JPS6332511B2 - - Google Patents

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JPS6332511B2
JPS6332511B2 JP55050232A JP5023280A JPS6332511B2 JP S6332511 B2 JPS6332511 B2 JP S6332511B2 JP 55050232 A JP55050232 A JP 55050232A JP 5023280 A JP5023280 A JP 5023280A JP S6332511 B2 JPS6332511 B2 JP S6332511B2
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JP
Japan
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edge
web
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JP55050232A
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English (en)
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JPS55139865A (en
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Sutefuaan Uiransan Kareru
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Agfa Gevaert NV
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Agfa Gevaert NV
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Publication date
Application filed by Agfa Gevaert NV filed Critical Agfa Gevaert NV
Publication of JPS55139865A publication Critical patent/JPS55139865A/ja
Publication of JPS6332511B2 publication Critical patent/JPS6332511B2/ja
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/34—Applying different liquids or other fluent materials simultaneously
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • G03C2001/7455—Edge bead nonuniformity coated at the border
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • G03C2001/7492—Slide hopper for head or curtain coating
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S118/00—Coating apparatus
    • Y10S118/04—Curtain coater

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はスライドホツパー型多層被覆法および
装置にかかり、就中被覆組成物の層群がスライド
ホツパー塗布ヘツドの滑り面にそつて滑り落ち移
動ウエブ材料に適用される時これらの層でのビー
ドエツジの形成を低減乃至は防止することに関す
るものである。
一般に被覆ウエブ、フイルム等の製造において
は標準的な均一な厚みの連続構造のものを製造す
ることが設備ならびに原材料の最適利用という点
から望ましいことである。しかしながらスライド
ホツパー手段により１層あるいは多層の被覆をウ
エブに対し連続法で適用する場合過剰の被覆材料
が被覆域の端縁に滞積し所謂エツジビードを形成
する。また時にはエツジビードに隣接する区域に
