JPS6336541A - ウエハ検査装置 - Google Patents
ウエハ検査装置Info
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- JPS6336541A JPS6336541A JP61180813A JP18081386A JPS6336541A JP S6336541 A JPS6336541 A JP S6336541A JP 61180813 A JP61180813 A JP 61180813A JP 18081386 A JP18081386 A JP 18081386A JP S6336541 A JPS6336541 A JP S6336541A
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- JP
- Japan
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- wafer
- stage
- inspection
- motor
- loading mechanism
- Prior art date
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はウェハ検査装置に関し、特に半導体ウェハを検
査する場合に適用して好適なものである。
査する場合に適用して好適なものである。
従来、ウェハ検査装置を2台並べ、1台のICテスタ装
置により各ウェハ検査装置を制御することは知られてい
る。
置により各ウェハ検査装置を制御することは知られてい
る。
しかしながら従来のウェハ検査装置は、ウェハを検査す
るためにウェハをファインアライメントし得るステージ
機構の外に、該ステージ機構ヘウエハを導くためのロー
ディング機構をそれぞれ具えていたので、設置床面積が
非常に大きくなるという欠点があった。
るためにウェハをファインアライメントし得るステージ
機構の外に、該ステージ機構ヘウエハを導くためのロー
ディング機構をそれぞれ具えていたので、設置床面積が
非常に大きくなるという欠点があった。
またウェハ検査装置は、半導体製造システムの自動処理
系に組み込まれた場合には、検査が終わったウェハを次
工程の装置に送り出して検査結果に基づいて処理させる
ように用いられる。例えば次工程の装置としてレーザリ
ベリア装置を1台のウェハ検査装置の後段に連設し、一
部が不良と判定されたチップの配線パターンをレーザリ
ベリア装置によって切り離すことによって合格品に修理
するような方法が採用されている。
系に組み込まれた場合には、検査が終わったウェハを次
工程の装置に送り出して検査結果に基づいて処理させる
ように用いられる。例えば次工程の装置としてレーザリ
ベリア装置を1台のウェハ検査装置の後段に連設し、一
部が不良と判定されたチップの配線パターンをレーザリ
ベリア装置によって切り離すことによって合格品に修理
するような方法が採用されている。
ところが、このようにすると、レーザリベリア装置の修
理動作時間がウェハ検査装置の検査動作時間と比較して
格段的に短いため、レーザリベリア装置の稼動率を前段
のウェハ検査装置の処理動作時間以上には向上させ得な
い問題があった。
理動作時間がウェハ検査装置の検査動作時間と比較して
格段的に短いため、レーザリベリア装置の稼動率を前段
のウェハ検査装置の処理動作時間以上には向上させ得な
い問題があった。
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、複数のス
テージ機構に対して共通のローディング機構によってウ
ェハを供給させるようにすることにより、設置床面積を
縮小すると共に、1台のウェハ検査装置において単位時
間当りに検査処理し得るウェハの枚数を、従来の場合と
比較して格段的に増大させるようにすることにより、後
段に連設される次工程の装置の稼動率を一段と向上させ
得るウェハ検査装置を提案しようとするものである。
テージ機構に対して共通のローディング機構によってウ
ェハを供給させるようにすることにより、設置床面積を
縮小すると共に、1台のウェハ検査装置において単位時
間当りに検査処理し得るウェハの枚数を、従来の場合と
比較して格段的に増大させるようにすることにより、後
段に連設される次工程の装置の稼動率を一段と向上させ
得るウェハ検査装置を提案しようとするものである。
C問題点を解決するための手段〕
かかる問題点を解決するため本発明においては、ウェハ
(8,18)を検査するためにウェハ(8,18)をフ
ァインアライメントし得る複数のステージ機構(5〜7
.15〜17)と、複数のステージ機構(5〜7.15
〜17)に共通に設けられ各ステージ機構(5〜7.1
