JPS6332637B2 - - Google Patents
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- JPS6332637B2 JPS6332637B2 JP59130614A JP13061484A JPS6332637B2 JP S6332637 B2 JPS6332637 B2 JP S6332637B2 JP 59130614 A JP59130614 A JP 59130614A JP 13061484 A JP13061484 A JP 13061484A JP S6332637 B2 JPS6332637 B2 JP S6332637B2
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- Japan
- Prior art keywords
- mortar layer
- pattern
- mortar
- sheet
- liquid
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、モルタル層表面に凹凸状の浮彫模様
を形成する方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for forming an uneven relief pattern on the surface of a mortar layer.
浮彫模様を有する材料は、建築関係の外装及び
内装用をはじめとして、その他さまざまな分野に
おいて幅広く利用されている。
BACKGROUND ART Materials having relief patterns are widely used in various fields including exterior and interior applications of architecture.
従来、モルタル層表面へ浮彫模様を形成する方
法の代表的なものとしては、(1)こて、へらによる
方法、(2)ローラーによる方法、(3)吹付による方
法、(4)エンボツシングによる方法、(5)ブラストに
よる方法等が知られている。
Traditionally, typical methods for forming relief patterns on the surface of a mortar layer include (1) a method using a trowel or a spatula, (2) a method using a roller, (3) a method using spraying, and (4) a method using embossing. , (5) Methods using blasting, etc. are known.
しかして、(1)の方法は、しつくい壁の仕上げ工
法として発展してきたものであり、細かな浮彫模
様を形成することは非常に難しく、熟練を要する
ものであつた。 However, method (1) was developed as a finishing method for solid walls, and it was extremely difficult to form fine relief patterns and required skill.
また、(2)の方法はパターンローラーを押印して
いくことにより凹凸を形成させるものであるた
め、単純な繰返し模様の形成には適した方法であ
るが、複雑、微細な模様の形成には適さないもの
であつた。 In addition, method (2) forms unevenness by stamping with a pattern roller, so it is suitable for forming simple repeating patterns, but it is suitable for forming complex and fine patterns. It was not suitable.
さらに、(3)の方法は、吹付ガンによりランダム
な凹凸模様を形成するには適した方法であるが、
任意の例えば図柄、文字等の特定な模様を形成す
ることが出来ないという欠点を有するものであつ
た。 Furthermore, method (3) is suitable for forming a random uneven pattern with a spray gun, but
This method has the disadvantage that it is not possible to form any specific pattern such as a design or a character.
また、(4)の方法は、一応工場における大量生産
に適した方法であるが、個々の製品にそれぞれ異
なつた模様を付すには不適当な方法であつた。 Furthermore, although method (4) is suitable for mass production in factories, it is not suitable for applying different patterns to individual products.
(5)の方法はモルタル層上を部分的にマスクし、
マスクされていない個所をブラスト処理すること
により削り、凹凸状の浮彫模様を形成するもので
ある。しかし、この方法は、ブラスト処理の際
に、粉塵及び騒音等が発生するために作業環境の
悪化をまねき、さらには作業場の周囲への悪影響
も大きく、また、作業時間も長く、危険をも伴う
等の欠点を有するものであつた。 Method (5) partially masks the mortar layer,
The unmasked areas are removed by blasting to form an uneven relief pattern. However, this method causes a deterioration of the working environment due to the generation of dust and noise during the blasting process, has a large negative impact on the surroundings of the workplace, takes a long time, and is dangerous. It had the following drawbacks.
さらに、コンクリートパネルにモルタルを塗布
する際、モルタルとコンクリートの密着性を向上
させる目的で、コンクリート表面を凹凸状にする
手段として、次のような方法が知られている。す
なわち、型枠にあらかじめ部分的にセメント硬化
遅延剤を塗布し、次いでコンクリートを型枠内に
流し込み、養生し、次いで洗い出しを行なう凹凸
状のコンクリートパネルを製造する方法である。 Further, when applying mortar to a concrete panel, the following method is known as a means of making the concrete surface uneven in order to improve the adhesion between the mortar and concrete. That is, this is a method of manufacturing an uneven concrete panel in which a formwork is partially coated with a cement hardening retardant in advance, concrete is then poured into the formwork, cured, and then washed out.