被覆材料の不足を生じることがある。そのため一
定量の被覆材料でもつて製造せられる合格品質の
被覆ウエブの量が予定量より少なくなる。
被覆ウエブの製造に用いられる多くの被覆組成
物例えば写真感光フイルム材料の製造に用いられ
る被覆組成物は比較的高価で回収するとしてもウ
エブの不良被覆部分から比較的複雑かつ高価な方
法を用いる場合にのみ回収可能であるにすぎな
い。
さらにまたエツジビード形成による被覆の厚み
が変わることは該被覆を最適製品特性とするため
正確な時間および／または温度のパラメーター内
で急冷させ乾燥させることが要求される場合悪影
響をおよぼす。例えば写真フイルムの製造の際、
被覆幅の中心部分よりも厚みが大きい被覆のエツ
ジビード域では比較的長い乾燥時間および／また
はより高い乾燥温度勾配を必要とする。従つて連
続被覆法においてこういつた被覆の欠点がある場
合にはより複雑な冷却装置および／または乾燥装
置を用いたりおよび／または欠点のない場合に比
し被覆速度をよりゆつくりする必要がある。エツ
ジビードを確実に乾燥させるため乾燥能力を大に
することは通常被覆幅の中心部分が過度に加熱さ
れることを意味し製品が害なわれることになる。
感光性写真材料の場合、過度の加熱はセンシトメ
トリー特性の変化を生来する傾向がある。
エツジビード形成の別の影響として、被覆ウエ
ブを巻き取つてロールにする場合ビードエツジの
ため逐次うず巻が互いに不安定に支持され、運
送、他の被覆の適用、欠陥部の検査、切断等のた
めのあとの取扱い時にうず巻群が互いに横方向に
滑りやすくなる。感光性材料の場合ロールがこの
ように竹の子状になることはロール全体を破損し
使用不能のものになす傾向がある。
被覆技術分野においてウエブ被覆を行なうのに
ドクターナイフ、スクレーパー、カレンダーロー
ラー等の如き機械装置を用いることは公知であ
る。しかしながら写真材料製造時に必要とされる
ような多数の比較的薄い脆い被覆層をウエブ上に
作る場合、こういつた装置ではエツジビード形成
の問題を解決することはできない。新しく被覆さ
れたウエブの端縁域を真空にし、エツジビードに
おける材料の一部分を吸引除去しエツジビード形
成を防止することが提案され、また前記端縁域上
に水のジエツトを指向させることによりかかる吸
引力の作用を補助することも提案された。しかし
ながらこれら提案の何れも満足すべきものではな
かつた。
従つて本発明の目的はエツジビード形成をより
容易に回避あるいは低減せしめうる新規なるスラ
イドホツパー型多層被覆法および装置を提供する
にある。
本発明に従えば液状被覆組成物を二つあるいは
それ以上の互いに平行している送出しスロツト群
のそれぞれを通じ傾斜表面に供給しその表面上で
スロツトを離れる定量組成物が下方へと移動する
層群を作り、これらの層は互いに重なり合つてか
かるスロツト群と平行している横方向末端エツジ
で該表面を離れ移動ウエブ上へと送られるスライ
ドホツパー型多層ウエブ被覆法であり、最上スロ
ツトから降下する層の幅が他の層あるいは少なく
とも１層の他の層の幅よりは大であるがかかる他
の層のいずれかの幅だけ大となることはない特徴
を有する方法が提供せられる。
本発明にかかる方法はビード被覆に好適であ
る。
ビード被覆においては、被覆組成物のビードが
スライドホツパーの末端エツジと該末端エツジに
非常に接近しある間隔をおいて移動せられるウエ
ブの自由面の間に作られる。被覆速度が大である
場合にもビードを横切つての圧力差が安定ビード
を保持する。エツジビードの形成と共にネツクイ
ンが、ビードが空気中に自由支持されている区域
全体にわたり生じる。該エツジビードは通常フイ
ルム例えばセルローズトリアセテートあるいはポ
リエチレンテレフタレートフイルムの刻み付端縁
域で塗布され、乾燥工程のあと刻み付エツジ間に
位置したフイルムの全幅をスリツトし、シート、
ストリツプあるいはフイルム小ロールに切断すべ
く使用することができる。
エツジビードの別の主因はホツパー自身にあ
る。というのは層が被覆ホツパーのスライド面に
送出しスロツトから出てくる時そのエツジ部は既
に層の中心部よりは幾分厚くなつているからであ
る。この現象は前記の層がスライド面を流れおち
る時増幅される。というのは層のエツジがスライ
ド面上のエツジガイドと湿潤接触すると層のエツ
ジ部分の厚みがさらに増大する傾向があるからで
ある。
本発明方法はまたこれらの層がスライドホツパ
ーで作られるカーテン被覆にも好適である。カー
