JPS6334463B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は静電記録体もしくは静電像転写方式の
電子写真プロセス（TESI法）で転写静電像を保
持する記録体に関するものである。導電性支持体
上にもしくは非感光性絶縁体を介してその表面に
シラン化合物の加水分解物と縮合触媒あるいは硬
化剤とからなる組成物を塗布したのち縮合硬化し
て作製したことを特徴とする記録性能および機械
的性能がすぐれた静電像記録体にかかわる。とく
に、静電像記録体にトナー像を形成し、その像を
普通紙に転写した後、クリーニングし反復使用す
る記録方式、例えばハードコピー原紙として普通
紙を用いる複写機、フアクシミリ受信機、プリン
ターなどの転写マスターとして有用である。 反復使用の転写マスターによる普通紙へのハー
ドコピー・プロセスは、(1)静電像記録、(2)トナー
現像、(3)転写、(4)記録体のクリーニングからな
る。記録体に対する要求性能は、(1)静電像記録性
能………適性な表面および体積固有抵抗、誘電
率、高い絶縁破壊強さ、(2)記録体の耐久性………
耐コロナ劣化性、耐スクラツチ性、耐摩耗性、(3)
湿度によつて記録性能が変化しないことなどであ
るが、従来の記録体はかかる性能を同時に満足す
ることが難しくより高性能の記録体の開発が強く
望まれている。転写マスター用材料は、記録体の
耐久性を満足して他の性能を両立することが最大
の難関となつている。 TESI法は、ハードコピー作製プロセスで機械
的損傷の主因となるトナー現像の転写、クリーニ
ングを光導電体上で行なわないで、光導電体の寿
命がまだあるのに機械的損傷のため転写マスター
を廃棄しているゼログラフイー法（カールソン
法）の欠点を改良することができる。かかる点か
らTESI法に用いる転写静電像の記録体はすぐれ
た機械的耐久性が必要であり、該性能を達成すれ
ば複写機、プリンターなどのマスターの寿命が伸
びるばかりでなくメインテナンスの手間を省くこ
とができ、装置の取扱いが簡便となりかつ安い費
用でハードコピーをえることができる。 また、TESI法はゼログラフイー法で問題とな
つている有毒性光導電体のコピー紙への転移ある
いは室内への飛散防止など環境衛生の保全からも
有望である。 かかる要求性能を達成するため導電性支持体上
に設ける絶縁性誘電体材料あるいは該誘電体上に
設ける保護膜材料の開発に多大の労苦が払われて
きた。かかる材料として各種の合成高分子が一般
的であり、さらに添加剤として無機化合物、例え
ば酸化物、フツ化物、塩化物、硫化物、炭酸塩、
硝酸塩、硫酸塩などが使用もしくは提案されてい
る。しかし、従来、提案されてきた材料は耐スク
ラツチ性、耐摩耗性の機械的耐久性が劣り反復使
用する転写マスターとして満足し得る性能を発揮
するに至つていない。 かかる材料の一つとしてケイ素化合物が使用さ
れてきた。シラン化合物、シラン化合物の重合体
あるいはシリカなどが提案されているが、従来の
構造材料は記録性能・表面の離型性能の向上にと
どまつて機械的耐久性を改良するには至つていな
い。さらに詳細に説明すると次の如くである。シ
ラン化合物のビニルトリエトキシシラン、γ−グ
リシドオキシプロピルメトキシシランなどオルガ
ノフアンクシヨナルシラン化合物（シランカツプ
リング剤）を加水分解して得たシラノール化合物
を使用する例があるが、該事例ではシラノール化
合物は無機微粉末の改質剤にすぎず記録体の構造
体材料として活用されていない。これは多量のシ
ラノール化合物を用いると未反応物が残存し性能
が低下して好ましくないと説明していることから
も明白である。シラン化合物の重合体はその構造
を特定して提案される場合は少なく、オルガノポ
リシロキサン、シリコン樹脂、シリコンオイル、
シリコンゴムなどとして提案されているにすぎな
い。即ち、ポリシロキサン結合を有する長鎖状重
合体が主体であり、本発明に使用するような特定
の三次元縮合重合体を言及するに至つていない。
辛うじてシリコンゴムの架橋体が示唆されている
程度であり、二次元架橋のゴム弾性体にすぎな
い。 また、シリカは添加剤として提案されているに