しかし、この方法には型枠を必要とし、しかも
任意の基材に適用できるものではなかつた。さら
に、得られた凹凸は、シヤープな(輪郭のはつき
りした)、かつ彫りの深い凹凸模様ではなかつた。
それ故、この方法は、美観を目的とした浮彫模様
の形成手段としては不適当なものであつた。 However, this method requires a formwork and cannot be applied to any base material. Furthermore, the obtained unevenness was not a sharp (sharp outline) and deeply carved unevenness pattern.
Therefore, this method was inappropriate as a means for forming relief patterns for aesthetic purposes.
本発明者らは、以上の如き浮彫模様の分野にお
ける現状に鑑み、任意の基材上に、鮮明でランダ
ム模様でない任意の凹凸状の浮彫模様を、熟練を
要することなく簡単に形成する方法につき鋭意検
討の結果、本発明に到つたのである。
In view of the current state of the art in the field of embossed patterns as described above, the present inventors have developed a method for easily forming an uneven relief pattern of any clear, non-random pattern on any base material without requiring any skill. As a result of intensive studies, the present invention was arrived at.
すなわち本発明は、
(i) 基材上にモルタルを塗布し、モルタル層を形
成する工程、
(ii) 該モルタル層が未硬化の間に、液体透過性部
分と液体不透過性部分とから模様を形成したシ
ートをモルタル層上にのせた後、あるいは液体
不透過性シートをモルタル層上に模様状にのせ
た後、モルタル層表面に粘度が10〜103ポイズ
(20℃において)のセメント硬化遅延剤溶液を
塗布する工程、
(iii) 前記シートを除去した後、モルタル層を養生
する工程、及び
(iv) モルタル層の養生後、セメント硬化遅延剤溶
液を塗布した個所のモルタル層を、洗浄除去す
る工程、
の諸工程を含む深い凹凸を有する浮彫模様の形成
方法に関するものである。
That is, the present invention includes (i) applying mortar on a base material to form a mortar layer; (ii) forming a pattern from a liquid-permeable portion and a liquid-impermeable portion while the mortar layer is uncured; After placing the formed sheet on the mortar layer or placing the liquid-impermeable sheet in a pattern on the mortar layer, cement hardening with a viscosity of 10 to 103 poise (at 20℃) is applied to the surface of the mortar layer. (iii) After removing the sheet, curing the mortar layer; (iv) After curing the mortar layer, cleaning the mortar layer at the location where the cement curing retarder solution has been applied. The present invention relates to a method for forming a relief pattern having deep unevenness, including the following steps:
本発明の方法においては、前記未硬化のモルタ
ル層上に密着したシートの模様に応じ、セメント
硬化遅延剤溶液をモルタル層に含浸する。したが
つて、硬化遅延剤を含浸した個所は、硬化が遅延
し、養生後であつても洗浄により容易に除去でき
る。それ故本発明の方法は、シートの模様に応じ
てシヤープな形状で、深い凹凸を有する浮彫模様
を、モルタル層表面に形成できるという特長を有
するものである。 In the method of the present invention, the mortar layer is impregnated with a cement hardening retardant solution according to the pattern of the sheet that is in close contact with the uncured mortar layer. Therefore, the hardening of the areas impregnated with the hardening retarder is delayed and can be easily removed by washing even after curing. Therefore, the method of the present invention has the advantage of being able to form on the surface of the mortar layer an embossed pattern having a sharp shape and deep unevenness in accordance with the pattern of the sheet.