テン被覆においては組合わせ層群はそれらがカー
テン中を移動せしめられるウエブに衝突するまで
に末端エツジから通常３〜20cmの距離にわたり自
由流下せしめられる。ウエブに適用される層群は
それぞれ明瞭に区別された関係に保たれる。通常
自由落下カーテンのネツクインを防止するためエ
ツジガイドがもうけられ、それによりこの段階で
のエツジビードの形成も低減せしめる。
上述の如き本発明にかかる相対的な被覆層幅条
件を守ることによりエツジビードの形成は回避あ
るいは低減せしめられる。被覆さるべき表面の材
料ならびに被覆材料を当然含めある一定状況下で
の最良の結果を得るため、最上層の幅がどの程度
他の相（群）あるいは他の幅の広いあるいは最も
幅の広い層の幅より大でなければならぬかは簡単
な試験で決定することができる。一般にその超過
量は最上層がかかる他の層（群）の各側端から横
方向に少なくとも３mm突出するような量であるこ
とが好ましい。こうすると幾分かの偶発的層幅変
動があつても精度制御の困難な問題を回避するに
充分な余裕がある。好ましくは最上層の前記超過
幅は４〜10mmである。この超過幅は勿論所望の結
果を達成するに必要な量以上とすべきではない。
というのはこれは被覆材料の浪費となるからであ
る。
本発明にかかる方法の好ましい具体例は下記特
徴ａ〜ｃの一つあるいはそれ以上を含む。
ａ 層幅の大なるあるいは最大である層あるいは
各層の厚みは層幅が小さいあるいは最小である
層あるいは各層の厚みより小である。
ｂ 塗布さるべきウエブ表面と直接接触する被覆
層の表面張力はウエブ表面張力より低い。
ｃ 層幅が大であるあるいは最大である層あるい
は各層の表面張力は層幅が小さいあるいは最小
の層あるいは各層の表面張力より低い。
本発明方法で被覆せられるウエブ表面はウエブ
構造材例えばセルローズトリアセテートあるいは
ポリエチレンテレフタレートの表面でありうる
し、あるいはより通常的にはスライドホツパー被
覆法で適用される層群の接着性を確実にしあるい
は良好ならしめるためかかる基体にあらかじめ適
用されている多数の下引層の最上層の如く、下引
層表面であつてもよい。
本発明は傾斜せるスライド面を有するスライド
ホツパーからなり、該表面にはいろいろな高さに
もうけられた多数の互いに平行した送出しスロツ
ト群があり、またかかるスロツト群に別々の量の
被覆組成物を供給することのできる供給チヤンネ
ル群がもうけられ前記表面上に下方へとスライド
する層群が作られこれら層群はかかる表面から移
動ウエブ上へと流れるまでに互いに重なり合うよ
うになる多数の層でウエブを被覆するための装置
であり最上部スロツトの長さが他のスロツトある
いは少なくとも一つの他のスロツトの長さより大
であり、かつかかる他の何れかのスロツトの長さ
だけ大となることはないことを特徴とする装置を
も包含する。
ある種具体例においては少なくとも三つの前記
スロツトがもうけられ、これらの長さは最上部ス
ロツトから最下部スロツトへと減少する。
この装置にはスライド面上にエツジガイドをも
うけこれらガイド間の距離は最上部スロツトの高
さのところからスライド面の底部末端あるいはそ
の付近の高さまでにわたり最上部スロツトの長さ
と等しいものとすることができる。このガイド間
の距離はスライド面の底部末端エツジ近くで広く
することもできる。
装置にはまた供給チヤンネルならびにその送出
しスロツトの有効長を制限するためホツパーの供
給チヤンネルの少なくとも一つの横端近くに充填
手段をもうけることもできる。該充填手段は対応
する送出しスロツト長の調節のためにもうけるこ
とができる。
本発明のいくつかの具体例を添付図を参照して
説明する。
第１図には写真フイルム製造のため二つの別々
の隣接被覆を移動ウエブに同時に適用するのに用
いられたスライドホツパー被覆装置が示されてい
る。
この被覆装置は多数の個々のブロツク１０〜１
２からなり、これらブロツクは組合わせて後述の
如くマニホールド、チヤンネル、スロツト等を与
えるように適当に機械加工されている。
個々のブロツク１０〜１２ならびにフランジ１
３および１４（第３図後照）は当業者衆知の適当
な締結手段により組立てられた関係に保持されて
いる。
使用せられる被覆組成物は厳密な温度パラメー
ター維持を必要とする型のものであるためホツパ
ーに15〜17の如き導管をもうけその中に例えば水
の如き適当な熱交換液状媒体を連続的に循環させ
ることができる。
ホツパーにはウエブ２０に対しての表面１９の