5〜17)にウェハ(8,18)を導く単一のローディ
ング機構32とを具え、 ステージ機構(5〜7.15〜17)はローディング機
構32を間に挟んだ両側位置に配設され、ローディング
機構32はウェハキャリア(33a、33b)からウェ
ハ(8,18)を取り出してステージ機構(5〜7.1
5〜17)の間を通って指定されたステージ機構(5〜
7.15〜17)に搬送し得るようになされ、 ステージ機構(5〜7.15〜17)はローディング機
構32の片側又は両側位置に、その搬送方向に2つ以上
配列されているように構成する。
(8,18)を検査するためにウェハ(8,18)をフ
ァインアライメントし得る複数のステージ機構(5〜7
.15〜17)と、複数のステージ機構(5〜7.15
〜17)に共通に設けられ各ステージ機構(5〜7.1
5〜17)にウェハ(8,18)を導く単一のローディ
ング機構32とを具え、 ステージ機構(5〜7.15〜17)はローディング機
構32を間に挟んだ両側位置に配設され、ローディング
機構32はウェハキャリア(33a、33b)からウェ
ハ(8,18)を取り出してステージ機構(5〜7.1
5〜17)の間を通って指定されたステージ機構(5〜
7.15〜17)に搬送し得るようになされ、 ステージ機構(5〜7.15〜17)はローディング機
構32の片側又は両側位置に、その搬送方向に2つ以上
配列されているように構成する。
共通のローディング機構を間に挟んで配設された複数の
ステージ機構に対して、ウェハキャリヤから引き出され
たウェハが1枚づつ振り分けられる。
ステージ機構に対して、ウェハキャリヤから引き出され
たウェハが1枚づつ振り分けられる。
ステージ機構はローディング機構の片側又は両側位置に
、搬送方向に沿うように2つ以上配列され、かくして各
ステージ機構に振り分けられたウェハは同時に検査動作
をすることができる。
、搬送方向に沿うように2つ以上配列され、かくして各
ステージ機構に振り分けられたウェハは同時に検査動作
をすることができる。
そこで、ステージ機構の数を、次工程の装置(例えばレ
ーザリペア装置)の動作時間に相当する値に選定してお
くことにより、この次工程の装置を休めることがないよ
うな速度で検査終了したウェハをウェハ検査装置から供
給することができ、かくして、高い稼動率で運転させる
ことができる。
ーザリペア装置)の動作時間に相当する値に選定してお
くことにより、この次工程の装置を休めることがないよ
うな速度で検査終了したウェハをウェハ検査装置から供
給することができ、かくして、高い稼動率で運転させる
ことができる。
以下本発明の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。
第1図は本発明の実施例を示す概略的平面図、第2図は
半導体製造システムの自動処理系に組み込まれた場合の
構成を示す概略的平面図、第3図はケーシング内のウェ
ハ検査部の詳細構成を第1図のウェハ検査部I及び■に
よって代表させて示′す概略的平面図、第4図はケーシ
ング内のウェハ検査部■及び■のうち特にステージ部分
を示す縦断面図、第5図は第4図のウェハ検査装置のロ
ーディング機構を示すA−A矢視図、第6図はマイクロ
コンピュータの動作を表すフローチャート、第7図はプ
ローブ針の接触状態を観察するための顕微鏡の取付状態
を示す平面図、第8図はウェハをローディングする途中
でプリアライメント情報を得ることを説明する路線図で
ある。
半導体製造システムの自動処理系に組み込まれた場合の
構成を示す概略的平面図、第3図はケーシング内のウェ
ハ検査部の詳細構成を第1図のウェハ検査部I及び■に
よって代表させて示′す概略的平面図、第4図はケーシ
ング内のウェハ検査部■及び■のうち特にステージ部分
を示す縦断面図、第5図は第4図のウェハ検査装置のロ
ーディング機構を示すA−A矢視図、第6図はマイクロ
コンピュータの動作を表すフローチャート、第7図はプ
ローブ針の接触状態を観察するための顕微鏡の取付状態
を示す平面図、第8図はウェハをローディングする途中
でプリアライメント情報を得ることを説明する路線図で
ある。
第4図において、1は架台部、2及び3は架台部1上に
それぞれ別個独立に設けられた防振機構である。ベース
4は防振機構2上に固定されている。XYステージ5は
ベース4上に設けられ、ベース4上をX、Y方向に移動
可能である。Zステ−シロはXYステージ5上に設けら
れ、XYステージ5上をZ方向に移動可能である。θ回
転ステージ7はZステージ6上に設けられ、Zステージ
6上で回転(自転)可能である。各ステージ(XY、Z
、θ)は、ファインアライメント及び検査用ステージの
機能をもち、それぞれ不図示のモータにより駆動される
