JPS6333620Y2 - - Google Patents
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- JPS6333620Y2 JPS6333620Y2 JP14434282U JP14434282U JPS6333620Y2 JP S6333620 Y2 JPS6333620 Y2 JP S6333620Y2 JP 14434282 U JP14434282 U JP 14434282U JP 14434282 U JP14434282 U JP 14434282U JP S6333620 Y2 JPS6333620 Y2 JP S6333620Y2
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Landscapes
- Gas-Insulated Switchgears (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Transformer Cooling (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は六弗化硫黄（SF6）ガスを封入した
電気機器のSF6ガス回収装置に関する。
電気機器のSF6ガス回収装置に関する。
変圧器、開閉装置等種々な電気機器においてそ
の絶縁媒体としてSF6ガスを封入することが従来
行なわれている。
の絶縁媒体としてSF6ガスを封入することが従来
行なわれている。
ところでかかるSF6ガス封入機器において内部
事故が発生すると、SF6分解ガス、電気機器内で
使用する有機高分子絶縁物（例えばポリエステル
フイルム、フエノール樹脂含浸紙の積層体、セル
ロース紙）とSF6ガスとの反応生成物以外に、有
機高分子絶縁物から熱分解ガスも発生する。
事故が発生すると、SF6分解ガス、電気機器内で
使用する有機高分子絶縁物（例えばポリエステル
フイルム、フエノール樹脂含浸紙の積層体、セル
ロース紙）とSF6ガスとの反応生成物以外に、有
機高分子絶縁物から熱分解ガスも発生する。
SF6分解ガス成分としては弗化チオニル
（SOF2）、四弗化硫黄（SF4）、弗化水素（HF）
および二酸化硫黄（SO2）が、そして有機高分子
絶縁物とSF6ガスとの反応生成物として四弗化炭
素（CF4）が、更に有機高分子絶縁物の熱分解ガ
スとして一酸化炭素（CO）、二酸化炭素（CO2）
等が発生することがガスクロマトグラフにより確
認されている。
（SOF2）、四弗化硫黄（SF4）、弗化水素（HF）
および二酸化硫黄（SO2）が、そして有機高分子
絶縁物とSF6ガスとの反応生成物として四弗化炭
素（CF4）が、更に有機高分子絶縁物の熱分解ガ
スとして一酸化炭素（CO）、二酸化炭素（CO2）
等が発生することがガスクロマトグラフにより確
認されている。
内部事故が発生すると、その原因究明あるいは
修理等のために電気機器を解体したり、内部の調
査をすることがあるが、この解体や調査などに際
して内部のSF6ガスを回収する必要がある。しか
るにこのSF6ガス中には上述した不純物が含まれ
ており、そのうちSF6分解ガスおよびCOガスは
人体に対して有害であるから、これらの成分は
SF6ガスから除去する必要がある。かかる電気機
器は最近、狭い地下室に設置される傾向にあり、
このような場所で前記の有害な不純物を除去する
ことなく放出させることは人体に対して極めて危
険である。なお、CF4は濃度も小さくかつ人体に
対して無害であるし、CO2もその濃度が異常に高
くない限り人体に対してさして有害ではない。
修理等のために電気機器を解体したり、内部の調
査をすることがあるが、この解体や調査などに際
して内部のSF6ガスを回収する必要がある。しか
るにこのSF6ガス中には上述した不純物が含まれ
ており、そのうちSF6分解ガスおよびCOガスは
人体に対して有害であるから、これらの成分は
SF6ガスから除去する必要がある。かかる電気機
器は最近、狭い地下室に設置される傾向にあり、
このような場所で前記の有害な不純物を除去する
ことなく放出させることは人体に対して極めて危
険である。なお、CF4は濃度も小さくかつ人体に
対して無害であるし、CO2もその濃度が異常に高
くない限り人体に対してさして有害ではない。
SF6ガス封入電気機器の内部異常時に発生する
のは前記SF6分解ガス成分がほとんであり、従来
これを除去するためにSF6分解ガス除去剤、例え