末端エツジ１８の位置を最適被覆が得られるよう
調節するため任意の適当な形の調節可能なマウン
トをもうけることができる。
写真フイルムの製造において、ウエブ２０の被
覆工程に続いて、適用された被覆を固化および／
または乾燥させる必要がある。かかる場合被覆さ
れたあとウエブ２０は冷却ステーシヨン２１およ
び／または乾燥室２２中を通過せしめられる。ウ
エブは次に巻き取りローラー２３で巻きとられ
る。
この被覆ホツパーは二つの分配マニホールド２
４，２５を有し、これらはホツパーの片側横側で
開口例えば図の２６，２７を通じ原料供給を受け
る。これらマニホールドは狭い縦のフイードチヤ
ンネル２８，２９と通じここを通つて液状被覆組
成物が上方へと送出しスロツト３０，３１に供給
され、これらスロツトから傾斜面１９，３９上を
リボンの形で下方へと流れ、重力により層３２，
３３の形で流下し末端エツジ１８にいたり、次い
でウエブ２０の表面上へと送られる。
ウエブ２０はローラー３８により層付着点でバ
ツクアツプされ、このローラーはウエブを複合被
覆層３２，３３を横切りかつそれらと接触させつ
つ連続的に移動させる手段として役立ち、また隣
接被覆群の引取りのためウエブを平滑に保持し支
持するための手段としても役立つ。
図示せる具体例では、共同でホツパーのスライ
ド面を構成している面１９および３９は同一平面
上にある。これらの面は各被覆組成物を連続的に
押し出す時、送出しスロツト３１から流出する組
成物が、スロツト３０から流出する組成物の上に
なるよう面３９を層様に流下し、次に二つの組成
物が共に面１９上を流下し、面１９の末端エツジ
１８から移動ウエブ２０の表面上へと送られるよ
う配置されている。
面１９および３９にはガイド部材３４，３５
（第３図参照）がもうけられ、これらは送出しス
ロツト３０，３１の両端のエツジに隣接してもう
けられている硬質突出物である。このガイド部材
には互いに向きあつた面３６および３７があり、
スライド面に直角に、被覆組成物の流れ方向に伸
び、被覆組成物流れ方向に伸びる協力的チヤンネ
ルを与えている。
第２図には、同じ長さの送出しスロツト群のも
うけられている従来のコーターで得られた２層の
塗布されているウエブが拡大断面図として示され
ている。第１の層４０は比較的厚い感光性ハロゲ
ン化銀のゼラチン層であり、第２の層４１は比較
的薄いゼラチン耐応力層である。第２図ならびに
後段に述べる第４図の横断面図は各層の厚みの割
合を考慮していない略図的なものであることに注
目さるべきである。事実理解を容易ならしめるた
め被覆層の厚みは支持体の厚みに比し不相応に大
きく示してある。支持体の端縁域４３のエツジ刻
みについても同じことがいいうる。同じく理解を
容易にするため被覆層は図ではハツチがいれられ
ていない。層４２は層４０のウエブ２０に対する
接着性を良好ならしめるための下引層である。
層４０はウエブ２０のエツジ刻み４３の刻み目
部分にある程度準じていることが認められよう。
前記エツジ刻みは略図的に四つのもり上がつたウ
エブ表面部分により表わされているが横断面での
かかる突起の数は広範囲に変更があることが理解
されよう。層４０の片側横末端付近での厚みｌ
は、ウエブのエツジ刻み部分間の該層の幅全体に
わたり均一な該層の厚みｋより幾分大である。
さらにまた図から、表面張力効果の下にビード
エツジ４４が作られたため、始めは層４０の幅と
等しい幅に作られた層４１が幾分収縮しているの
で層４１の挙動は非常にことなつていることが認
められよう。前記ビードの厚みはｎで示されてお
りこの厚みｎはウエブのエツジ刻み部間からなる
該層の部分の厚みｍの数倍になつていることが認
められよう。
第４図は本発明に従い上層が下層の幅より大き
な幅で押し出された際の結果を示す。層４６より
もまた層４７よりも表面張力の低い層４５が層４
６の横端にそつて引つぱられ層４５および４６が
薄い横末端にそぎ落される。第４図において上述
の相対的な幅の差は第２図に示された写真材料被
覆に用いられた被覆ホツパーの送出しスロツトの
長さより上方の送出しスロツトの方が長い被覆ホ
ツパーを用いて得られた。各フイードチヤンネル
の寸法も、対応する送出しスロツトの長さと平行
に測定し、やはり該スロツトの長さに等しい。
この特定被覆ホツパーでのスロツト長間の所望
の差は極めて簡単に得られた。
最初、被覆ヘツドのチヤンネルも送出しスロツ
トも共に押出されるベき層の所望の幅より大なる
長さであつた。被覆ホツパーのブロツク１０，１
