JPS6335364B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6335364B2 JPS6335364B2 JP54169884A JP16988479A JPS6335364B2 JP S6335364 B2 JPS6335364 B2 JP S6335364B2 JP 54169884 A JP54169884 A JP 54169884A JP 16988479 A JP16988479 A JP 16988479A JP S6335364 B2 JPS6335364 B2 JP S6335364B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- machining
- electrode
- pulse
- workpiece
- output
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H7/00—Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
- B23H7/14—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply
- B23H7/20—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply for program control, e.g. adaptive
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、パルス信号により電極と被加工物の
相対位置を各パルス毎に所定量移動させる駆動装
置により、所望するパタンに沿つて、上記相対位
置の移動制御を行ないながら上記被加工物を加工
する通電加工装置の改良に関する。
相対位置を各パルス毎に所定量移動させる駆動装
置により、所望するパタンに沿つて、上記相対位
置の移動制御を行ないながら上記被加工物を加工
する通電加工装置の改良に関する。
通電加工たとえば放電加工においては、通常、
総形の電極をある一方向だけに送りを与え、その
方向にアナログ的に極間電圧が一定になるように
サーボを取りながら加工を行なつている。しかし
最近、放電加工においても、加工の送り方向を単
に一方向だけでなく、X、Y、Z軸共同時に制御
し、電極に三次元的な動きを与え、いわゆるフラ
イス加工のような加工を行なうものがあらわれて
きている。このような放電加工によるフライス加
工は、電極を自転させる必要がないため、鋭い角
を出す必要がある形状を加工するには極めて便利
であり、また電極と被加工物の三次元的な動きは
NC装置により制御する方法が便利である。
総形の電極をある一方向だけに送りを与え、その
方向にアナログ的に極間電圧が一定になるように
サーボを取りながら加工を行なつている。しかし
最近、放電加工においても、加工の送り方向を単
に一方向だけでなく、X、Y、Z軸共同時に制御
し、電極に三次元的な動きを与え、いわゆるフラ
イス加工のような加工を行なうものがあらわれて
きている。このような放電加工によるフライス加
工は、電極を自転させる必要がないため、鋭い角
を出す必要がある形状を加工するには極めて便利
であり、また電極と被加工物の三次元的な動きは
NC装置により制御する方法が便利である。
ここで、NC装置により放電加工装置を制御す
る場合、通常の工作機械のように電極あるいは被
加工物の送り速度を一定にして送ることは極めて
困難である。それは、通常放電加工の加工進行速
度(一定時間当たりの加工体積/加工面積)は極
めて小さく、また加工する面積が大きく変化する
ため、加工面積が大きい場合の送り速度に合わせ
ると、加工面積が小さい場合に加工に余裕があり
すぎるため加工効率が悪い。また加工面積が小さ
い場合の送り速度に合わせると、加工面積が大き
くなつた場合、加工間隙で短絡を起こしてしまい
加工を続行することができない。
る場合、通常の工作機械のように電極あるいは被
加工物の送り速度を一定にして送ることは極めて
困難である。それは、通常放電加工の加工進行速
度(一定時間当たりの加工体積/加工面積)は極
めて小さく、また加工する面積が大きく変化する
ため、加工面積が大きい場合の送り速度に合わせ