すぎず、記録体の表面性能の改良であつて耐久性
のよい構造体を提供するには至らない。例えばシ
リカの表面のシラノール基を置換したアルキル化
シリカなどである。 本発明は従来、取上げられなかつたケイ素化合
物の三次元の縮合体で、かつ、特定の原材料を用
いて特定の構造体を合成して使用するものであり
従来の材料では達成困難であつた機械的耐久性と
記録性能の両立が初めて可能になつた。 すなわち、本発明は、導電性支持体に直接もし
くは非感光性絶縁体を介して、 (A) 一般式 （但し、X¹は

【式】を含む基、R¹は C_1〜6のアルキルまたはアリール、ｎは２または
３、ａは０〜２、ｂは１〜６の整数）で表わされ
る加水分解物、シラノールおよび／またはシロキ
サン基を含む化合物およびエポキシ化合物の混合
物、と (B) 硬化剤 とからなるケイ素化合物層を設けたことを特徴と
する静電記録あるいは静電像転写方式電子写真に
用いる静電像記録体に関する。 本発明の静電像記録体は導電性支持体を使用す
る。支持体は、ドラム、シート、フレキシブルな
フイルムなどが使用でき、それ自体が導電性の場
合と絶縁体を支持体としその表面に導電材料を被
着もしくは積層する場合などがある。導電性支持
体としてはアルミニウム、銅、鉄、亜鉛、あるい
はステンレスなどのドラム、箔などがある。絶縁
性支持体はガラス、高分子材料などであり、その
導電化方法は金属箔のラミネート、金属あるいは
金属化合物の薄層被着、導電性ポリマあるいは導
電性化合物の配合組成物からなる塗剤のコーチン
グなどである。金属、金属化合物の被着方法とし
ては真空蒸着、エレクトロンビーム蒸着、スパツ
タリングなどである。静電像記録体を使用する条
件によつては導電層の抵抗値をある範囲に、例え
ば表面抵抗値で10²から10⁸Ω／□の間でかなり狭
い範囲に制禦する必要がある場合は、金属、金属
化合物の被着量によりあるいは抵抗値が高い場合
は島状もしくは縞状に被着するなど導電層の形態
を加味して調整でき、スパツタリングによる被着
方法などが有用である。金属、金属化合物として
はアルミニウム、銅、パラジウム、白金、銀、ロ
ジウム、酸化インジウム、カルコゲン化合物、ス
ズ、酸化スズ、スズあるいは酸化スズをドープし
た酸化インジウムなどが使用できる。フレキシブ
ルな静電像記録体を作製する場合は高分子フイル
ムが好ましくポリエチレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６
ナフタリンジカルボキシレートなどのポリエステ
ル重合体、ポリプロピレンなどのポリオレフイ
ン、ナイロン12などのポリアミド、高分子鎖に五
員環イミド結合を有するポリイミド、ポリカーボ
ネートなどのフイルムが使用できる。 導電性支持体には直接もしくは非感光性絶縁体
を介してシラン化合物・加水分解物の組成物を塗
布して縮合硬化するが、この非感光性絶縁物は、
有機あるいは有機金属高分子が使用でき、(1)ポリ
エチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−２，６ナフタレンジカル
ボキシレート、エチレングリコールと２，２アル
キル置換１，３−プロパンジオールと１〜２種の
カルボン酸とからえたエステル共重合体、不飽和
ポリエステルなどのポリエステル重合体あるいは
共重合体、(2)ポリエチレン、ポリプロピレン、エ
チレン・酢酸ビニル共重合体などのオレフイン重
合体あるいは共重合体、(3)ポリスチレンおよびス
チレン・ブダジエン共重合体などのスチレン共重
合体、(4)酢酸セルロースなどのセルロース誘導
体、(5)ポリ塩化ビニル、塩素化ポリ塩化ビニルあ
るいは塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体などの塩
化ビニル共重合体、(6)高分子主鎖に五員環イミド
結合を有するポリイミド、ポリアミドイミド、(7)
ポリ酢酸ビニル、(8)ポリ四弗化エチレン、ポリ三
弗化塩化エチレン、ポリ弗化ビニリデンなどの弗
素樹脂、(9)塩化ビニリデン・塩化ビニル共重合
体、塩化ビニリデン・アルキルアクリレート共重
合体などの塩化ビニリデン共重合体、(10)末端に
