JPS6333206B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6333206B2 JPS6333206B2 JP54094301A JP9430179A JPS6333206B2 JP S6333206 B2 JPS6333206 B2 JP S6333206B2 JP 54094301 A JP54094301 A JP 54094301A JP 9430179 A JP9430179 A JP 9430179A JP S6333206 B2 JPS6333206 B2 JP S6333206B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- magnetic head
- winding
- substrates
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高密度記録用薄膜磁気ヘツドに関す
る。
る。
薄膜磁気ヘツドが、リング形ヘツドに比較し
て、マルチトラツクヘツドの一括生産による低コ
スト化、均一化、あるいは小形化、集積化が容易
で、狭トラツクによる高密度記録に適しているこ
とは周知の通りである。
て、マルチトラツクヘツドの一括生産による低コ
スト化、均一化、あるいは小形化、集積化が容易
で、狭トラツクによる高密度記録に適しているこ
とは周知の通りである。
第1図から第3図までは従来の薄膜磁気ヘツド
の斜視図乃至は構成図で、非磁性基板1上に、例
えばパーマロイのような磁性薄膜2と、例えば銅
のような導体3が電着、蒸着、等の手段によつて
形成されている。第1図に示す薄膜磁気ヘツドは
従来のリング形と基本的には同じ形態で、空隙形
成が難しいという欠点がある。第2図に示す薄膜
磁気ヘツドは空隙に導体を挾む形で、空隙形体は
容易である。第1図および第2図に示す形態では
巻数が1ターンであるのに反して、第3図に示す
形態では巻数が複数である。これらの図に示す薄
膜磁気ヘツドは、いずれの場合にも、三次元的構
成であるので、複雑な電着、蒸着の工程を必要と
するという欠点があつた。そのほか、従来の薄膜
磁気ヘツドの欠点として、次の二つを挙げること
ができる。
の斜視図乃至は構成図で、非磁性基板1上に、例
えばパーマロイのような磁性薄膜2と、例えば銅
のような導体3が電着、蒸着、等の手段によつて
形成されている。第1図に示す薄膜磁気ヘツドは
従来のリング形と基本的には同じ形態で、空隙形
成が難しいという欠点がある。第2図に示す薄膜
磁気ヘツドは空隙に導体を挾む形で、空隙形体は
容易である。第1図および第2図に示す形態では
巻数が1ターンであるのに反して、第3図に示す
形態では巻数が複数である。これらの図に示す薄
膜磁気ヘツドは、いずれの場合にも、三次元的構
成であるので、複雑な電着、蒸着の工程を必要と
するという欠点があつた。そのほか、従来の薄膜
磁気ヘツドの欠点として、次の二つを挙げること
ができる。
(1) 記録磁界と再生出力が小さい。すなわち、導
体厚が小さいので、記録電流を大きくできず、
またコイル巻数を増加するのが容易でなく、絶
縁も容易でない。
体厚が小さいので、記録電流を大きくできず、
またコイル巻数を増加するのが容易でなく、絶
縁も容易でない。
(2) 機械的強度および耐摩耗性に乏しい。すなわ
ち、磁性薄膜自身は一般に硬度に劣り、これを
補強するために耐摩耗性の良い基板を用いてい
るが、片面支持構造のために十分とは言えな
い。
ち、磁性薄膜自身は一般に硬度に劣り、これを
補強するために耐摩耗性の良い基板を用いてい
るが、片面支持構造のために十分とは言えな
い。
リング形ヘツドにおいては記録磁界と再生出力
は大きくできるけれども、機械的強度については
機械的強度と磁気特性を両立させるのが難しく、
ビデオテープレコーダーにおいて狭トラツク化が
進むにつれて、従来の材料で最も良いとされてい
るフエライトでも耐摩耗性が十分でない場合があ
る。さらに、フエライトヘツドの場合には、摺動
ノイズの問題が避けられず、これらを総合的に満
足できる磁気ヘツドはこれまで存在しなかつた。
は大きくできるけれども、機械的強度については
機械的強度と磁気特性を両立させるのが難しく、
ビデオテープレコーダーにおいて狭トラツク化が
進むにつれて、従来の材料で最も良いとされてい
るフエライトでも耐摩耗性が十分でない場合があ
る。さらに、フエライトヘツドの場合には、摺動
ノイズの問題が避けられず、これらを総合的に満
足できる磁気ヘツドはこれまで存在しなかつた。
本発明の目的は、したがつて、リング形ヘツド
を含め、従来の磁気ヘツドのもろもろの欠点を持
つていない、特に記録磁界と再生出力が大きく、
また機械的強度に優れた薄膜磁気ヘツドを提供す
ることである。