ものである。
それぞれ別個独立に設けられた防振機構である。ベース
4は防振機構2上に固定されている。XYステージ5は
ベース4上に設けられ、ベース4上をX、Y方向に移動
可能である。Zステ−シロはXYステージ5上に設けら
れ、XYステージ5上をZ方向に移動可能である。θ回
転ステージ7はZステージ6上に設けられ、Zステージ
6上で回転(自転)可能である。各ステージ(XY、Z
、θ)は、ファインアライメント及び検査用ステージの
機能をもち、それぞれ不図示のモータにより駆動される
ものである。
8はθ回転ステージ7上に配置されたウェハを示してい
る。θ回転ステージ7は不図示の吸着機構を有し、該吸
着機構により面上にウェハ8を真空吸着することができ
る。プローブカード9はベース4から立ち上がった支持
台10に固定される。
る。θ回転ステージ7は不図示の吸着機構を有し、該吸
着機構により面上にウェハ8を真空吸着することができ
る。プローブカード9はベース4から立ち上がった支持
台10に固定される。
顕?jlL鏡11はケージング12の外側からステージ
7上のウェハ8を観察するものである。ウェハ8は上述
したXYステージ5、Zステージ6 (の微動)、θ回
転ステージ7によりx、y、z、θ方向のアライメント
を制御される。13はウェハ8を上述のごとくアライメ
ントするためにウェハ8上に形成されたチップの位置を
検出するセンサ(受光部)である。
7上のウェハ8を観察するものである。ウェハ8は上述
したXYステージ5、Zステージ6 (の微動)、θ回
転ステージ7によりx、y、z、θ方向のアライメント
を制御される。13はウェハ8を上述のごとくアライメ
ントするためにウェハ8上に形成されたチップの位置を
検出するセンサ(受光部)である。
ウェハ8に形成されたI″CCチツプZステージ6の上
下動(粗動)によりプローブ針9aに接触される。プロ
ーブ針9aより得られた信号はプローブカード9を介し
てウェハ検査装置とは別に設けられたICテスタへ入力
され、ICテスタにてウェハ8に関する検査出力が得ら
れる。
下動(粗動)によりプローブ針9aに接触される。プロ
ーブ針9aより得られた信号はプローブカード9を介し
てウェハ検査装置とは別に設けられたICテスタへ入力
され、ICテスタにてウェハ8に関する検査出力が得ら
れる。
なお、ICテスタは上述したウェハ検査装置と一体に設
けてもよい。
けてもよい。
本実施例では以上述べた要素4〜7.9〜10.13に
て右側検査部すなわち第1図の第1の検査部Iが構成さ
れている。これに対してベース14、XYステージ15
、Zステージ16、θ回転ステージ17、プローブカー
ド19、支持台20、センサ22はそれぞれ右側検査部
の要素4〜7.9〜10.13と同様に構成されており
、左側検査部すなわち第1図の第2の検査部■を構成し
ている。18はθ回転ステージ上に配置されたウェハを
示している。上述した右側検査部及び左側検査部は架台
部I上に独立して設けられた防振機構2.3にそれぞれ
支持されており、この防振機構2.3により相互に振動
が伝達されないように構成されている。
て右側検査部すなわち第1図の第1の検査部Iが構成さ
れている。これに対してベース14、XYステージ15
、Zステージ16、θ回転ステージ17、プローブカー
ド19、支持台20、センサ22はそれぞれ右側検査部
の要素4〜7.9〜10.13と同様に構成されており
、左側検査部すなわち第1図の第2の検査部■を構成し
ている。18はθ回転ステージ上に配置されたウェハを
示している。上述した右側検査部及び左側検査部は架台
部I上に独立して設けられた防振機構2.3にそれぞれ
支持されており、この防振機構2.3により相互に振動
が伝達されないように構成されている。
第4図には図示省略されているが、第1図の第3及び第
4の検査部■及び■が、第4図の右及び左側検査部と同
様に構成されている。
4の検査部■及び■が、第4図の右及び左側検査部と同
様に構成されている。
制御ユニット23は、演算処理部、メモリ部、110部
等からなるマイクロコンピュータ(以下MCUと称す)
23aを具え、上述したステージ5〜7.15〜17、
後述するウェハキャリア33a、33bの搬送機構31
、後述するウェハローディング機構32等の駆動を制御
する。
等からなるマイクロコンピュータ(以下MCUと称す)
23aを具え、上述したステージ5〜7.15〜17、
後述するウェハキャリア33a、33bの搬送機構31
、後述するウェハローディング機構32等の駆動を制御
する。
次にウェハキャリア搬送機構及びウェハローディング機
構について述べる。ウェハキャリア搬送機構31は第3
図に示すように、右及び左側検査部I及び■のベース4