また、本発明においては、モルタル層の厚さ及
びセメント硬化遅延剤の含浸及び除去の程度を適
当にコントロールすることにより、浅い凹凸を有
するものは勿論のこと、深い凹凸を有するものま
で、所望の深さの凹凸を有する浮彫模様が自由に
形成できるという特長を有する。さらに本発明の
方法は、浮彫模様がモルタル層からなるものであ
るために、非常に安価にしかも深い凹凸を有する
浮彫模様を形成することができるという特長を有
する。 In addition, in the present invention, by appropriately controlling the thickness of the mortar layer and the degree of impregnation and removal of the cement hardening retarder, it is possible to create the desired shape, not only with shallow irregularities but also with deep irregularities. It has the advantage of being able to freely form an embossed pattern with uneven depth. Furthermore, the method of the present invention has the advantage that since the relief pattern is made of a mortar layer, it is possible to form a relief pattern with deep unevenness at a very low cost.
以下、本発明の凹凸を有する浮彫模様の形成方
法につき、さらに具体的に説明する。 Hereinafter, the method for forming a relief pattern having unevenness according to the present invention will be explained in more detail.
まず本発明において使用する基材としては、公
知のモルタルを密着できるあらゆる基材が適用で
きる。例えば、鉄、アルミニウム、ステンレス等
の金属、ガラス、タイル、陶磁器、コンクリー
ト、レンガ、石材、木材、プラスチツクあるいは
これらの積層体等を挙げることができる。その表
面は必ずしも平面である必要はなく、例えば曲面
であつてもよい。これら基材には、必要に応じて
粗面にしたり、着色したり、プライマーを施した
り等の下地処理を施すこともできる。 First, as the base material used in the present invention, any base material to which known mortar can be adhered can be used. Examples include metals such as iron, aluminum, and stainless steel, glass, tiles, ceramics, concrete, bricks, stones, wood, plastics, and laminates thereof. The surface does not necessarily have to be flat, and may be curved, for example. If necessary, these base materials can be subjected to surface treatments such as roughening, coloring, and applying a primer.
本発明においては、第一工程として、前記のよ
うな基材上にモルタルを、コテ、ヘラ、スプレー
等の通常用いられる手段により塗布し、モルタル
層を形成する。該モルタル層の厚さは、特に制限
はない。しかし凹凸の彫りの深さに応じ、実用上
約1〜20mmにすることが好ましい。 In the present invention, as a first step, mortar is applied onto the above-mentioned base material by a commonly used means such as a trowel, a spatula, or a spray to form a mortar layer. The thickness of the mortar layer is not particularly limited. However, depending on the depth of the carving of the unevenness, it is practically preferable to set the depth to about 1 to 20 mm.
本発明に使用するモルタルは、従来から一般に
使用されているものがそのまま適用出来る。すな
わちセメント、砂等の骨材及び水からなるもので
あり、必要に応じさらに着色顔料、各種添加剤等
を配合したものである。またアクリル樹脂系エマ
ルジヨン、酢酸ビニル樹脂系エマルジヨン、エポ
キシ樹脂系エマルジヨン、ステレンブタジエン樹
脂系エマルジヨン等を配合した、いわゆる樹脂モ
ルタルも本発明において使用出来る。 As the mortar used in the present invention, any mortar that has been commonly used can be used as is. That is, it consists of aggregates such as cement and sand, and water, and if necessary, coloring pigments, various additives, etc. are added. Also, so-called resin mortars containing acrylic resin emulsions, vinyl acetate resin emulsions, epoxy resin emulsions, sterene butadiene resin emulsions, etc. can also be used in the present invention.
本発明においてはモルタル層は、同一色のモル
タルを使用する以外は、色の異なるモルタルを複
数回塗り重ねることもできる。このように色の異
なる複数のモルタル層を形成することにより、後
述する洗浄除去工程において、モルタル層を洗浄
除去する際の各場所の除去程度、すなわち凹部の
深さを加減することにより、深さに応じて多色の
変化のある凹凸浮彫模様を形成することが可能と
なる。 In the present invention, in addition to using mortar of the same color, the mortar layer may be formed by applying mortar of different colors multiple times. By forming multiple mortar layers with different colors in this way, in the cleaning and removal process described later, the depth can be adjusted by adjusting the degree of removal at each location when cleaning and removing the mortar layer, that is, the depth of the recess. It becomes possible to form an uneven relief pattern with multicolored changes depending on the color.