を含め、従来の磁気ヘツドのもろもろの欠点を持
つていない、特に記録磁界と再生出力が大きく、
また機械的強度に優れた薄膜磁気ヘツドを提供す
ることである。
上記目的を達成するために、本発明による薄膜
磁気ヘツドは、1対の非磁性基板と、該基板上の
対向する面上に設けられた磁性薄膜と、該二つの
磁性薄膜を突き合わせて形成される作動空隙部を
埋める非磁性スペーサ膜と、上記基板のうちの少
くとも一方に設けられた溝の中にその基板上の磁
性薄膜を囲むように巻かれた巻線を有することを
要旨とする。
磁気ヘツドは、1対の非磁性基板と、該基板上の
対向する面上に設けられた磁性薄膜と、該二つの
磁性薄膜を突き合わせて形成される作動空隙部を
埋める非磁性スペーサ膜と、上記基板のうちの少
くとも一方に設けられた溝の中にその基板上の磁
性薄膜を囲むように巻かれた巻線を有することを
要旨とする。
以下に本発明を、附図を参照しながら、実施例
を用いて一層詳しく説明するけれども、これらは
例示に過ぎず、本発明の枠を越えることなく、い
ろいろな変形や改良があり得るとは勿論である。
を用いて一層詳しく説明するけれども、これらは
例示に過ぎず、本発明の枠を越えることなく、い
ろいろな変形や改良があり得るとは勿論である。
第4図aは本発明の1実施の態様における薄膜
磁気ヘツドの斜視図で、第4図bは第4図aの点
線で囲まれた部分の拡大詳細図である。薄膜磁気
ヘツドは1対の非磁性基板1,1′と、それらの
対向する面上に設けられた磁性薄膜2,2′と、
それらの二つの磁性薄膜を突き合わせて形成され
る作動空隙部を埋める非磁性スペーサ膜4とから
なり、非磁性基板1,1′の少なくとも一方(図
では1′)には溝6,6′が設けられ、それらの溝
の中にその基板上の磁性薄膜2′を囲むように巻
線5が巻かれている。これらの材質としては、非
磁性基板1,1′としては耐摩耗性および加工性
に優れたセラミツク材を適宜選択して使用するこ
とができ、磁性薄膜2,2′としては高透磁率お
よび高磁束密度を得ることができるパーマロイ、
センダスト等が用いられ、過電流損失の影響を考
慮して数μm乃至数十μmの厚さに形成される。
非磁性スペーサ膜4には、所望空隙長の膜厚の
SiO2膜または非磁性金属膜が用いられる。第4
図から明らかな通り、本発明による薄膜ヘツドに
おいては、溝6が設けられているので、巻線のた
めの開口部の面積を大きくとることができ、巻数
増加が容易であり、かつ一般の絶縁線材をそのま
ま使用することができ、線間の絶縁に何らの対策
も要しないといる利点がある。また、テープ摺動
面8に関して、磁性薄膜2,2′は2個の非磁性
基板1,1′で両面から支持されているので、機
械的に強く摺動面の摩耗も少ない。すなわち摺動
面8の基板の長さlは磁性薄膜の膜厚tよりも十
分大きくとり、例えば摩耗のはげしいビデオヘツ
ドの場合でもl=1〜2mmとすれば実用上十分で
ある。なお、非磁性基板1′の外側に設けた溝
6′は巻線5のくずれを防止するだけではなく、
磁性薄膜2′により近い所に巻線を設けることを
可能にし、記録および再生時の磁束効率を改善す
る効果を持つている。すなわち、巻線位置での基
板の幅ωに対して空心のインダクタンスは第8図
bのごとく増加する。空心インダクタンスは記録
再生効率には寄与しておらず、これを除去するこ
とにより単位インダクタンス当りの出力が向上す
る。さらに外部磁界による誘導ノイズも同様に改
善される。これらの効果が有効に発揮できる条件
は図よりω/t<100、すなわち基板幅ωを磁性
薄膜の厚さtの100倍以下とにるよう外側の溝
6′を形成することである。また、本発明による
薄膜磁気ヘツドにおいては、フエライトリング形
ヘツドにおけるような摺動ノイズ発生の問題はな
い。
磁気ヘツドの斜視図で、第4図bは第4図aの点
線で囲まれた部分の拡大詳細図である。薄膜磁気
ヘツドは1対の非磁性基板1,1′と、それらの
対向する面上に設けられた磁性薄膜2,2′と、
それらの二つの磁性薄膜を突き合わせて形成され
る作動空隙部を埋める非磁性スペーサ膜4とから
なり、非磁性基板1,1′の少なくとも一方(図
では1′)には溝6,6′が設けられ、それらの溝
の中にその基板上の磁性薄膜2′を囲むように巻
線5が巻かれている。これらの材質としては、非
磁性基板1,1′としては耐摩耗性および加工性
に優れたセラミツク材を適宜選択して使用するこ
とができ、磁性薄膜2,2′としては高透磁率お
よび高磁束密度を得ることができるパーマロイ、
センダスト等が用いられ、過電流損失の影響を考
慮して数μm乃至数十μmの厚さに形成される。
非磁性スペーサ膜4には、所望空隙長の膜厚の
SiO2膜または非磁性金属膜が用いられる。第4
図から明らかな通り、本発明による薄膜ヘツドに
おいては、溝6が設けられているので、巻線のた