ると、加工面積が小さい場合に加工に余裕があり
すぎるため加工効率が悪い。また加工面積が小さ
い場合の送り速度に合わせると、加工面積が大き
くなつた場合、加工間隙で短絡を起こしてしまい
加工を続行することができない。
そのために加工間隙の電圧を検出し、その電圧
がある基準電圧以上の時だけ電極と被加工物とに
相対的な送りを与えるようにすることが考えられ
る。第1図と第2図はその考えに沿つたNC装置
により制御された放電加工装置の例である。この
第1図について説明すると、電極1と被加工物2
との間には電流パルス供給装置3から供給される
電流パルスを流し、上記被加工物2を加工する。
電極1と被加工物2との間の相対的なX、Y、Z
軸方向の動きは、NC装置4からの出力により、
それぞれX軸についてはX軸パルスモータ制御回
路5Xを通して送り量に対応する数のパルス列が
X軸用パルスモータ6Xに出力され、該パルスモ
ータ6Xの回転をテーブル送りネジ7Xに伝える
ことにより、テーブル8をX軸方向に移動させ
る。この時Y軸についてもX軸と全く同様であ
り、テーブル8上の被加工物2を移動させる。ま
たZ軸については、Z軸パルスモータ制御回路5
Zの出力パルスがZ軸パルスモータ6Zを駆動
し、電極送りネジ7Zを介して電極1を送る。加
工間隙の平均電圧は、比較器9により基準電圧
VRと比較され、加工間隙の平均電圧が基準電圧
VR以上の時、比較器9の出力Scに論理レベルの
「1」を出力するように構成され、NC装置4に
入力される。
がある基準電圧以上の時だけ電極と被加工物とに
相対的な送りを与えるようにすることが考えられ
る。第1図と第2図はその考えに沿つたNC装置
により制御された放電加工装置の例である。この
第1図について説明すると、電極1と被加工物2
との間には電流パルス供給装置3から供給される
電流パルスを流し、上記被加工物2を加工する。
電極1と被加工物2との間の相対的なX、Y、Z
軸方向の動きは、NC装置4からの出力により、
それぞれX軸についてはX軸パルスモータ制御回
路5Xを通して送り量に対応する数のパルス列が
X軸用パルスモータ6Xに出力され、該パルスモ
ータ6Xの回転をテーブル送りネジ7Xに伝える
ことにより、テーブル8をX軸方向に移動させ
る。この時Y軸についてもX軸と全く同様であ
り、テーブル8上の被加工物2を移動させる。ま
たZ軸については、Z軸パルスモータ制御回路5
Zの出力パルスがZ軸パルスモータ6Zを駆動
し、電極送りネジ7Zを介して電極1を送る。加
工間隙の平均電圧は、比較器9により基準電圧
VRと比較され、加工間隙の平均電圧が基準電圧
VR以上の時、比較器9の出力Scに論理レベルの
「1」を出力するように構成され、NC装置4に
入力される。
NC装置4は計算機により制御されており、第
2図にその概略のフローチヤートを示す。NC装
置4はたとえば50msec毎に、その50msec間に出
力するX、Y、Z方向のパルス数△X、△Y、△
Z(√△2+△2+△2=△L)になるように計
算して求め出力するものである。このフローチヤ
ートはSTARTよりスタートし、以後50msec毎
にライン10を通り、上記比較器9の出力Scが
「1」の時だけ処理11を実行する。処理11は
順次50msec中の移動距離△L(通常△Lは一定)
を決定し、NC装置4の入力情報から電極1の相
対的移動方向を決定し、該電極移動方向と△Lよ
りその50msec中の出力△X1、△Y1、△Z1を計算
して求め、出力してライン12に戻る。Sc=
1?の判断のところで、Sc=0の場合は、処理
11は実行せず、そのままライン12に戻り、次
の50msec信号を待つ。このように加工間隙の状
態によりNC装置4から電極移動指令パルスを出
力するか、しないかを切換えている。
2図にその概略のフローチヤートを示す。NC装
置4はたとえば50msec毎に、その50msec間に出
力するX、Y、Z方向のパルス数△X、△Y、△
Z(√△2+△2+△2=△L)になるように計
算して求め出力するものである。このフローチヤ
ートはSTARTよりスタートし、以後50msec毎
にライン10を通り、上記比較器9の出力Scが
「1」の時だけ処理11を実行する。処理11は
順次50msec中の移動距離△L(通常△Lは一定)
を決定し、NC装置4の入力情報から電極1の相
対的移動方向を決定し、該電極移動方向と△Lよ