１および１２の組立て中にチヤンネルの端縁域が
適当な材料で充填され一種の末端ダムが作られこ
れがチヤンネル２８および２９の実際の幅を両側
で制限するようになされた。従来の被覆法では双
方のチヤンネルに対し同じ幅の末端ダムが用いら
れ従つてチヤンネル２８および２９を通じ、また
対応するスロツト３０および３１を通じ押出され
る被覆組成物の層は同じ幅であつた。
本発明においてはスロツト３１の方がスロツト
３０（長さl1）より長くなる（l2）ように上のチ
ヤンネル２９のエンドダムの方が下のチヤンネル
２８のエンドダムより幅が小さくされた。被覆ホ
ツパーの特殊構成法の詳細については実施例のあ
とに、第５図を参照し説明することとする。
比較例 １ 幅1728mm、厚み0.10mmのポリエチレンテレフタ
レートフイルムに幅10mmのエツジ刻み部をもう
け、その外縁がフイルムの対応エツジから10mmの
位置になるようにした。エツジ刻みの突起の高さ
は10μｍであつた。このフイルムに乾燥後の厚み
が0.6μｍで表面張力γs＝41ｍＮ・ｍ-1の下引層が
もうけられた。放射線透過写真フイルムの製造に
用いられる感光性ハロゲン化銀乳剤層を、第１図
に示された装置でオリフイス３０の長さl1が1692
mmの送出しスロツトを通じ塗布した。乳剤層の表
面張力γe31ｍＮ・ｍ-1であつた。耐応力ゼラチン
層は長さl2＝1692mmのオリフイス３１を通じ塗布
された。この耐応力層の表面積張力γaは29ｍ
Ｎ・ｍ-1であつた。これらの層の被覆中、スライ
ド面上に未だある間に、これらの層はその横末端
部が幾分厚くなつていることが観察された。末端
エツジ１８とウエブ面の間の被覆ビーズを注意深
く観察するとそらが末端エツジ１８でエツジガイ
ドとの接触からときはなされる際にこれらの層の
著しいネツクインを生じることが伴つた。この幅
の減少が複合層のエツジビーズのサイズを非常に
大ならしめる原因であつた。
これらの層のそれぞれの厚みは乾燥後下記のと
おりであつた（ｋ〜ｎの文字は第２図に示された
厚みの測定値を意味する）。
ｋ＝7.8μｍ ｌ＝10.8μｍ；比1（ｌ：ｋ）＝1.38：
１ ｍ＝1.1μｍ ｎ＝1.4μｍ；比2（ｎ：ｍ）＝1.27：１ 総合厚み比すなわち比1×比2は1.76：１にな
り、従つてこのように形成せられたエツジビード
に対する乾燥時間は均一な厚みを有するこれら層
の中心部の乾燥時間の少なくとも1.7倍になるこ
とが認められる。
さらにまたエツジビードの厚みが増大している
ことは、乾燥フイルムのロールの引き続いての巻
き取りでフイルムの刻み目エツジ部はもはや関係
がないとはいうものの被覆層のエツジビード上に
支持される結果となることも理解されよう。この
エツジビードの効果は、直径300mmのコア上に長
さ600メートルのものをまき取つたロールを見れ
ば肉眼ではつきりと認められる。このロールはそ
の周囲に二つの明瞭なエツジビードがあらわれ該
エツジビードはロールの外側末端エツジより約２
mm隆起していた。またこのフイルムロールは１端
から他端までまつすぐではなくその中心部分は末
端部に比較しある程度被覆がうすくなつていた。
最後に上記ローラーの竹の子状変形をさけるため
にはローラー操作を非常に注意する必要があつ
た。
実施例 １ 幅1728mm厚み0.10mmのポリエチレンテレフタレ
ートフイルムに幅10mmのエツジ刻みをもうけその
外縁がフイルムの対応エツジから10mmのところに
なるようにした。エツジ刻みの突起の高さは10μ
ｍであつた。このフイルムに乾燥厚み0.6μｍ表面
張力41ｍＮ・ｍ-1の下引層をもうけた。放射線透
過写真フイルムの製造に用いられる感光性ハロゲ
ン化銀乳剤層を長さ（l1）1692mmのオリフイス３
０を通じて塗布した。この乳剤層の表面張力γe
は31ｍＮ・ｍ-1であつた。耐応力ゼラチン層は長
さ（l2）1698mmのオリフイス３１を通じ被覆され
た。この耐応力層の表面張力γaは29ｍＮ・ｍ-1で
あつた。これらの層の被覆中、上の被覆層４５は
スライド面上にある間、その横エツジで幾分厚く
なつていることが観察された。この厚みは該層が
下の被覆層４６上に支えられるようになつても増
大しなかつた。さらにまた比較的厚い下層４６は
そのエツジが積層される広い層４５により完全に
被覆され平滑にならされるため全くエツジビード
を形成する傾向を示さぬことも観察された。スラ
イド面の末端エツジとウエブ面の間の被覆ビード
を観察するとこれらの層のネツクインのないこと