めの開口部の面積を大きくとることができ、巻数
増加が容易であり、かつ一般の絶縁線材をそのま
ま使用することができ、線間の絶縁に何らの対策
も要しないといる利点がある。また、テープ摺動
面8に関して、磁性薄膜2,2′は2個の非磁性
基板1,1′で両面から支持されているので、機
械的に強く摺動面の摩耗も少ない。すなわち摺動
面8の基板の長さlは磁性薄膜の膜厚tよりも十
分大きくとり、例えば摩耗のはげしいビデオヘツ
ドの場合でもl=1〜2mmとすれば実用上十分で
ある。なお、非磁性基板1′の外側に設けた溝
6′は巻線5のくずれを防止するだけではなく、
磁性薄膜2′により近い所に巻線を設けることを
可能にし、記録および再生時の磁束効率を改善す
る効果を持つている。すなわち、巻線位置での基
板の幅ωに対して空心のインダクタンスは第8図
bのごとく増加する。空心インダクタンスは記録
再生効率には寄与しておらず、これを除去するこ
とにより単位インダクタンス当りの出力が向上す
る。さらに外部磁界による誘導ノイズも同様に改
善される。これらの効果が有効に発揮できる条件
は図よりω/t<100、すなわち基板幅ωを磁性
薄膜の厚さtの100倍以下とにるよう外側の溝
6′を形成することである。また、本発明による
薄膜磁気ヘツドにおいては、フエライトリング形
ヘツドにおけるような摺動ノイズ発生の問題はな
い。
第5図は第4図の薄膜磁気ヘツドの製造工程を
斜視図で示す。aには、1対のブロツク状の非磁
性基板1,1′が示されている。そのうち、一方
の非磁性基板1′には、巻線用の溝6,6′が設け
られている。bでは、これらの非磁性基板1,
1′に電着、蒸着、スパッタ、等の手段で、磁性
薄膜2,2′が所定の厚さだけ形成される。さら
に、作動空隙部となるべき部分に非磁性スペーサ
膜4が同様の手段で形成される。cにおいては、
磁性薄膜2,2′の対応する面が突き合わされ、
ガラスあるいは樹脂等の接着剤7を用いて接合さ
れる。dにおいては、テープ摺動面8が研摩さ
れ、切断線A−A′に沿つてスライスされ、必要
なトラツク幅の磁気ヘツド・チツプが切り出され
る。eはこれに巻線5を施し、完成された本発明
による薄膜磁気ヘツドを示す。
斜視図で示す。aには、1対のブロツク状の非磁
性基板1,1′が示されている。そのうち、一方
の非磁性基板1′には、巻線用の溝6,6′が設け
られている。bでは、これらの非磁性基板1,
1′に電着、蒸着、スパッタ、等の手段で、磁性
薄膜2,2′が所定の厚さだけ形成される。さら
に、作動空隙部となるべき部分に非磁性スペーサ
膜4が同様の手段で形成される。cにおいては、
磁性薄膜2,2′の対応する面が突き合わされ、
ガラスあるいは樹脂等の接着剤7を用いて接合さ
れる。dにおいては、テープ摺動面8が研摩さ
れ、切断線A−A′に沿つてスライスされ、必要
なトラツク幅の磁気ヘツド・チツプが切り出され
る。eはこれに巻線5を施し、完成された本発明
による薄膜磁気ヘツドを示す。
第6図および第7図は本発明の他の実施の態様
における薄膜磁気ヘツドの斜視図で、いずれも巻
線方向をバランス巻とする場合で、両方の非磁性
基板1,1′に溝6,6′が設けられている。
における薄膜磁気ヘツドの斜視図で、いずれも巻
線方向をバランス巻とする場合で、両方の非磁性
基板1,1′に溝6,6′が設けられている。
いずれの場合においても、製造工程は電着、蒸
着、等の従来の技術と、磁気ヘツドの通常の加工
設備で容易に実現することができる。
着、等の従来の技術と、磁気ヘツドの通常の加工
設備で容易に実現することができる。
以上述べたように、本発明による薄膜磁気ヘツ
ドは2個の非磁性基板1,1′で構成されている
ので、従来の1個の非磁性基板で構成されている
薄膜磁気ヘツドおよびリング形ヘツドに比較し
て、下記のような利点を持つている。
ドは2個の非磁性基板1,1′で構成されている
ので、従来の1個の非磁性基板で構成されている
薄膜磁気ヘツドおよびリング形ヘツドに比較し
て、下記のような利点を持つている。
(1) 巻線に要する開口部の面積を格段に大きくと
ることができるので、巻線の増加が容易とな
り、ひいては磁気ヘツドの記録磁界および再生
出力の大幅な改善が可能である。
ることができるので、巻線の増加が容易とな
り、ひいては磁気ヘツドの記録磁界および再生
出力の大幅な改善が可能である。
(2) 比較的耐摩耗性に劣る磁性薄膜を、耐摩耗性
にすぐれた非磁性基板で両面から挾み込んだ構
造であるので、機械的強度および摺動面の耐摩
耗性の大幅な改善が可能である。
にすぐれた非磁性基板で両面から挾み込んだ構
造であるので、機械的強度および摺動面の耐摩
耗性の大幅な改善が可能である。
(3) 耐摩耗性と加工性の良い非磁性基板を任意に
選択することができるので、フエライトリング