及び14の前方位置にその配列方向に沿うように設けら
れ、ベース4及び14間位置においてウェハキャリア搬
送機構31に近づき又は離れる方向に移動し得るように
、ウェハローディング機構32が設けられている。
構について述べる。ウェハキャリア搬送機構31は第3
図に示すように、右及び左側検査部I及び■のベース4
及び14の前方位置にその配列方向に沿うように設けら
れ、ベース4及び14間位置においてウェハキャリア搬
送機構31に近づき又は離れる方向に移動し得るように
、ウェハローディング機構32が設けられている。
この実施例の場合、複数例えば2つのウェハキャリア3
3a、33bは同一の仕様(例えば口径、チップの構成
など)を有する同種のウェハを複数枚づつ収納しており
、不図示の搬送機構により順次取出位置Bへ搬送される
。取出位置Bにもたらされたキャリア33a又は33b
は、第5図に示した載置台34a上に載せられ、昇降機
34により破線位置まで上昇せしめられる。第5図に示
したモータ35は昇降機34の載置台34aを上下動さ
せるものである。この昇降機34及びモータ35は上述
したウェハキャリア搬送機構31の一部を構成するもの
である。
3a、33bは同一の仕様(例えば口径、チップの構成
など)を有する同種のウェハを複数枚づつ収納しており
、不図示の搬送機構により順次取出位置Bへ搬送される
。取出位置Bにもたらされたキャリア33a又は33b
は、第5図に示した載置台34a上に載せられ、昇降機
34により破線位置まで上昇せしめられる。第5図に示
したモータ35は昇降機34の載置台34aを上下動さ
せるものである。この昇降機34及びモータ35は上述
したウェハキャリア搬送機構31の一部を構成するもの
である。
架台部1に固定された支持台36は案内部材37とウオ
ーム38とを有し、ウオーム38はモータ39により回
転される。モータ40はウオーム38と噛み合う不図示
のウオーム歯車を有し、モータ39の正逆回転により案
内部材37に案内されて第3図中左右方向(X方向)へ
移動する。
ーム38とを有し、ウオーム38はモータ39により回
転される。モータ40はウオーム38と噛み合う不図示
のウオーム歯車を有し、モータ39の正逆回転により案
内部材37に案内されて第3図中左右方向(X方向)へ
移動する。
モータ40は回転軸41を有し、アーム42はこの回転
軸41に固設されている。そしてアーム42はモータ4
0の正逆回転により回転軸41を中心にして第3図中時
計方向及び反時計方向に回転可能である。
軸41に固設されている。そしてアーム42はモータ4
0の正逆回転により回転軸41を中心にして第3図中時
計方向及び反時計方向に回転可能である。
本実施例の場合アーム42はその上面にウェハが載置さ
れたとき吸着機構(不図示)によってウェハを真空吸着
した状態で搬送し得るようになされ、またこの状態から
真空を切ることにより、ウェハを離すことができるよう
になされている。本実施例では上述した要素36〜42
にてウェハローディング機構32を構成している。支持
台43は架台部1に固定され、モータ44はこの支持台
43に固定されている。第4図のウェハ8.18のプリ
アライメントを行なうためのプリアライメント用ステー
ジ45はモータ44のよって回転(自転)可能である。
れたとき吸着機構(不図示)によってウェハを真空吸着
した状態で搬送し得るようになされ、またこの状態から
真空を切ることにより、ウェハを離すことができるよう
になされている。本実施例では上述した要素36〜42
にてウェハローディング機構32を構成している。支持
台43は架台部1に固定され、モータ44はこの支持台
43に固定されている。第4図のウェハ8.18のプリ
アライメントを行なうためのプリアライメント用ステー
ジ45はモータ44のよって回転(自転)可能である。
アーム42によってウェハが、右又は左側検査部■、■
又は■、■にセットされるウェハ8.18として、ウェ
ハキャリア33a又は33bから引き出されるとき、ウ
ェハの移動中にアーム42の上方に配置されたセンサ4
8にてその外形情報が発生される。センサ48は第8図
に示すように、ウェハ8.18の移動方向に垂直に配置
された一次元アレイセンサでなる。センサ48の下部は
不図示の照明光源により照明され、不図示の光学系によ
りその照明された領域がセンサ48上に結像されている
。
又は■、■にセットされるウェハ8.18として、ウェ
ハキャリア33a又は33bから引き出されるとき、ウ
ェハの移動中にアーム42の上方に配置されたセンサ4
8にてその外形情報が発生される。センサ48は第8図
に示すように、ウェハ8.18の移動方向に垂直に配置
された一次元アレイセンサでなる。センサ48の下部は
不図示の照明光源により照明され、不図示の光学系によ