が判つた。これに反しウエブの被覆部の幅は被覆
ホツパーの末端エツジとの接触がとかれる瞬間に
測定して最上層４５の幅よりも機分、すなわち２
〜６mm、大であつた。
この被覆フイルムの断面図が第４図に示されて
いるが、エツジビード形成傾向が全くなくなつて
いることが認められよう。これに反し、比較的厚
いハロゲン化銀乳剤層４６の幅より幾分幅広く被
覆されている比較的薄い耐応力層４５はフイルム
のエツジ付近で徐々に厚みが薄くなるように流れ
厚い層４６を追従させ従つて該層４６もフイルム
のエツジ方向へ徐々に厚みが薄くなつている。そ
の結果フイルムを乾燥させたときフイルムの端縁
部はフイルムの中心の実質的部分と同時にあるい
はそれより早く乾燥することになる。さらにまた
エツジビードがないのでフイルムうず巻は刻みエ
ツジ部にしつかりと支えられ、フイルムエツジ刻
みの目的を充分はたす、巻きとられたフイルムロ
ールは完全に平らで、かたい端縁域を示しこれは
刻みエツジにフイルムロールの何重ものうず巻が
完全に帯持されていることを表わしている。
比較例１および実施例１での被覆中、エツジガ
イド３４および３５がホツパーのスライド面上に
もうけられ、それらの向きあつた面３６および３
７の間の幅は1698mmとされた。
下記実施例２および３は２層以上の被覆を本発
明方法で被覆する例である。
実施例 ２ 所謂安定化法による迅速現像可能な感光性写真
材料を製造するため、厚み0.1mmのポリエチレン
テレフタレート支持体への３層被覆を行なつた。
支持体には乾燥後の厚み0.6μｍ、表面張力γs＝41
ｍＮ・ｍ-1の下引層がもうけられた。
最下層は水性ゼラチン組成物で、湿潤時の厚み
35μｍ、乾燥時の厚み5μの層を1692mm幅で被覆し
た。表面張力は34ｍＮ・ｍ-1であつた。この層の
機能は支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に水滲透
性層を作り、現像時にハロゲン化銀乳剤層を通じ
ての現像薬の迅速な移行を達成するにある。
中間層は水性ハロゲン化銀組成物であつた。こ
の層は湿潤時の厚み30μｍで、乾燥時の厚みは6μ
ｍで、1692mm幅で塗布された。表面張力は32ｍ
Ｎ・ｍ-1であつた。
最上層はゼラチン耐応力層であつた。この層は
湿潤厚み30μｍ、乾燥厚み1μｍで、表面張力は28
ｍＮ・ｍ-1であつた。この層は1698mm幅で被覆さ
れた。このようにして製造された写真材料はその
幅に従い均一な厚みプロフイルを示した。３層を
同じ幅になるように写真材料を作つた場合には非
常に顕著なビードエツジの生じることが判つた。
実施例 ３ 感光性ポジ型シネ材料製造のため厚み140μｍ
のトリアセテート支持体に４層被覆を行なつた。
支持体には表面張力γs＝42ｍＮ・ｍ-1の下引層を
もうけた。
最下層は、湿潤厚み35μｍ、乾燥厚み4μｍ、表
面張力37ｍＮ・ｍ-1の青感性ハロゲン化銀組成物
で、この層は1110mmの幅に被覆された。
次の層は湿潤厚み30μｍ、乾燥厚み4.5μｍ、表
面張力34ｍＮ・ｍ-1の赤感性ハロゲン化銀組成物
で、この層は1110mm幅に被覆された。
次の層は湿潤厚み30μｍ、乾燥厚み5μｍ、表面
張力33ｍＮ・ｍ-1の緑感性ハロゲン化銀組成物
で、この層は1115mm幅に被覆された。
最上層は耐応力ゼラチン組成物で、湿潤厚み
20μｍ、乾燥厚み1μｍであつた。表面張力は28ｍ
Ｎ・ｍ-1で1119mm幅に被覆された。
このようにして得られた写真材料はその幅に従
い満足すべき厚みプロフイルを示した。この四つ
の層を同じ幅に被覆した場合にはビードエツジが
できこの材料の乾燥に悪影響があつた。また巻き
とられた材料のロールは竹の子状変形を非常にう
けやすかつた。
次に第５図を参照し、長さのことなる二つの被
覆スロツトをもつスライドホツパーコーターを組
立てる具体例につき詳細に説明する。
第５図は第１図および第３図に示した２層スラ
イドホツパーの部分斜視図であるが、図をみると
それぞれステンレススチールのブロツク１０，１
１および１２の間のチヤンネル２８および２９が
その横末端付近で（図には左側末端のみが示され
ている）充填ストリツプ４８および４９により閉
止されていることが判る。このストリツプは図示
せる例では２成分合成ゴムのペーストで作られて
おり、これは素子１０〜１２が組立てられる前に
各チヤンネル２８，２９の片面上に適用された。
各チヤンネルの反対面に剥離剤を塗布し、これら
の素子を組立てることによりゴムペーストを広げ