形ヘツドにおけるような摺動ノイズ発生の問題
がない。
選択することができるので、フエライトリング
形ヘツドにおけるような摺動ノイズ発生の問題
がない。
第1図および第2図は従来の薄膜磁気ヘツドの
斜視図、第3図は他の一つの従来の薄膜磁気ヘツ
ドの構成図、第4図は本発明の1実施の態様にお
ける薄膜磁気ヘツドの斜視図、第5図は第4図の
薄膜磁気ヘツドの製造工程を示す斜視図、第6図
および第7図は本発明の他の実施の態様における
薄膜磁気ヘツドの斜視図、第8図a,bは本発明
の説明に供するヘツドの平面図、特性図である。 1,1……非磁性基板、2,2′……磁性薄膜、
3……導体、4……非磁性スペーサ膜、5……巻
線、6,6′……溝、7……接着剤、8……摺動
面。
斜視図、第3図は他の一つの従来の薄膜磁気ヘツ
ドの構成図、第4図は本発明の1実施の態様にお
ける薄膜磁気ヘツドの斜視図、第5図は第4図の
薄膜磁気ヘツドの製造工程を示す斜視図、第6図
および第7図は本発明の他の実施の態様における
薄膜磁気ヘツドの斜視図、第8図a,bは本発明
の説明に供するヘツドの平面図、特性図である。 1,1……非磁性基板、2,2′……磁性薄膜、
3……導体、4……非磁性スペーサ膜、5……巻
線、6,6′……溝、7……接着剤、8……摺動
面。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 1対の非磁性基板と、該基板上の対向する面
上に設けられた磁性薄膜と、該二つの磁性薄膜を
突き合わせて形成される作動空隙部を埋める非磁
性スペーサ膜とを具え、上記基板のうちの少なく
とも一方の非磁性基板はその内側及び外側に巻線
を施すための溝を設け、該外側の溝は該非磁性基
板の内側にある上記磁性薄膜に近接して形成し、
これに巻線を施して磁束効率を上げるように形成
したことを特徴とする薄膜磁気ヘツド。 2 上記磁性薄膜として、パーマロイ、センダス
ト等の高透磁率、高磁束密度材を用いたことを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の薄膜磁気ヘ
ツド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9430179A JPS5619514A (en) | 1979-07-26 | 1979-07-26 | Thin film magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9430179A JPS5619514A (en) | 1979-07-26 | 1979-07-26 | Thin film magnetic head |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5619514A JPS5619514A (en) | 1981-02-24 |
| JPS6333206B2 true JPS6333206B2 (ja) | 1988-07-04 |
Family
ID=14106442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9430179A Granted JPS5619514A (en) | 1979-07-26 | 1979-07-26 | Thin film magnetic head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5619514A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5990216A (ja) * | 1982-11-12 | 1984-05-24 | Nippon Mining Co Ltd | 巻線型薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
| JPS6173209A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-15 | Ulvac Corp | 磁気ヘツド |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS547206B2 (ja) * | 1972-07-08 | 1979-04-05 |
-
1979
- 1979-07-26 JP JP9430179A patent/JPS5619514A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5619514A (en) | 1981-02-24 |
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