JPS6336034U - - Google Patents

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JPS6336034U
JPS6336034U JP1986129917U JP12991786U JPS6336034U JP S6336034 U JPS6336034 U JP S6336034U JP 1986129917 U JP1986129917 U JP 1986129917U JP 12991786 U JP12991786 U JP 12991786U JP S6336034 U JPS6336034 U JP S6336034U
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mask
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light
substrate
alignment
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JP1986129917U
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Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案に係るマスク位置合わせ装置の
一実施例を示す構成説明図、第２図はアライメン
トマークの位置関係の説明図、第３図は従来例の
構成説明図である。 １１……ステージ、１２……発光装置、１３…
…基板、１４……フオトレジスト、１５……アラ
イメントマーク、１６……フオトマスク、１７…
…アライメントマーク、１８……受光装置。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. フオトレジストが塗布され、かつアライメント
    マークが形成された基板と、リング状のアライメ
    ントマークがクロム等の金属により形成されたフ
    オトマスクとを発光装置及び受光装置を用いて位
    置合わせするマスク位置合わせ装置において、発
    光装置を基板載置用のステージの上面に配置する
    一方、基板のアライメントマークをインク等で色
    着された印刷体とし、その透過光をマスク上方の
    受光装置で受光してその受光量から位置合わせの
    正否を判別するようにしたことを特徴とするマス
    ク位置合わせ装置。
JP1986129917U 1986-08-26 1986-08-26 Expired JPH0241862Y2 (ja)

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JP1986129917U JPH0241862Y2 (ja) 1986-08-26 1986-08-26

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Publication Number Publication Date
JPS6336034U true JPS6336034U (ja) 1988-03-08
JPH0241862Y2 JPH0241862Y2 (ja) 1990-11-08

Family

ID=31026924

Family Applications (1)

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JP1986129917U Expired JPH0241862Y2 (ja) 1986-08-26 1986-08-26

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JP (1) JPH0241862Y2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010147253A (ja) * 2008-12-18 2010-07-01 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 位置合わせ方法、ホトマスクおよびウエハ
JP2012242576A (ja) * 2011-05-19 2012-12-10 V Technology Co Ltd フォトマスク及び露光装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5011668A (ja) * 1973-06-01 1975-02-06
JPS52144973A (en) * 1976-05-28 1977-12-02 Hitachi Ltd Positioning method of semiconductor wafers
JPS53109080A (en) * 1977-03-03 1978-09-22 Fujitsu Ltd Positioning device
JPS60110119A (ja) * 1983-11-21 1985-06-15 Canon Inc 位置合わせ方法

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Also Published As

Publication number Publication date
JPH0241862Y2 (ja) 1990-11-08

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