OH基をもつポリエステルまたはポリエーテルと
多官能イソシアナートから得たポリウレタン樹
脂、(11)アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル重合体あるいは共重合体、(12)エポキシ樹脂、
（13）フエノール樹脂、（14）メラミン樹脂、（15）
尿素樹脂、（16）ポリカーボネート、（17）ポリビ
ニルアセタール、などが使用できる。 本発明に用いるケイ素化合物層中には分子内に
エポキシ基およびシラノールおよび／またはシロ
キサン基を含む化合物として、 一般式 （但し、X¹は

【式】を含む基、R¹は C_1〜6のアルキルまたはアリール、ｎは２または
３、ａは０〜２、ｂは１〜６の整数）で表わされ
る化合物が使用される。

【式】を含む基とは、例えば

【式】（R²は水素またはメチル）、

【式】などである。 具体的な代表例としては、γ−グリシドキシプ
ロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルアルキルジアルコキシシラン、β（３，
４エポキシシクロヘキシル）エチルトリアルコキ
シシランの加水分解物をあげることができる。 本発明において使用されるシラノールおよび／
またはシロキサン基を含む化合物とは、４アルコ
キシケイ素の加水分解物および、一般式

【式】または

【式】 （但し、X²はC_1〜6のアルキル、ハロゲン、ビニ
ル、アリール、メタクリロキシ、メルカプト、ア
ミノ、H₂N−（CH₂）_b−NH−基、R¹はC_1〜6のア
ルキルまたはアリール、ｎは２または３、ｂは１
〜６の整数）で表わされる化合物である。 具体的な例はメチルシリケート、エチルシリケ
ート、イソプロピルシリケート、ｎ−プロピルシ
リケート、ｎ−ブチルシリケート、sec−ブチル
シリケート、tert−ブチルシリケート、メチルト
リアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシラ
ン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリア
ルコキシアルコキシシラン、フエニルトリアルコ
キシシラン、メタクリロキシプロピルトリアルコ
キシシラン、クロロプロピルトリアルコキシシラ
ン、アルキルトリアシロキシシラン、γ−アミノ
プロピルトリアルコキシシラン、Ｎ−β（アミノ
エチル）γ−アミノプロピルトリアルコキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラ
ン、ジアルキルジアルコキシシラン、アルキルフ
エニルジアルコキシシラン、ジフエニルジアルコ
キシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノ
プロピルメチルジアルコキシシラン、アルキルト
リクロロシランの加水分解物などをあげることが
できる。 これらケイ素化合物の加水分解は水または塩酸
あるいは硫酸などの酸性水溶液を添加撹拌するこ
とによつて製造される。通常は上記ケイ素化合物
中に酸性水を一度に、あるいは徐々に添加するこ
とによつて行なわれる。加水分解に際してはアル
コール、アルコキシアルコール、酢酸などの有機
カルボン酸などが生成してくるので無溶媒で加水
分解することが可能である。あるいは適当な溶媒
にケイ素化合物を混合したのち加水分解すること
もできる。通常は得られた加水分解物溶液をその
まま使用するが、目的によつては無溶媒で加水分
解を行なつたのち、生成するアルコール等を加熱
および／または減圧下に適当量除去して使用する
ことも可能であり、その後に適当な溶媒を添加す
ることにより実質的に溶媒を置換することも可能
である。溶媒としてはアルコール、エステル、エ
ーテル、ケトン、ハロゲン化炭化水素あるいはト
ルエンなどの芳香族系などの溶媒が目的に応じて
種々使用可能であり、必要に応じて混合溶媒を使
用することもできる。 ２種以上の場合はそれぞれ加水分解して混合し
てもよいし、２種以上を混合したあと加水分解し
てもよい。 本発明で使用されるエポキシ化合物としては、