このようにして形成したモルタル層が未硬化の
間に、好ましくはモルタル層表面の遊離水が消失
し、指で軽く押して変形しない程度になつた時点
で、液体透過性部分と液体透過性部分とで模様を
形成したシートを、モルタル層表面に密着させ
る。該シートは、具体的には、塗料業界で通常使
用されているシルクスクリーンであることが好ま
しい。あるいは、シートを模様状に(所望の模様
を形成するように)切り抜いたものをモルタル層
表面に密着させることもできる。 While the mortar layer formed in this manner is still uncured, preferably when the free water on the surface of the mortar layer disappears and the surface does not deform when lightly pressed with a finger, the liquid-permeable portion and the liquid-permeable portion are separated. The sheet with the pattern formed thereon is brought into close contact with the surface of the mortar layer. Specifically, the sheet is preferably a silk screen commonly used in the paint industry. Alternatively, a sheet cut out in a pattern (to form a desired pattern) can be brought into close contact with the surface of the mortar layer.
本発明に於てはまた別の態様として、液体不透
過性シートをモルタル層上に、該シートが模様を
形成するように密着させることもできる。 In another embodiment of the present invention, a liquid-impermeable sheet can be closely attached to the mortar layer so that the sheet forms a pattern.
このようにしてシートをモルタル層上にのせた
後、該シートの上からモルタル層表面にセメント
硬化遅延剤溶液を塗布する。さらに塗布したセメ
ント硬化遅延剤溶液を、シートの液体不透過性部
分が密着している以外のモルタル層に含浸する。
すなわち、該シートを、モルタル層が未硬化の間
にモルタル層の上にのせるために、モルタル層と
シート(液体不透過性部分)との間に空き間はな
く、液体不透過性部分で覆われたモルタル層にセ
メント硬化遅延剤溶液が含浸することはない。 After the sheet is placed on the mortar layer in this manner, a cement hardening retarder solution is applied onto the surface of the mortar layer from above the sheet. Furthermore, the applied cement retardant solution is impregnated into the mortar layer other than the one in close contact with the liquid-impermeable portion of the sheet.
That is, in order to place the sheet on the mortar layer while the mortar layer is uncured, there is no space between the mortar layer and the sheet (liquid impermeable portion), and the sheet is placed on the mortar layer while the mortar layer is uncured. The covered mortar layer is not impregnated with the cement retarder solution.
またセメント硬化遅延剤溶液の粘度、塗布量を
調節することにより、凹凸の深さを自由に変える
ことができる。すなわち、例えばセメント硬化遅
延剤の粘度を低くし、及び/又は塗布量を多くす
ることにより、セメントの硬化遅延剤をより深く
含浸させることができるため、凹凸の深さを大き
くすることができる。 Further, by adjusting the viscosity and application amount of the cement hardening retarder solution, the depth of the unevenness can be freely changed. That is, for example, by lowering the viscosity of the cement hardening retarder and/or increasing the amount applied, the cement hardening retarder can be impregnated more deeply, and the depth of the unevenness can be increased.
本発明において使用するセメントの硬化遅延剤
溶液の粘度は、モルタル層への浸透性等を考慮す
ると10〜103ポイズ(20℃において)であること
が好ましい。該粘度範囲のセメント硬化遅延剤溶
液を使用することによつて、よりシヤープなU字
状の凹部を形成することができる。 The viscosity of the cement hardening retardant solution used in the present invention is preferably 10 to 10 3 poise (at 20° C.) in consideration of permeability into the mortar layer. By using a cement hardening retardant solution having a viscosity within this range, a sharper U-shaped recess can be formed.