ば水酸化カルシウム（Ca（OH）2）を過剰に投入
した水溶液を収容したSF6分解ガス除去槽に前記
不純物含有SF6ガスを通すことが行なわれてお
り、これにより不純物のうちSF6分解ガス成分で
あるSOF2、SF4、HF、SO2および有機高分子絶
縁物の熱分解ガス成分であるCO2のほとんどが水
酸化カルシウム水溶液に吸収されて除去される。
また、SF6分解ガス成分の含有量が少ない場合に
は、通常水分除去剤として使用される粉末合成ゼ
オライトNa2O・Al2O3・2.5SiO2・nH2O（NaX型
合成ゼオライト）を使用してもSF6分解ガスを除
去することができる。
のは前記SF6分解ガス成分がほとんであり、従来
これを除去するためにSF6分解ガス除去剤、例え
ば水酸化カルシウム（Ca（OH）2）を過剰に投入
した水溶液を収容したSF6分解ガス除去槽に前記
不純物含有SF6ガスを通すことが行なわれてお
り、これにより不純物のうちSF6分解ガス成分で
あるSOF2、SF4、HF、SO2および有機高分子絶
縁物の熱分解ガス成分であるCO2のほとんどが水
酸化カルシウム水溶液に吸収されて除去される。
また、SF6分解ガス成分の含有量が少ない場合に
は、通常水分除去剤として使用される粉末合成ゼ
オライトNa2O・Al2O3・2.5SiO2・nH2O（NaX型
合成ゼオライト）を使用してもSF6分解ガスを除
去することができる。
しかしながらCOガスはこれらのSF6分解ガス
除去剤では除去することができない。COガスは
N2に似た低沸点の気体であり、電気的特性に影
響を与えないが、許容濃度50ppmとかなり有害な
成分である。このため、SF6ガス中に高濃度の
COガスが含まれている場合、これを除去するこ
とが是非とも必要である。特に有機高分子絶縁物
を多量に使用する変圧器においてはその要求が強
い。
除去剤では除去することができない。COガスは
N2に似た低沸点の気体であり、電気的特性に影
響を与えないが、許容濃度50ppmとかなり有害な
成分である。このため、SF6ガス中に高濃度の
COガスが含まれている場合、これを除去するこ
とが是非とも必要である。特に有機高分子絶縁物
を多量に使用する変圧器においてはその要求が強
い。
以上に鑑み、この考案の目的はSF6分解ガスを
はじめ、有機高分子絶縁物の熱分解によつて生じ
る有害ガスであるCOガスをも除去し、高純度で
安全性の高いSF6ガスの回収を可能にするガス回
収装置を提供することにあり、以下図面に示した
実施例についてこの考案を説明する。
はじめ、有機高分子絶縁物の熱分解によつて生じ
る有害ガスであるCOガスをも除去し、高純度で
安全性の高いSF6ガスの回収を可能にするガス回
収装置を提供することにあり、以下図面に示した
実施例についてこの考案を説明する。
図において、１はSF6ガス封入変圧器、２は開
閉弁、３は送気または吸引装置、４はSF6分解ガ
ス除去槽でSF6分解ガス除去剤として例えば前記
の水酸化カルシウムを過剰に投入した水溶液を収
容している。５は水分除去槽で水分除去剤として
例えば前記の合成ゼオライトの粉末を収容してい
る。６は一酸化炭素除去槽で例えば一酸化炭素を
二酸化炭素にする、酸化マンガン、酸化銅を主体
とした金属酸化物の触媒（例えばホプカライト触
媒）を収容している。７は二酸化炭素除去槽で二
酸化炭素除去剤としてSF6分解ガス除去槽４と同
様アルカリ性の水酸化カルシウム過剰水溶液を収
容しており、一酸化炭素除去槽６で生成した二酸
化炭素を除去するものである。８は５と同様の水
分除去層、９はSF6ガス圧縮機および貯槽、１０
は管路である。
閉弁、３は送気または吸引装置、４はSF6分解ガ
ス除去槽でSF6分解ガス除去剤として例えば前記
の水酸化カルシウムを過剰に投入した水溶液を収
容している。５は水分除去槽で水分除去剤として
例えば前記の合成ゼオライトの粉末を収容してい
る。６は一酸化炭素除去槽で例えば一酸化炭素を
二酸化炭素にする、酸化マンガン、酸化銅を主体
とした金属酸化物の触媒（例えばホプカライト触
媒）を収容している。７は二酸化炭素除去槽で二
酸化炭素除去剤としてSF6分解ガス除去槽４と同
様アルカリ性の水酸化カルシウム過剰水溶液を収
容しており、一酸化炭素除去槽６で生成した二酸
化炭素を除去するものである。８は５と同様の水
分除去層、９はSF6ガス圧縮機および貯槽、１０
は管路である。
次に動作について説明する。
開閉弁２を開放すると、SOF2、SF4、HF、
SO2、CO、CO2、CF4等の不純物を含むSF6ガス