塗料、注型用などに広く実用されているもので、
例えば過酸化法で合成されるポリオレフイン系エ
ポキシ樹脂、シクロペンタジエンオキシドあるい
はヘキサヒドロフタル酸とエピクロルヒドリンか
ら得られるポリグリシジルエステル、ビスフエノ
ールＡやカテコール、レゾルシノールなどの多価
フエノールあるいは（ポリ）エチレングリコー
ル、（ポリ）プロピレングリコール、ネオペンチ
ルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロ
パン、ペンタエリスリトール、ジグリセロール、
ソルビトールなどの多価アルコールとエピクロル
ヒドリンから得られるポリグリシジルエーテル、
環式エポキシ樹脂、エポキシ化植物油、ノボラツ
ク型フエノール樹脂とエピクロルヒドリンから得
られるエポキシノボラツク樹脂、フエノールフタ
レインとエピクロルヒドリンから得られるエポキ
シ樹脂、さらにはグリシジルメタクリレートとメ
チルメタクリレートなどのアクリレート系モノマ
ーあるいはスチレンなどとの共重合体などがあげ
られる。 本発明の硬化剤としては、各種のエポキシ硬化
剤を使用し得るが、特に下記構造のアルミニウム
化合物が本発明の目的の達成に著しく効果的であ
る。該化合物は一般式 Al・Y_n・Z_(3-n) 〔但し、ＹはOL（ＬはC_1〜6のアルキル）、Ｚは一
般式M¹COCH₂COM²またはM³COCH₂COOM⁴
（M¹、M²、M³、M⁴）はいずれもC_1〜6のアルキ
ル）で示される化合物に由来する配位子から選ば
れる少なくとも１つであり、ｍは０〜３の整数で
ある。〕で示される化合物である。各種の化合物
をあげ得るが、組成物への溶解性、安定性、硬化
触媒としての効果などの観点から好ましいのは、
アルミニウムiso−プロポキシド、アルミニウム
エトキシド、アルミニウムtert−ブトキシド、ア
ルミニウムアセチルアセトネート、アルミニウム
ビス−エチルアセトアセテート−モノ−アセチル
アセトネート、アルミニウム−ジ−ｎ−ブトキシ
ド−モノエチルアセトアセテート、アルミニウム
−ジ−iso−プロポキシド−モノ−メチルアセト
アセテート、アルミニウム−ジ−sec−ブトキシ
ド−モノ−エチルアセトアセテート、アルミニウ
ム−ジ−メトキシド−モノ−メチルアセトアセテ
ートなどである。これらは２種以上を混合して使
用することも可能である。 硬化剤の添加量は上記混合物１重量部あたり
0.0001〜0.5重量部、特に好ましくは0.0005〜0.2
重量部が適当であり、これより少なくては硬化不
十分となるし、一方これ以上では塗膜あるいは樹
脂の透明性の低下、耐水性の低下などの欠陥を生
ずる。 また上記ケイ素化合物の特性を維持できる範囲
でコロイド状シリカを配合することができる。コ
ロイド状シリカは、無水ケイ酸を水またはアルコ
ール系溶媒に分散させたコロイド溶液が有効であ
り、周知の方法で製造され、市販されているもの
である。本発明の目的には平均粒径５〜100ミリ
ミクロンのものが有用である。 本発明の組成物には、塗布時におけるフローお
よび塗膜の平滑性を向上させるために界面活性剤
を使用することも可能であり、とくにジメチルシ
ロキサンとアルキレンオキシドとのブロツクまた
はグラフト共重合体などが有効である。さらに必
要に応じて硬化触媒、添加剤（例えば、接着促進
剤、PH調整剤、可塑剤、安定剤、酸化防止剤、紫
外線吸収剤、滑剤、増粘剤、消泡剤、着色剤な
ど）を配合して使用することも許される。 前記ケイ素化合物層の厚さは特に指定しない
が、静電記録へのアプリケーシヨンに応じ組成、
膜厚をコントロールし、解像力や耐摩耗性を低下
させない膜厚にする。通常は0.5μ〜50μが望まし
い。薄いと耐摩耗性が十分でなく、また厚すぎる
と画質が悪くなつたり、硬化時間が長くなつた
り、平面性の低下、クラツクの発生の危険があり
好ましくない。 かかるケイ素化合物層の塗布手段としては刷毛
塗り、浸漬塗り、ナイフ塗り、ロール塗り、スプ
レー塗装、流し塗り、回転塗り（スピナー、ホエ
ラーなど）などの通常に行なわれている塗装方法
が容易に使用可能である。 本発明の静電像記録体は、各層間に必要に応じ