本発明においてセメント硬化遅延剤溶液として
は、従来から一般に使用されているものがそのま
ま使用可能である。具体的には、例えばリン酸二
水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン
酸ナトリウム、四ホウ酸ナトリウム、糖類、酢
酸、カルシウム、オキシカルボン酸、リグニンス
ルフオン酸塩、アルコール等が代表的なものとし
てあげられる。なお、固体のものについては、水
溶液として使用する。また、粘度が前記範囲より
低い場合は、ポリビニルアルコール、メチルセル
ロース、アルギン酸ソーダ、ベントナイト等の増
粘剤を添加する等の手段により、粘度を前記範囲
に調整することができる。 In the present invention, as the cement hardening retarder solution, those commonly used in the past can be used as they are. Specifically, representative examples include sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, sodium phosphate, sodium tetraborate, sugars, acetic acid, calcium, oxycarboxylic acids, lignin sulfonates, alcohols, etc. It can be given as In addition, solid substances are used as aqueous solutions. If the viscosity is lower than the above range, the viscosity can be adjusted to the above range by adding a thickener such as polyvinyl alcohol, methylcellulose, sodium alginate, bentonite, or the like.
また、着色剤を配合したセメント硬化遅延剤溶
液を、モルタル層に塗布することにより、セメン
ト硬化遅延剤溶液を含浸せしめた洗浄除去すべき
個所が着色によつて判別できるために、後述する
洗浄除去工程において便利なことがある。 In addition, by applying a cement hardening retardant solution containing a coloring agent to the mortar layer, the areas impregnated with the cement hardening retarder solution that should be cleaned and removed can be identified by coloring. It can be useful in the process.
本発明においては、セメント硬化遅延剤溶液を
塗布後、前記シートを除去し、次いでモルタル層
を一定時間養生させる。養生方法としては、通常
モルタルの養生方法として知られている自然養生
法、水蒸気養生法、加圧養生法等が採用出来る。 In the present invention, after applying the cement hardening retarder solution, the sheet is removed, and then the mortar layer is cured for a certain period of time. As the curing method, a natural curing method, a steam curing method, a pressure curing method, etc., which are generally known as mortar curing methods, can be adopted.
養生のための時間は、後述する洗浄除去工程に
おいて、セメント硬化遅延剤溶液を塗布、含浸し
ていない個所のモルタル層は除去されない程度に
硬化し、かつセメント硬化遅延剤溶液を塗布、含
浸した個所のモルタル層は未硬化であるかもしく
は比較的容易に除去できる程度に半硬化するに要
する時間とする。具体的には、例えば自然養生法
の場合、常温(20℃)で8〜50時間とすることが
好ましい。 The curing time is such that in the cleaning and removal process described later, the mortar layer in areas where the cement hardening retardant solution has not been applied and impregnated has hardened to the extent that it cannot be removed, and the areas where the cement hardening retarder solution has been applied and impregnated have hardened to the extent that they are not removed. The time required for the mortar layer to be uncured or semi-cured to the extent that it can be removed relatively easily. Specifically, for example, in the case of a natural curing method, it is preferable to set it at room temperature (20°C) for 8 to 50 hours.
モルタル層を養出させた後、水あるいは水と溶
剤等からなる洗浄液を用い、かつ回転ブラシで擦
る方法、あるいは該洗浄液を高圧噴射する方法等
の手段により、セメント硬化遅延剤溶液を塗布、
含浸した個所のモルタル層を洗浄除去する。 After cultivating the mortar layer, apply a cement hardening retardant solution by using a cleaning solution consisting of water or water and a solvent and rubbing with a rotating brush, or by spraying the cleaning solution under high pressure.
Wash and remove the mortar layer at the impregnated area.
かくて深い凹凸を有する浮彫模様を形成したモ
ルタル層が得られる。本発明に於いてはさらに必
要に応じ、色彩を付与したり、光沢度を調整した
りすることができる。さらに耐侯性、耐水性、耐
薬品性等を付与するために、全面もしくは凹部
(又は凸部)に別の着色塗報を施したり、全面に
クリヤーもしくはカラークリヤー等の塗膜を施し
たり、あるいは研摩することもできる。 In this way, a mortar layer is obtained in which a relief pattern with deep unevenness is formed. In the present invention, it is also possible to add color and adjust the glossiness, if necessary. Furthermore, in order to impart weather resistance, water resistance, chemical resistance, etc., a different colored coating may be applied to the entire surface or concave portions (or convex portions), or a coating film such as clear or color clear may be applied to the entire surface, or It can also be polished.