りその50msec中の出力△X1、△Y1、△Z1を計算
して求め、出力してライン12に戻る。Sc=
1?の判断のところで、Sc=0の場合は、処理
11は実行せず、そのままライン12に戻り、次
の50msec信号を待つ。このように加工間隙の状
態によりNC装置4から電極移動指令パルスを出
力するか、しないかを切換えている。
従つて例えば加工面積が小さい時は加工進行速
度より実際の電極送り速度(△L/50msec)が
相対的に遅いため、加工間隙は開放気味になり、
比較器9の出力Scは「1」が長く続き、毎50m
secに電極移動指令パルスの出力がなされ、結果
として電極1の平均送り速度は速くなる。また加
工面積が大きくなると、加工進行速度より、電極
の送り速度は相対的に速いため、加工間隙は短絡
気味になり、比較器9の出力Scは「0」の状態
が多くなり、その結果電極移動指令パルスの出力
があまりなされず、電極の平均送り速度は遅くな
る。このように、この方法によれば、加工面積の
変化などによる加工間隙の状態に応動して電極の
平均送り速度が制御されるため、効率の良い加工
ができるというものである。
度より実際の電極送り速度(△L/50msec)が
相対的に遅いため、加工間隙は開放気味になり、
比較器9の出力Scは「1」が長く続き、毎50m
secに電極移動指令パルスの出力がなされ、結果
として電極1の平均送り速度は速くなる。また加
工面積が大きくなると、加工進行速度より、電極
の送り速度は相対的に速いため、加工間隙は短絡
気味になり、比較器9の出力Scは「0」の状態
が多くなり、その結果電極移動指令パルスの出力
があまりなされず、電極の平均送り速度は遅くな
る。このように、この方法によれば、加工面積の
変化などによる加工間隙の状態に応動して電極の
平均送り速度が制御されるため、効率の良い加工
ができるというものである。
しかしこの方法では、加工面積が比較的小さい
場合、あるいは荒加工のように加工間隙が広い場
合などでは加工可能であるが、加工面積が大きい
場合や、加工深さが深い場合、あるいは仕上加工
のように加工間隙が狭い場合などにおいては、加
工間隙からの加工屑の排出が困難であり、加工中
に加工屑が加工間隙につまつたりして、加工の続
行が不可能になる場合がある。そのため、実用上
大きな欠点を有していたと言える。
場合、あるいは荒加工のように加工間隙が広い場
合などでは加工可能であるが、加工面積が大きい
場合や、加工深さが深い場合、あるいは仕上加工
のように加工間隙が狭い場合などにおいては、加
工間隙からの加工屑の排出が困難であり、加工中
に加工屑が加工間隙につまつたりして、加工の続
行が不可能になる場合がある。そのため、実用上
大きな欠点を有していたと言える。
本発明は、上記方法を更に一歩押し進め、電極
の平均送り速度が加工間隙の状態に応動して制御
されるだけでなく、電極送り速度(△L/50m
sec)を加工進行速度より大きくすることにより、
積極的に比較器の出力を「0」の状態にするよう
にし、また比較器の出力が「0」の時は単に電極
移動指令パルスを出力しないだけでなく、電極が
既に移動してきた所望パタン上の軌跡を逆行させ
ることにより、電極と被加工物間の相対的な動が
進行、逆行の繰り返しとなるように構成すること
により、加工屑の排除を促進し、加工時間の短縮
を計るとともに、加工屑の排除の困難な加工にお
いても、加工の続行を可能とするようにしたもの
である。
の平均送り速度が加工間隙の状態に応動して制御
されるだけでなく、電極送り速度(△L/50m
sec)を加工進行速度より大きくすることにより、
積極的に比較器の出力を「0」の状態にするよう
にし、また比較器の出力が「0」の時は単に電極
移動指令パルスを出力しないだけでなく、電極が
既に移動してきた所望パタン上の軌跡を逆行させ
ることにより、電極と被加工物間の相対的な動が
進行、逆行の繰り返しとなるように構成すること
により、加工屑の排除を促進し、加工時間の短縮
を計るとともに、加工屑の排除の困難な加工にお
いても、加工の続行を可能とするようにしたもの
である。
以下本発明の詳細について説明すると、本発明
になる通電加工装置の構成は第1図のようになつ
ており、第3図は第1図中のNC装置4の本発明
によるフローチヤートの一例を示し、また第4図
は電極1を逆行させるための本発明によるメモリ
テーブルの一例を示すものである。このメモリテ
