより密着力が必要な時だ
け押圧するようにしたものである。

［作　川］ この発明におけるゲートバルブ装はは、押圧手段がゲー
トバルブの背面両端部を押圧し、ゲートバルブを開口部
に押し付けた後、カムシリンダの作動により偏心カムが
ゲートバルブの中央あるいは中間部の所定位置を押圧す
ることにより、ゲートバルブは開口部に確実に密着され
る。また、押圧力の必要のない時には、カムは後退して
ゲートバルブに変形を与えない。

［発明の実施例］ 以下、第１図〜第３図によりこの発明の詳細な説明する
。

第１図はこの発明のゲートバルブ装置の概略構成を示す
斜視図、第２図は平面図、第３図（Ｑ）、（ｂ）は側面
図であり、従来の装置を示す第５図〜第６図と相当する
部分には同一符号を付して示している。

グー１−バルブ（７）は上下シリンダ（２０）の作動に
より上方向または下方向に移動し開口部（６）と対向す
る位置をとる。そして、押圧手段である押付シリンダ（
１６）によりゲートバルブ（７）の両端を押圧し、ゲー
トバルブ（７）を開口部（６）周囲に設けたバッキング
（１９）に圧接する。

（２１）はグー１−バルブ（７）の背面側に差渡された
軸棒（２２）に回動自在に設けられた偏心カムであり、
カムシリンダ（２３）の作動によりゲートバルブ（７）
背面中央を押圧するよう構成されている。

この偏心カム（２１）の作用について説明する。

第３図（ａ）は上下シリンダ（２０）を作動してグー１
−バルブ（７）を開口部（６）と対向する位置に移動し
た状態を示している。この状態ではカムシリンダ（２３
）は作動せず、ピン（２４）は長孔（２５）の先喘に位
置して偏心カム（２１）はゲートバルブ（７）の中央を
押圧することなくゲートバルブ（７）に変形を与えてい
ない、この状態で押圧手段（１６）によりゲートバルブ
（７）の両端を押圧してゲートバルブ（７）をバッキン
グ（１９）に圧接する。その後、カムシリンダ（２３）
を作動させることにより、カムシリンダ（２３）と連結
したピン（２４）が長孔（２５）の根元側へ移動し第３
図（ｂ）　　に示すように偏心カム（２１）がゲートバ
ルブ（７）の背面長手方向中央を押圧して中央部の押付
力を増強する。従って、ゲートノ（ルブの長手方向が長
くても、全体的に均一な押付力が得られる。

このように、上述の実施例に記載したゲートバルブ装置
によれば、常時ゲートバルブ（７）に変形を与えること
なく、開口部を密閉する時だけ偏、むカムを動作させて
ゲートバルブの長手方向中央の押圧力を増強できるので
、ゲートバルブを常時変形させてお〈従来のものに比べ
、ゲートノ（バルブを均等な力でバッキングに押圧でき
、摩耗力を均一となり寿命が延ばせる。

また、上記実施例ではゲートバルブの上下動をシリンダ
により行なっているので、第５図に示した従来例のよう
に傘歯車を使用するものに比べて摩耗等の問題がなく、
長期間安定した動作が得られる。

なお、上記実施例では、ゲートバルブの中央一箇所を偏
心カムにより押圧しているがこのような偏心カムを中間
部の所定位れに複数個設けても良く、このようにすれば
更に均一な押付力が得られる。

また、上記実施例ではスパッタリング装置を例に説明し
たが、他の真空装置にも適用できることはいうまでもな
い。

［発明の効果］ この発明によれば１ｇｔ段はゲートバルブに変形を与え
ずに開口部の密閉が必要な時のみ偏心カムによりゲート
バルブの長手方向中央あるいは所定の複数箇所に押圧力
を加えるので、従来ＲＡ置のようにゲートバルブの常時
変形による不具合や調節ネジの緩み等の問題がなく、長
期間にわたり適切な押付力が得られる。

従って、大径の基板を使用し開口部の長さが長い場合で
も、バッキングの摩耗は均一となり長期にわたり確実に
密閉動作が行なえるとに％う効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明のゲートバルブ装置を示す斜視図、第
２図及び第３図（ａ）、（ｂ）はゲートバルブ装置の偏
心カムの動作説明図、第４図番±この発明を適用するス
パッタリング装置の概略構成図、第５図、第６図は従来
のゲートバルブ装置の構成を示す説明図である。 図中　（１）・・・・挿入数出家、（４）・・・・基板
ホルダー、（６）・・・・開口部、（７）・・・・ゲー
トノくルブ。 （８）・・・・処理室、　（１６）・・・・押付シリン
ダ、　（１９）・・・・バッキング、　（２０）・・・
・上下シリンダ、　（２１）・・・・偏心カム、　（２
３）・・・・カムシリンダ第１２ 第２図 第３図 （α）（ｂ） 第４図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 真空状態にてスパッタリング等を施すための処理室と、
   この処理室と隣接した挿入取出室と、上記処理室と挿入
   取出室との間に設けられ基板等の要処理物を挿通するた
   めの細長い開口部と、この開口部を開閉するゲートバル
   ブとを備えた真空装置において、上記ゲートバルブが上
   記開口部に対向する状態となった後上記ゲートバルブの
   長手方向中間部を偏心カムにより押圧するようにしたこ
   とを特徴とする真空装置のゲートバルブ装置。