は変圧器１の封入圧力が利用できる間は送気もし
くは吸引装置３を使用することなく変圧器１から
下流側のSF6分解ガス除去槽４に流入する。封入
圧力が大気圧近くに低下したときには、送気もし
くは吸引装置３を運転してSF6分解ガス除去槽４
に送り込む。SF6分解ガス除去槽４に入ることに
より、ほとんど全てのSOF2、SF4、HF、SO2お
よびCO2が除去され、流出口からは水分を伴つて
CF4ガスとCOガスとを含むSF6ガスが流出する。
一酸化炭素除去剤として本実施例で使用するホプ
カライト触媒は湿つた状態では活性が落ちるので
一酸化炭素除去槽６の前段に水分除去槽５を設け
て、SF6分解ガス除去槽４から出たガスを水分除
去層５に導入して水分を除去した後、一酸化炭素
除去槽６に導入する。一酸化炭素除去槽６に入る
とCOはCO2に変換されることによつて除去され、
CF4ガス、CO2ガスおよびSF6ガスの混合ガスが
二酸化炭素除去槽７に入り、CO2ガスが除去さ
れ、再び水分を伴つてCF4ガスを含むSF6ガスが
二酸化炭素除去槽７から流出する。最終的に回収
されるSF6ガス中に水分が存在するのは好ましく
ないので二酸化炭素除去槽７から流出したガスを
再び水分除去槽８に通す。かくして微量のCF4ガ
スを含むだけの高純度のSF6ガスがSF6ガス圧縮
機および貯槽９に入つて、ここで圧縮、貯蔵され
る。このように回収されたSF6ガスは再使用する
ことができる。
SO2、CO、CO2、CF4等の不純物を含むSF6ガス
は変圧器１の封入圧力が利用できる間は送気もし
くは吸引装置３を使用することなく変圧器１から
下流側のSF6分解ガス除去槽４に流入する。封入
圧力が大気圧近くに低下したときには、送気もし
くは吸引装置３を運転してSF6分解ガス除去槽４
に送り込む。SF6分解ガス除去槽４に入ることに
より、ほとんど全てのSOF2、SF4、HF、SO2お
よびCO2が除去され、流出口からは水分を伴つて
CF4ガスとCOガスとを含むSF6ガスが流出する。
一酸化炭素除去剤として本実施例で使用するホプ
カライト触媒は湿つた状態では活性が落ちるので
一酸化炭素除去槽６の前段に水分除去槽５を設け
て、SF6分解ガス除去槽４から出たガスを水分除
去層５に導入して水分を除去した後、一酸化炭素
除去槽６に導入する。一酸化炭素除去槽６に入る
とCOはCO2に変換されることによつて除去され、
CF4ガス、CO2ガスおよびSF6ガスの混合ガスが
二酸化炭素除去槽７に入り、CO2ガスが除去さ
れ、再び水分を伴つてCF4ガスを含むSF6ガスが
二酸化炭素除去槽７から流出する。最終的に回収
されるSF6ガス中に水分が存在するのは好ましく
ないので二酸化炭素除去槽７から流出したガスを
再び水分除去槽８に通す。かくして微量のCF4ガ
スを含むだけの高純度のSF6ガスがSF6ガス圧縮
機および貯槽９に入つて、ここで圧縮、貯蔵され
る。このように回収されたSF6ガスは再使用する
ことができる。
以上のように、この考案によればSF6ガス回収
路にSF6分解ガス除去槽とは別に一酸化炭素除去
槽を設けて、回収されるSF6ガスから一酸化炭素
ガスを除去するようにしたので高純度で安全性の
高いSF6ガスの回収が可能となる。
路にSF6分解ガス除去槽とは別に一酸化炭素除去
槽を設けて、回収されるSF6ガスから一酸化炭素
ガスを除去するようにしたので高純度で安全性の
高いSF6ガスの回収が可能となる。
なお、以上説明した実施例では一酸化炭素除去
剤として一酸化炭素ガスを二酸化炭素ガスに変換
するホプカライト触媒を使用するものを示した
が、他の適当な一酸化炭素除去剤を使用しうるこ
というまでもない。また、二酸化炭素除去槽はホ
プカライト触媒によつて一酸化炭素が二酸化炭素
に変換されるため、これを除去するために設けた
のであつて、二酸化炭素を除去する必要のない場
合、あるいは二酸化炭素を生成しない一酸化炭素
除去剤を使用する場合等は二酸化炭素除去槽は省
略しうる。更に、図示の実施例では一酸化炭素除
去剤としてホプカライト触媒を使用しており、こ
れは耐湿性に難があるため、一酸化炭素除去槽６
の前段に水分除去槽５を設けたが、耐湿性の優れ
た触媒を使用すれば水分除去槽５は省略すること
ができる。なお、SF6分解ガスは化学的に活性で
前記ホプカライト触媒の活性低下をひきおこすば
かりでなく、一般に触媒毒としての作用が大きい
ため図示の実施例のようにSF6分解ガス除去槽は
一酸化炭素除去槽より前段に設けるのが良い。
剤として一酸化炭素ガスを二酸化炭素ガスに変換