ーブルはNC装置4が電極を進行させるための移
動指令パルス数△X、△Y、△Zを出力すると、
常に逆行メモリアドレスN=1の領域に順次上記
電極進行指令パルス数を格納して行き、その時N
=1の領域に既に格納されているパルス数をN=
2の領域、N=2の領域のものはN=3の領域へ
と転送するような操作が行なわれることにより、
逆行メモリは形成される。また電極1を逆行させ
るための移動指令パルス数は、上記逆行メモリ中
に格納されているパルス数を順次読み出して電極
を逆行させる。
になる通電加工装置の構成は第1図のようになつ
ており、第3図は第1図中のNC装置4の本発明
によるフローチヤートの一例を示し、また第4図
は電極1を逆行させるための本発明によるメモリ
テーブルの一例を示すものである。このメモリテ
ーブルはNC装置4が電極を進行させるための移
動指令パルス数△X、△Y、△Zを出力すると、
常に逆行メモリアドレスN=1の領域に順次上記
電極進行指令パルス数を格納して行き、その時N
=1の領域に既に格納されているパルス数をN=
2の領域、N=2の領域のものはN=3の領域へ
と転送するような操作が行なわれることにより、
逆行メモリは形成される。また電極1を逆行させ
るための移動指令パルス数は、上記逆行メモリ中
に格納されているパルス数を順次読み出して電極
を逆行させる。
第3図のフローチヤートはSTARTからスター
トすると、50msec毎にライン10を通り、比較
器9の出力Scを判断する。該出力が「1」のと
きは、逆行メモリアドレスNが「0」かどうかの
判断を行ないN=0ならば、電極1が進行するた
めの処理13を実行する。処理13においては、
50msec間に電極1が移動すべき距離△L(△L=
√△2+△2+△2)を決定し、また電極移動
方向を決め、△Lと電極移動方向とにより、その
50msec間に出力する電極進行移動指令パルス数
△X1、△Y1、△Z1を計算して求める。次に既に
第4図に示すように構成された逆行メモリテーブ
ル内に格納されている内容を順次、次の逆行メモ
リアドレスの領域にシフトする。次に新しい電極
移動指令パルス数△X1、△Y1、△Z1を逆行メモ
リテーブルのアドレスN=1の領域に格納する。
即ち、逆行メモリテーブルのアドレスN=1の側
から新しい電極移動指令パルス数を押し込んだよ
うな形になる。その後上記△X1、△Y1、△Z1を
電極移動指令パルス数△X、△Y、△Zとして出
力し、ライン12に戻り、次の50msec信号を待
つ。ここで次の50msec信号が入ると上記したよ
うに、比較器9の出力Scの判断を行ない、例え
ば比較器9の出力Scが「0」になつていると、
処理14を行なう。処理14は逆行メモリアドレ
スNに「1」加算し、そのNで示されるアドレス
の内容を読み出す。即ち今逆行メモリアドレスは
N=0となつているからN=1にして、N=1の
領域に格納されている電極移動指令パルス数を読
み出す。次にその読み出した電極移動指令パルス
数の符号を反転させ(電極移動方向を逆転させ)、
即ち△X1=+5μm、△Y1=+3μm、△Z1=−2μ
mの時には、△X=−5μm、△Y=−3μm、△
Z=+2μmとし、電極逆行移動指令パルス数と
して出力し、ライン12に戻る。その後50msec
毎にSc=0の状態が例えば3回続くと、逆行メ
モリテーブルから順次電極移動指令パルス数が読
み出されるため、電極は所望パタンに沿う軌跡上
を150msec間逆行し続ける。
トすると、50msec毎にライン10を通り、比較
器9の出力Scを判断する。該出力が「1」のと
きは、逆行メモリアドレスNが「0」かどうかの
判断を行ないN=0ならば、電極1が進行するた
めの処理13を実行する。処理13においては、
50msec間に電極1が移動すべき距離△L(△L=
√△2+△2+△2)を決定し、また電極移動
方向を決め、△Lと電極移動方向とにより、その
50msec間に出力する電極進行移動指令パルス数
△X1、△Y1、△Z1を計算して求める。次に既に
第4図に示すように構成された逆行メモリテーブ
ル内に格納されている内容を順次、次の逆行メモ
リアドレスの領域にシフトする。次に新しい電極
移動指令パルス数△X1、△Y1、△Z1を逆行メモ
リテーブルのアドレスN=1の領域に格納する。
即ち、逆行メモリテーブルのアドレスN=1の側
から新しい電極移動指令パルス数を押し込んだよ