させた。ゴムペーストをキユアリングしたあと、
ホツパーを分解し、前記片面に接着されたゴムを
線５０，５１のところで切断してそれぞれの長さ
l1、l2にした。l1およびl2の境界線内のゴムを除き
最終的に長方形のストリツプ４８，４９が残るよ
うにした。次にスライドホツパーを再度組立て、
使用に供した。
本発明は上述の具体例ならびに実施例に限定さ
れるものではない。
本発明にかかる方法ならびに装置は４層以上の
被覆にも好適である。当業者衆知の如く５〜７層
あるいはそれ以上の層の同時的適用にカスケード
被覆法を用いることができ、本発明はこういつた
多数の層の被覆にもうまく利用できる。最上層の
幅だけを他の層の幅より大となすこともできる
し、また所望の結果を得るため最上層および一つ
あるいはそれ以上の隣接層の幅を他の下側の層よ
り広くすることもできる。
本発明にかかる方法ならびに装置は、被覆技術
分野で時々行なわれるように一つの押出層から適
当に形成できぬ層を作りあげる場合の如く同じ組
成物の２層あるいはそれ以上の層を被覆するのに
も適している。
さらにまた幅の広い層は必ずしも隣接する必要
はなく、例えば７層被覆の内第１（最上）層と第
３層を第２層ならびに第４〜第７層のそれぞれよ
り幅の広いものとすることも可能である。
最上層から下層方向への幅減少はこれを漸進的
なものとしそれぞれの押出層の対応幅を段階的に
小ならしめたものを用いることもできる。
最も幅の広い層の厚みは必ずしも幅の狭い隣接
下層の厚みより小となす必要はなく、同じ厚みに
することもできる。
幅の広い層（群）の表面張力は本発明方法で塗
布される基体（すなわちウエブあるいはあらかじ
め塗布された下引層）の表面張力より小とすべき
である。好ましくは幅の広い層の表面張力はまた
それと接触する幅の狭い隣接層の表面張力より小
となされる。
本発明はビード被覆に限定されるものではな
く、既に述べた如くカーテン被覆法にも同様適用
され、ビード被覆すなわちコーターホツパーとウ
エブ間の短い距離に関連した諸問題を克服するこ
とができる。
本発明にかかる方法ならびに装置は感光層、耐
応力層その他写真層の被覆に限定されるものでは
なく、下引層等の被覆にも用いられる。例えばポ
リエチレンテレフタレートに下引層を被覆するに
あたり場合によつては下引層と支持体の接着なら
びに下引層と積層写真乳剤層との充分な接着を得
るため二つの化学的にことなる層からかかる下引
層を構成せしめることが知られている。
エツジビードの回避に役立つもう一つの手段は
スライドホツパーのエツジガイドのガイド面をそ
らすことである。これは第３図にエツジガイド３
４に関して略図的に示されており、ガイド３４の
下部が破線５０で示される如く外方へとそらされ
ている。同じことが反対のエツジガイドについて
も行なわれている。こうすると下方へ流れる層で
横方向に引張応力が働かされ、それによりビード
エツジはさらに小さくなりあるいは完全になくな
る。
最後に、多層スライドホツパーコーターはその
送出しスロツトの長さをことなつたものとするの
に必ずしも上述の方法による必要はないことが理
解されよう。例えば何らの処置を行なわずともチ
ヤンネルおよび送出しスロツトが正規の最終寸法
になるようにそれぞれのブロツクの機械加工を行
なうことができる。あるいはまたコーターの操作
中にチヤンネルおよびスロツトの長さを連続的に
調節するための手段を工夫することもできる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の適用さるべき通常の２層スラ
イドホツパーコーターをその後処理ステーシヨン
と共に示す略図的断面図、第２図は本発明の理解
を容易ならしめるために示した通常のスライドホ
ツパー型コーターでウエブに２層を被覆したもの
の端縁部の拡大断面図、第３図は本発明にかかる
スライドホツパー型コーターの部分上面図、第４
図は第３図に示されたコーターでウエブ上に２層
を被覆したものの端縁部の拡大断面図、第５図は
第３図に示されたスライドホツパーの部分斜視
図。 図中１０，１１，１２，１３および１４はカス
ケードコーターの基本的素子、１８はコーターの
末端エツジあるいはリツプ、１９は下方のスライ
ド面、２０は被覆さるべきウエブ、２４および２
５は分配マニホールド、２８および２９はフイー
ドチヤンネル、３０および３１は送出しスロツ
ト、３２および３３は被覆組成物の層、３４およ
び３５はガイド部材、３６および３７はガイド