以上、記載したように本発明の方法により、任
意の深さの、深い凹凸を有する、浮彫模様を、簡
単に、かつ安価に得ることが可能である。またシ
ートに形成された模様を色々と変化させることに
より、所望の凹凸模様を簡単にうることができる
という特長を有する。 As described above, by the method of the present invention, it is possible to easily and inexpensively obtain a relief pattern having deep unevenness of any depth. Furthermore, by varying the pattern formed on the sheet, a desired uneven pattern can be easily obtained.
また、本発明の方法により得られた凹凸模様を
形成したモルタル層を有するものは、建材、装飾
品等に利用でき、工場あるいは現場においても製
造できる特長を有している。 Furthermore, the mortar layer with the uneven pattern obtained by the method of the present invention can be used for building materials, decorative items, etc., and has the feature that it can be manufactured in a factory or on-site.
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。 Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
なお、実施例中「部」、「%」は重量基準であ
る。 In the examples, "parts" and "%" are based on weight.
実施例 1
周囲に木製枠をもうけた石綿スレート板(900
×1800×10mm)表面に、ポルトランドセメント
100部、シリカ粉200部、減水剤1部及び水75部か
らなるモルタルを、コテにて3mm厚の平滑なモル
タル層を形成した。1時間放置し、表面の水が消
失し、指で軽く押して変形しないことを確認した
後、液体透過性部分と液体不透過性部分とから模
様を形成したシルクスクリーンを、モルタル層表
面に密着させた。Example 1 Asbestos slate board with a wooden frame around it (900
×1800×10mm) Portland cement on the surface
A smooth mortar layer with a thickness of 3 mm was formed using a trowel using a mortar consisting of 100 parts of silica powder, 200 parts of silica powder, 1 part of water reducing agent, and 75 parts of water. After leaving it for 1 hour and confirming that the water on the surface has disappeared and that it is not deformed by pressing lightly with your finger, a silk screen with a pattern formed from a liquid-permeable part and a liquid-impermeable part is tightly attached to the surface of the mortar layer. Ta.
次いでリン酸水素二ナトリウム8部、メチルセ
ルロース系増粘剤1.5部、フタロシアニンブルー
1部及び水90部からなる粘度280ポイズ(20℃)
のセメント硬化遅延剤溶液を、シルクスクリーン
上にドクタープレードで塗布(100g/m2)した。
次いでシルクスクリーンを除去した後、温度20
℃、相対湿度75%の雰囲気中で1日養出させた。 Next, a mixture containing 8 parts of disodium hydrogen phosphate, 1.5 parts of a methylcellulose thickener, 1 part of phthalocyanine blue, and 90 parts of water with a viscosity of 280 poise (20°C)
The cement retardant solution was applied (100 g/m 2 ) onto the silk screen using a doctor blade.
Then after removing the silk screen, temperature 20
℃ and 75% relative humidity for one day.
次いで、水を注ぎ(30/分)ながら5分/m2
の割合で、回転(250rpm)するナイロン糸(径
0.6mm)を束ねた円型ブラシ(φ100mm)で擦り、
セメント硬化遅延剤溶液を含浸させた個所のモル
タル層を除去した。 Then, pour water (30/min) for 5 min/m 2
A nylon thread (diameter) rotating (250 rpm) at a rate of
0.6mm) with a circular brush (φ100mm),
The mortar layer impregnated with the cement retardant solution was removed.
得られた表面には、シルクスクリーンの模様に
対応した、平均深さ約1mmのシヤープな模様状凹
凸が形成された。 On the resulting surface, sharp pattern-like unevenness with an average depth of about 1 mm was formed, corresponding to the pattern of the silk screen.
次いでアクリルクリヤーラツカーを全面に塗布
した。 Next, an acrylic clear lacquer was applied to the entire surface.
このようにして得られたモルタル層表面には、
きわめて浮彫り感のある、浮彫模様が得られた。 On the surface of the mortar layer obtained in this way,
A relief pattern with an extremely embossed appearance was obtained.