うな形になる。その後上記△X1、△Y1、△Z1を
電極移動指令パルス数△X、△Y、△Zとして出
力し、ライン12に戻り、次の50msec信号を待
つ。ここで次の50msec信号が入ると上記したよ
うに、比較器9の出力Scの判断を行ない、例え
ば比較器9の出力Scが「0」になつていると、
処理14を行なう。処理14は逆行メモリアドレ
スNに「1」加算し、そのNで示されるアドレス
の内容を読み出す。即ち今逆行メモリアドレスは
N=0となつているからN=1にして、N=1の
領域に格納されている電極移動指令パルス数を読
み出す。次にその読み出した電極移動指令パルス
数の符号を反転させ(電極移動方向を逆転させ)、
即ち△X1=+5μm、△Y1=+3μm、△Z1=−2μ
mの時には、△X=−5μm、△Y=−3μm、△
Z=+2μmとし、電極逆行移動指令パルス数と
して出力し、ライン12に戻る。その後50msec
毎にSc=0の状態が例えば3回続くと、逆行メ
モリテーブルから順次電極移動指令パルス数が読
み出されるため、電極は所望パタンに沿う軌跡上
を150msec間逆行し続ける。
次にある50msec信号で、比較器9の出力Scが
「1」になつていると、その時逆行メモリアドレ
スNは「3」になつているため、N=0?の判断
で処理15を実行する。処理15は逆行してきた
軌跡に沿つて再度進行する必要があるため、まず
逆行メモリアドレスN=3の電極移動指令パルス
数△X3、△Y3、△Z3を読み出し、その後逆行メ
モリアドレスNを「1」減算し、N=2にする。
そして次に△X3、△Y3、△Z3を出力し、ライン
12に戻る。その後Sc=1の状態が続くと、N
=0になるまでの150msec間は処理15を実行
し、最初に逆行し始めた位置まで戻る。
「1」になつていると、その時逆行メモリアドレ
スNは「3」になつているため、N=0?の判断
で処理15を実行する。処理15は逆行してきた
軌跡に沿つて再度進行する必要があるため、まず
逆行メモリアドレスN=3の電極移動指令パルス
数△X3、△Y3、△Z3を読み出し、その後逆行メ
モリアドレスNを「1」減算し、N=2にする。
そして次に△X3、△Y3、△Z3を出力し、ライン
12に戻る。その後Sc=1の状態が続くと、N
=0になるまでの150msec間は処理15を実行
し、最初に逆行し始めた位置まで戻る。
このようにNC装置4が動作することにより、
電極1は所望パタンに沿う軌跡上を進行し、その
結果加工間隙が短かくなり、加工間隙の平均電圧
に対応する電圧が基準電圧VRより低下する。そ
のため比較器9の出力Scが「0」になり、電極
1はNC装置4の上記した動作に従つて進行して
来た軌跡上を逆行する。ここで電極の進行時の速
度(第3図における△L/50msec)は、加工の
進行する速度(単位時間当たりの加工体積/加工
面積)より大きくすることにより、電極1は所望
パタンの軌跡上を常に進行、逆行を繰り返しなが
ら徐々に加工を行なうことになる。
電極1は所望パタンに沿う軌跡上を進行し、その
結果加工間隙が短かくなり、加工間隙の平均電圧
に対応する電圧が基準電圧VRより低下する。そ
のため比較器9の出力Scが「0」になり、電極
1はNC装置4の上記した動作に従つて進行して
来た軌跡上を逆行する。ここで電極の進行時の速
度(第3図における△L/50msec)は、加工の
進行する速度(単位時間当たりの加工体積/加工
面積)より大きくすることにより、電極1は所望
パタンの軌跡上を常に進行、逆行を繰り返しなが
ら徐々に加工を行なうことになる。
以上のように、本発明によれば、電極1は所望
パタンの軌跡上を進行、逆行を繰り返しながら加
工を行なうため、加工面積が大きい場合、加工深
さが深い場合、加工間隙が狭い場合の加工におい
ても、加工屑がつまり加工不能となるような不都
合がなく、また、加工間隙の加工液をかくはんす
る効果があり、結果として加工間隙に流すことが
できる加工電流が増加して、加工時間を短縮する
ことも可能となるものである。
パタンの軌跡上を進行、逆行を繰り返しながら加
工を行なうため、加工面積が大きい場合、加工深
さが深い場合、加工間隙が狭い場合の加工におい
ても、加工屑がつまり加工不能となるような不都
合がなく、また、加工間隙の加工液をかくはんす
る効果があり、結果として加工間隙に流すことが
できる加工電流が増加して、加工時間を短縮する