て接着性を向上させるために公知の表面処理を行
なつたり、プライマーなどの表面改質層を設ける
ことができる。 以上のようにして得られる静電像記録体は、硬
度特に耐摩耗性、耐スクラツチ性にすぐれ、スチ
ールウールなどの硬い材料で強く摩擦してもほと
んど傷がつくことなく、静電記録体の問題点であ
つた加工時、画像形成時および使用時における引
つかき傷による外観低下をおこすことがないので
耐久性、商品価値が著しく向上する。また易クリ
ーニング性、耐薬品性、耐湿性にすぐれ、静電記
録実用特性を実質上なんらさまたげることがな
い。 また記録体がフレキシブルな基板からなるとき
は、本発明のケイ素化合物からなる保護膜の可撓
性が著しくすぐれているため、より好ましい実施
形態となる。連続加工や連続使用も可能となるの
で、作業性および実用性の高い静電画像記録体を
作ることができる。 以下実施例について説明するが、これらに限定
されるべきものではない。なお例中の部数および
％は特にことわりのない限り重量による。 実施例 １ 厚さ100μの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ
ートフイルム（東レ(株)製“ルミラー”）の上に、
パラジウム（純度99.99％）を陰極スパツタリン
グ法により付着させた。このフイルムの表面電気
抵抗は５×10⁶Ω／□であつた。 陰極スパツタリングの方法はパラジウム板を陰
極とし、陽極を水で冷却された金属ドラムとし
て、該ドラムにフイルムが密着するようにしつつ
フイルムを走行させ、両極板の距離25mmで直流電
圧4kV印加して10^-2Torrオーダーのアルゴンガ
ス低真空雰囲気下でスパツタリングした。 該フイルムのパラジウム膜上に、飽和ポリエス
テル樹脂と酸化ケイ素微粉末からなる厚さ7μの
絶縁層を形成し、静電像記録体No.１を作製した。 該絶縁層の上にγ−グリシドキシプロピルメチ
ルジエトキシシランを0.01N塩酸水溶液で加水分
解して得られた加水分解物（固形分61％を含む）
100部に、“エピコート”828（シエル化学製、エポ
キシ化合物）45部、メタノール分散コロイド状シ
リカ（日産化学(株)製“メタノールシリカゾル”、
固形分濃度30％）150部、アルミニウムアセチル
アセトネート９部、シリコーン系界面活性剤0.32
部、さらに溶剤としてイソプロピルアルコール／
ｎ−ブチルアルコール＝2/1混合物200部を添加配
合した塗料を、固形分塗布厚さが3μになるよう
に塗布し、150℃、２分間乾燥、硬化させて平面
性の良好な静電像記録体No.２を作製した。 得られた性能は表１のとおりであつた。 なお試験方法は次のとおりである。（以下の実
施例において同じ。） (1) 耐摩耗性 スチールウール＃0000で摩擦し、傷のつきに
くさを調べる。判定は次のようにして行なつ
た。 Ａ：強く摩擦しても傷がつかない。 Ｂ：かなり強く摩擦すると少し傷がつく。 Ｃ：弱い摩擦でも傷がつく。 (2) 静電特性 コロナ帯電器により帯電したのち、表面電位
の減衰を測定し、静電特性を評価する。 (3) 可撓性（曲げテスト） ケイ素化合物層を外側にして積層フイルムを
直径の異なる種々の円柱に巻きつけ、ケイ素化
合物層に亀裂が発生するときの直径で表わす。 本発明の静電像記録体は、静電特性が良好であ
り、耐摩耗性、耐久性はNo.１に比べ著しく向上し
ていた。また表面の耐薬品性は、炭化水素系（ト
ルエン、キシレン、リグロイン）、ハロゲン化炭
化水素系（クロロホルム、四塩化炭素、トリクレ
ン）と24時間接触させたが異常は認められなかつ
た。 上記静電像記録体をマルチピン電極ヘツドによ
つて静電記録のあと現像し、フアクシミリマスタ
ーフイルムとして使用した。本発明のNo.２記録体
は電極ヘツドの接触によつても傷の発生がなく、
耐久性にすぐれ、くり返し使用しても鮮明な画像
を得ることができた。また85％RH湿度下での画
像も良好であつた。一方No.１記録体は耐摩耗性に
劣り、くり返し使用耐久性は実用上問題となつ
た。 上記ケイ素化合物層のかわりに末端シラノール
を有するポリジメチルシロキサン樹脂層を厚さ
2μ設けたところ、耐摩耗性が十分でなく、くり