実施例 2
酢酸カルシウム15部、メチルセルロース系増粘
剤1部、フタロシアニンブルー1部及び水83部か
らなる粘度80ポイズ(20℃)のセメント硬化遅延
剤溶液を使用した以外は、実施例1と同様にして
モルタル層表面に凹凸を形成した。Example 2 Same as Example 1 except that a cement hardening retarder solution with a viscosity of 80 poise (20°C) consisting of 15 parts of calcium acetate, 1 part of methylcellulose thickener, 1 part of phthalocyanine blue and 83 parts of water was used. to form irregularities on the surface of the mortar layer.
得られた表面にはシルクスクリーンの模様に対
応した、平均深さ約2.5mmのシヤープな模様状凹
凸が形成でき、きわめて浮彫り感のある、浮彫模
様が得られた。 On the resulting surface, sharp pattern-like unevenness with an average depth of about 2.5 mm corresponding to the silk screen pattern was formed, and a relief pattern with an extremely embossed appearance was obtained.
実施例 3
ポルトランドセメント30部、シリカ粉25部、メ
チルセルロース系増粘剤1部、酢酸ビニル樹脂系
エマルジヨン(NV50%)8部、減水剤0.3部及び
水25部からなる樹脂モルタルを12mm厚に塗布し、
モルタル層を形成したこと、リン酸三ナトリウム
20部、メチルセルロース系増粘剤1部、フタロシ
アニンブルー1部及び水79部からなる粘度20ポイ
ズ(20℃)のセメント硬化遅延剤溶液を使用した
こと以外は、実施例1と同様にしてモルタル層表
面に凹凸を形成した。Example 3 A resin mortar consisting of 30 parts of Portland cement, 25 parts of silica powder, 1 part of methyl cellulose thickener, 8 parts of vinyl acetate resin emulsion (NV50%), 0.3 parts of water reducing agent and 25 parts of water was applied to a thickness of 12 mm. death,
Having formed a mortar layer, trisodium phosphate
A mortar layer was prepared in the same manner as in Example 1, except that a cement hardening retarder solution with a viscosity of 20 poise (at 20°C) consisting of 20 parts of methyl cellulose thickener, 1 part of phthalocyanine blue, and 79 parts of water was used. Irregularities were formed on the surface.
得られた表面には、シルクスクリーンの模様に
対応した平均深さ約3.5mmのシヤープな模様状凹
凸が形成でき、きわめて浮彫り感のある浮彫模様
が得られた。 On the obtained surface, sharp pattern-like unevenness with an average depth of about 3.5 mm corresponding to the silk screen pattern was formed, and a relief pattern with an extremely embossed feeling was obtained.
実施例 4
石綿スレート板表面に白色ポルトランドセメン
ト30部、シリカ粉25部、メチルセルロース系増粘
剤1部、アクリル樹脂系エマルジヨン(NV50
%)7部、フタロシアニンブルー0.3部、ハンザ
イエロー1部、減水剤0.3部及び水25部からなる
モルタルを3mm厚に塗布し、次いで前記モルタル
中の着色剤の代りにナフトールレツド1部を配合
したモルタルを、2mm厚に塗り重ねた。Example 4 30 parts of white Portland cement, 25 parts of silica powder, 1 part of methylcellulose thickener, and acrylic resin emulsion (NV50) were applied to the surface of the asbestos slate board.
%), 0.3 parts of Phthalocyanine Blue, 1 part of Hansa Yellow, 0.3 parts of water reducing agent, and 25 parts of water. Apply a mortar to a thickness of 3 mm, then add 1 part of Naphthol Red in place of the coloring agent in the mortar. The mortar was applied to a thickness of 2 mm.
2時間放置し、表面の水が消失し、指で軽く押
して変形しないことを確認した後、液体透過性部
分と液体不透過性部分とから模様を形成したシル
クスクリーンを、モルタル層表面に密着させた。 After leaving it for 2 hours and confirming that the water on the surface has disappeared and that it is not deformed by pressing lightly with your finger, a silk screen with a pattern formed from a liquid permeable part and a liquid impermeable part is tightly attached to the surface of the mortar layer. Ta.