ことも可能となるものである。
第1図は本発明を説明するためのNC装置付放
電加工機を示す説明図、第2図は加工間隙の平均
電圧に応動して電極送り速度を変更する従来の
NC装置のフローチヤート図、第3図は本発明に
よるNC装置のフローチヤート図、第4図は本発
明による逆行メモリの構成説明図である。 なお、図中1は電極、2は被加工物、4はNC
装置、9は比較器、13は電極を進行させるため
の処理、14は電極を逆行させるための処理、1
5は電極をもとの位置へ戻すための処理を示す。
電加工機を示す説明図、第2図は加工間隙の平均
電圧に応動して電極送り速度を変更する従来の
NC装置のフローチヤート図、第3図は本発明に
よるNC装置のフローチヤート図、第4図は本発
明による逆行メモリの構成説明図である。 なお、図中1は電極、2は被加工物、4はNC
装置、9は比較器、13は電極を進行させるため
の処理、14は電極を逆行させるための処理、1
5は電極をもとの位置へ戻すための処理を示す。
Claims (1)
- 1 電極と被加工物の対向する加工間隙に電圧を
印加し、かつパルス信号により上記電極と被加工
物の相対位置を各パルスに対してある所定量移動
させる駆動装置により、上記相対位置の移動制御
を行なう通電加工装置において、所望パタンに沿
つて上記電極と被加工物の相対位置を縮めるよう
に進行させるためのパルスを発生する手段、上記
所望パタンによる出力パルスのパタンを記憶し上
記電極と被加工物の相対位置を広げるように上記
所望パタンに沿つて逆行させるためのパルスを発
生する手段、上記加工間隙の状態に対応する電圧
を検出する手段、該検出電圧と基準電圧とを比較
判別する手段、該比較手段の出力信号により上記
進行させるためのパルス発生手段の出力と上記逆
行させるためのパルス発生手段の出力とを切換制
御する手段を備え、さらに所望パタンに沿つて電
極と被加工物の相対位置を縮めるように進行させ
るためのパルスを発生する上記の手段は、その進
行させる速さを加工進行速度(単位時間当りの加
工体積/加工面積)以上の速さにするものである
ことを特徴とする通電加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16988479A JPS5695542A (en) | 1979-12-26 | 1979-12-26 | Electrospark machining device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16988479A JPS5695542A (en) | 1979-12-26 | 1979-12-26 | Electrospark machining device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5695542A JPS5695542A (en) | 1981-08-03 |
| JPS6335364B2 true JPS6335364B2 (ja) | 1988-07-14 |
Family
ID=15894733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16988479A Granted JPS5695542A (en) | 1979-12-26 | 1979-12-26 | Electrospark machining device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5695542A (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4837320A (ja) * | 1971-09-17 | 1973-06-01 | ||
| JPS5212595Y2 (ja) * | 1974-10-15 | 1977-03-19 |
-
1979
- 1979-12-26 JP JP16988479A patent/JPS5695542A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5695542A (en) | 1981-08-03 |
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