面、３８はバツキングロール、３９は上方のスラ
イド面、４０は最下部被覆層、４１は最上部被覆
層、４２は下引層、４３はウエブのエツジ刻み、
４４は被覆のビードエツジ、４５は最上部被覆
層、４６は最下部被覆層、４７は下引層、l1は狭
い被覆層の幅、l2は広い被覆層の幅、ｋは最下層
の厚み、ｌは最下層のビードエツジの厚み、ｍは
最上層の厚み、ｎは最上層のビードエツジの厚
み。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 液状被覆組成物を二つあるいはそれ以上の互
    いに平行している送出しスロツト群のそれぞれを
    通じ傾斜面に供給し、該表面上で前記スロツト群
    を離れる定量組成物が下方へ移動する層群を作り
    これら層群が互いに重なり合つてスロツト群と平
    行している横方向末端エツジで前記表面を離れ移
    動ウエブ上へと送られるスライドホツパー型多層
    ウエブ被覆法において、 最上スロツトから流出せられる層の幅は他の層
    あるいは少なくとも１層の他の層の幅よりも大で
    あり、かつ前記移動ウエブの幅は最大幅の層の幅
    よりも少なくとも大きいことを特徴とするスライ
    ドホツパー型多層ウエブ被覆法。 ２ 層幅が最大である層の厚みが層幅の最小であ
    る層の厚みよりも小である特許請求の範囲第１項
    記載の方法。 ３ 最上スロツトから流出する層の表面張力が該
    層の接触せしめられるウエブ表面の表面張力より
    小である特許請求の範囲第１項記載の方法。 ４ 層幅が最大である層の表面張力が層幅の最小
    である層の表面張力より小である特許請求の範囲
    第１項〜第３項のいずれか１項に記載の方法。 ５ 傾斜せるスライド面を有するスライドホツパ
    ーからなり、該面には種々の高さに設けられた多
    数の互いに平行した送出しスロツト群があり、ま
    たかかるスロツト群に対して別々の量の被覆組成
    物を供給することのできる供給チヤンネル群が設
    けられ前記表面上にそこから移動ウエブへと送ら
    れるまでに互いに重なりあう下方へとスライドす
    る層群が作られ、前記スライド面の下端のエツジ
    に周面を近接した状態でかつこのエツジに平行に
    配置された軸線を有するウエブガイドロールを備
    え、更に、前記エツジに密に間隔を置いて移動す
    るウエブの露出面が前記スライド面のエツジに沿
    つて形成されたビードから出た互いに重なり合う
    前記被覆組成物の層で被覆されるように、前記ウ
    エブを前記ロールの回りに前記エツジに隣接して
    前進させるための手段を備えてウエブを多数の層
    で被覆するためのビード被覆装置において、最上
    スロツトの長さが他のスロツトあるいは少なくと
    も一つの他のスロツトの長さより大であることを
    特徴としたビード被覆装置。 ６ 少なくとも三つのスロツトが設けられ、それ
    らの長さが最上部のスロツトから最下部のスロツ
    トへと順次小になつている特許請求の範囲第５項
    記載の装置。 ７ スライド面上にエツジガイドが設けられ、最
    上部スロツトの高さからスライド面の最下端ある
    いはその付近の高さまでにわたり前記ガイド間の
    距離は最上部スロツトの長さに等しい特許請求の
    範囲第５項あるいは第６項記載の装置。 ８ スライド面上にエツジガイドが設けられてお
    り、そのガイド面間の距離は下端近くで広くなつ
    ている特許請求の範囲第５項あるいは第６項記載
    の装置。 ９ 供給チヤンネルならびにその送出しスロツト
    の有効長を限定するためホツパーの少なくとも一
    つの供給チヤンネルの横端付近に充填手段が設け
    られている特許請求の範囲第５項〜第８項のいず
    れか１項に記載の装置。 １０ 前記充填手段が対応する送出しスロツト長
    を調節するため設けられている特許請求の範囲第
    ９項記載の装置。
JP5023280A 1979-04-19 1980-04-15 Slide hopper type multilayer coating method and its device Granted JPS55139865A (en)

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