次いで、実施例3で使用したものと同じセメン
ト硬化遅延剤溶液をシルクスクリーン上に塗布
し、以下実施例1と同様にしてモルタル層表面に
凹凸を形成した。 Next, the same cement hardening retardant solution as used in Example 3 was applied onto the silk screen, and in the same manner as in Example 1, irregularities were formed on the surface of the mortar layer.
得られた表面には、シルクスクリーンの模様に
対応した平均深さ約3.5mmのシヤープな模様状凹
凸が形成でき、凹部は縁色、凸部は赤色であり、
きわめて浮彫り感のある浮彫模様が得られた。 On the resulting surface, sharp pattern-like unevenness with an average depth of approximately 3.5 mm corresponding to the silk screen pattern can be formed, the concave portions are edge colored and the convex portions are red.
A relief pattern with an extremely embossed appearance was obtained.
Claims (1)
を形成する工程、 (ii) 液体透過性部分と液体不透過性部分とで模様
を形成したシートをモルタル層上にのせた後、
あるいは液体不透過性シートをモルタル層上に
模様状にのせた後、モルタル層表面に、粘度が
10〜103ポイズ(20℃において)のセメント硬
化遅延剤溶液を塗布する工程、 (iii) 前記シートを除去し、モルタル層を養生する
工程、 (iv) モルタル層の養生の後、セメント硬化遅延剤
溶液を塗布した個所のモルタル層を洗浄除去す
る工程、 の諸工程を含む深い凹凸を有する浮彫模様の形成
方法。 2 模様を形成したシートが、シルクスクリーン
である特許請求の範囲第1項記載の浮彫模様の形
成方法。 3 モルタル層が、色の異なる複数のモルタル層
から構成されている特許請求の範囲第1項記載の
浮彫模様の形成方法。[Claims] 1 (i) A step of applying mortar on a base material to form a mortar layer; (ii) A step of applying a sheet having a pattern formed of a liquid-permeable part and a liquid-impermeable part on the mortar layer. After placing it on
Alternatively, after placing a liquid-impermeable sheet on the mortar layer in a pattern, the viscosity is applied to the surface of the mortar layer.
Step of applying a cement hardening retardant solution of 10 to 10 3 poise (at 20°C); (iii) removing the sheet and curing the mortar layer; (iv) delaying cement hardening after curing of the mortar layer. A method for forming an embossed pattern with deep unevenness, comprising the following steps: washing and removing the mortar layer at the location where the agent solution has been applied. 2. The method for forming a relief pattern according to claim 1, wherein the sheet on which the pattern is formed is a silk screen. 3. The method for forming a relief pattern according to claim 1, wherein the mortar layer is composed of a plurality of mortar layers of different colors.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13061484A JPS6110498A (en) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | Method of forming relief engraving pattern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13061484A JPS6110498A (en) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | Method of forming relief engraving pattern |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6110498A JPS6110498A (en) | 1986-01-17 |
| JPS6332637B2 true JPS6332637B2 (en) | 1988-06-30 |
Family
ID=15038428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13061484A Granted JPS6110498A (en) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | Method of forming relief engraving pattern |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6110498A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105059038A (en) * | 2015-09-11 | 2015-11-18 | 南安市亿辉油画工艺有限公司 | Preparation method of buddha painting |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8911970D0 (en) * | 1989-05-24 | 1989-07-12 | Dow Corning | Method of treating fibrous materials |
| JPH0723585B2 (en) * | 1989-11-06 | 1995-03-15 | 信越化学工業株式会社 | Wool treating agent |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS601183B2 (en) * | 1979-09-13 | 1985-01-12 | 大日本印刷株式会社 | Decorative material manufacturing method |
-
1984
- 1984-06-25 JP JP13061484A patent/JPS6110498A/en active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105059038A (en) * | 2015-09-11 | 2015-11-18 | 南安市亿辉油画工艺有限公司 | Preparation method of buddha painting |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6110498A (en) | 1986-01-17 |
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