するホプカライト触媒を使用するものを示した
が、他の適当な一酸化炭素除去剤を使用しうるこ
というまでもない。また、二酸化炭素除去槽はホ
プカライト触媒によつて一酸化炭素が二酸化炭素
に変換されるため、これを除去するために設けた
のであつて、二酸化炭素を除去する必要のない場
合、あるいは二酸化炭素を生成しない一酸化炭素
除去剤を使用する場合等は二酸化炭素除去槽は省
略しうる。更に、図示の実施例では一酸化炭素除
去剤としてホプカライト触媒を使用しており、こ
れは耐湿性に難があるため、一酸化炭素除去槽６
の前段に水分除去槽５を設けたが、耐湿性の優れ
た触媒を使用すれば水分除去槽５は省略すること
ができる。なお、SF6分解ガスは化学的に活性で
前記ホプカライト触媒の活性低下をひきおこすば
かりでなく、一般に触媒毒としての作用が大きい
ため図示の実施例のようにSF6分解ガス除去槽は
一酸化炭素除去槽より前段に設けるのが良い。
図はこの考案の一実施例を概略的に示す。
図中、３はSF6分解ガス除去槽、５は一酸化炭
素除去槽である。
素除去槽である。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ 六弗化ガス封入電気機器の六弗化硫黄ガス回
収路に、六弗化硫黄分解ガス除去槽とは別に一
酸化炭素除去槽を設けた六弗化硫黄ガス封入電
気機器用ガス回収装置。 ２ 一酸化炭素除去槽が一酸化炭素除去剤として
ホプカライト触媒を使用したものである実用新
案登録請求の範囲第１項記載の六弗化硫黄ガス
封入電気機器用ガス回収装置。 ３ 一酸化炭素除去槽を六弗化硫黄分解ガス除去
槽の後段に配置した実用新案登録請求の範囲第
１項または第２項記載の六弗化硫黄ガス封入電
気機器用ガス回収装置。 ４ 一酸化炭素除去槽の後段に二酸化炭素除去槽
を配置した実用新案登録請求の範囲第２項記載
の六弗化硫黄ガス封入電気機器用ガス回収装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14434282U JPS5948730U (ja) | 1982-09-22 | 1982-09-22 | 六弗化硫黄ガス封入電気機器用ガス回収装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14434282U JPS5948730U (ja) | 1982-09-22 | 1982-09-22 | 六弗化硫黄ガス封入電気機器用ガス回収装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5948730U JPS5948730U (ja) | 1984-03-31 |
| JPS6333620Y2 true JPS6333620Y2 (ja) | 1988-09-07 |
Family
ID=30321907
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14434282U Granted JPS5948730U (ja) | 1982-09-22 | 1982-09-22 | 六弗化硫黄ガス封入電気機器用ガス回収装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5948730U (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5545851B2 (ja) * | 2010-08-02 | 2014-07-09 | 一般財団法人電力中央研究所 | パッファーを備えないガス絶縁開閉器の異常検出方法 |
| JP2014179301A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Toshiba Corp | 電力用ガス絶縁機器及びその運転方法 |
| JP2014200155A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-23 | 株式会社東芝 | ガス絶縁開閉器 |
-
1982
- 1982-09-22 JP JP14434282U patent/JPS5948730U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5948730U (ja) | 1984-03-31 |
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