返し使用により画像が汚れ、使用上問題となつ
た。 実施例 ２ 実施例１と同様にして作つたパラジウム層の上
に、アクリル酸エステル共重合体からなるプライ
マー層を設けたのち、ブチルシリケート120部、
エタノール60部、0.1N塩酸水溶液31.2部からなる
加水分解物、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシランを0.01N塩酸水溶液で加水分解して得
られた加水分解物50部、“エピコート”828（シエ
ル化学製エポキシ化合物）45部、メタノール分散
コロイド状シリカ（日産化学(株)製“メタノールゾ
ル”、固形分濃度30％）130部、イソプロピルアル
コール／トルエン＝1/1混合物50部に酸化ケイ素
微粉末25部を添加配合した塗料を、固形分装布厚
さ8μ設けて静電像記録体を作成した。 実施例１に準じてフアクシミリマスターフイル
ムとして使用したところ、耐久性にすぐれ、くり
返し使用が可能であつた。

【表】 実施例 ３ 厚さ100μの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ
ートフイルム（東レ(株)製“ルミラー”）の上に実
施例１に準じてパラジウムを陰極スパツタリング
法により付着させた。このフイルムの表面電気抵
抗は、1.1×10⁴Ω／□であつた。 該フイルムのパラジウム膜上に、エポキシ・ポ
リアミド系接着剤を固形分塗布厚さ0.3μ設けたあ
と、ポリカーボネート樹脂（出光石油化学(株)製Ａ
−2200）100部、酸化ケイ素微粉末10部、テトラ
ヒドロフラン／トルエン＝10/2混合物900部から
なる厚さ5μの絶縁層を形成し、静電像記録体No.
３を作製した。 該絶縁層の上にアクリル酸エステル共重合体か
らなるプライマー層を設けたのち、この上にγ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシランを
0.01N塩酸水溶液で加水分解して得られた加水分
解物（固形分58％を含む）100部に、“デイナコー
ル”320（長瀬産業(株)製エポキシ化合物）55部、ア
ルミニウムアセチルアセトネート10部、シリコー
ン系界面活性剤0.30部、イソプロピルアルコー
ル／ｎ−ブチルアルコール＝2/1混合液230部を添
加配合した塗料を、固形分塗布厚さが2μになる
ように塗布し、乾燥、硬化させて可撓性、平面性
の良好な静電像記録体No.４を作製した。 上記静電像記録体を、ガラス板上に透明導電
層、硫化カドミウムを含む光導電性感光層を順次
設けた感光板と重ね合わせ、パターン状光露光と
負帯電を同時に行ない、静電記録体表面に静電潜
像を形成させた。次いで静電潜像を湿式トナーに
よつて顕像可視化したあと普通紙に転写し、複写
画像を得た。静電像記録体表面は残存トナーをク
リーニングして、くり返し使用した。 No.３、No.４静電像記録体ともに静電特性は良好
で、使用回数が少ないうちは高濃度の鮮明な画像
が得られた。使用回数が増加するにつれてNo.３記
録体は、表面に傷が発生し、画像が汚れてきた。
本発明のNo.４記録体は、耐久性にすぐれ、くり返
し使用しても画質の低下は認められなかつた。ま
た耐薬品性、トナーのクリーニング性は良好であ
り、実用上何ら問題がなかつた。 またNo.４記録体は可撓性にすぐれているので取
扱いやすく、作業性が良好であつた。 さらに感光板の感光層に直接トナーがのらない
ので、感光板の寿命がのび、メンテナンスが容易
となつた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 導電性支持体に直接もしくは非感光性絶縁体
   を介して、 (A) 一般式 （但し、X¹は【式】を含む基、R¹は C_1〜6のアルキルまたはアリール、ｎは２または
   ３、ａは０〜２、ｂは１〜６の整数）で表わされ
   る加水分解物、シラノールおよび／またはシロキ
   サン基を含む化合物およびエポキシ化合物の混合
   物、と (B) 硬化剤 とからなるケイ素化合物層を設けたことを特徴と
   する静電記録あるいは静電像転写方式電子写真に
   用いる静電像記録体。