りその照明された領域がセンサ48上に結像されている
。
アーム42の表面及び照明光が照射される部分は反射防
止処理され、かつウェハ8.18との距離が十分能され
ているので反射光は殆どなく、かくしてセンサ48には
ウェハ8.18の反射光だけが入力される。従ってセン
サ48の下部に対応するウェハ8.18の断面の幅及び
位置の情報を得ることができ、ウェハ8.18が移動す
ることによりその外形情報が得られる。この情報は制御
ユニット23のうち、MCU23aにて演算され、ウェ
ハ8.18の中心座標及びオリエンテーションフラット
8A、18Aの方向を予め求めておく。
止処理され、かつウェハ8.18との距離が十分能され
ているので反射光は殆どなく、かくしてセンサ48には
ウェハ8.18の反射光だけが入力される。従ってセン
サ48の下部に対応するウェハ8.18の断面の幅及び
位置の情報を得ることができ、ウェハ8.18が移動す
ることによりその外形情報が得られる。この情報は制御
ユニット23のうち、MCU23aにて演算され、ウェ
ハ8.18の中心座標及びオリエンテーションフラット
8A、18Aの方向を予め求めておく。
顕微鏡11は、第7図に示すように、アームlla及び
llbで保持され、それぞれ回転中心P1、P2を有し
、回転中心P1は右側ウェハ検査部I、■及び左側ウェ
ハ検査部■、■の中央位置に配置されている。またアー
ムlla、Ilbはそれぞれの回転中心P1、P2にお
いて適当な摩擦が与えられており、これにより顕微鏡1
1はその可動範囲内において自由な位置で静止している
ことができ、θ回転ステージ7又は17の上方位置に静
止させることにより、ステージ7.7a及び17.17
a上のウェハ8.18と同時にプローブ針9aを観察す
ることができる。
llbで保持され、それぞれ回転中心P1、P2を有し
、回転中心P1は右側ウェハ検査部I、■及び左側ウェ
ハ検査部■、■の中央位置に配置されている。またアー
ムlla、Ilbはそれぞれの回転中心P1、P2にお
いて適当な摩擦が与えられており、これにより顕微鏡1
1はその可動範囲内において自由な位置で静止している
ことができ、θ回転ステージ7又は17の上方位置に静
止させることにより、ステージ7.7a及び17.17
a上のウェハ8.18と同時にプローブ針9aを観察す
ることができる。
このように、4つのウェハ検査部I、■及び■、■を有
するウェハ検査装置50は、第2図に示すように、キャ
リア移載機構51を介して次工程の装置としてのレーザ
リベリア装置52に連結されている。ウェハ検査装置5
0内のキャリア搬送機構31により検査終了したウェハ
キャリア33a、33bはキャリア搬送機構31の出口
端に搬送される。キャリア搬送機構51は不図示の手段
によリウエハキャリア33a、33bをウェハ検査装置
50より取り出してレーザリベリア装置52の内部へ送
り込み、かくしてウェハは次工程の処理によって修理さ
れる。
するウェハ検査装置50は、第2図に示すように、キャ
リア移載機構51を介して次工程の装置としてのレーザ
リベリア装置52に連結されている。ウェハ検査装置5
0内のキャリア搬送機構31により検査終了したウェハ
キャリア33a、33bはキャリア搬送機構31の出口
端に搬送される。キャリア搬送機構51は不図示の手段
によリウエハキャリア33a、33bをウェハ検査装置
50より取り出してレーザリベリア装置52の内部へ送
り込み、かくしてウェハは次工程の処理によって修理さ
れる。
第2図の実施例の場合、レーザリベリア装置52はウェ
ハ検査部I、■、■、■4台分の処理速度を有し、これ
によりレーザリベリア装置52は最も効率的に稼動でき
る。
ハ検査部I、■、■、■4台分の処理速度を有し、これ
によりレーザリベリア装置52は最も効率的に稼動でき
る。
次に第6図を参照して本装置の動作を説明する。
まず制御ユニット23内のMCU23aからの指令によ
り搬送機構31は前述の如くウェハキャリア33a、3
3bを順次取出位置Bに持ち来たし、取出位置Bに来た
キャリアを昇降機34により第5図破線位置まで上昇さ
せる。
り搬送機構31は前述の如くウェハキャリア33a、3
3bを順次取出位置Bに持ち来たし、取出位置Bに来た
キャリアを昇降機34により第5図破線位置まで上昇さ
せる。
続いてMCU23 aはステップ■において、θ回転ス
テージ7にウェハ8があるか否かを判断する。ステージ
7にウェハ8がないと判断した場合には、ステップ■に
おいてステージ45にウェハがあるか否かを判断する。
テージ7にウェハ8があるか否かを判断する。ステージ
7にウェハ8がないと判断した場合には、ステップ■に
おいてステージ45にウェハがあるか否かを判断する。
そしてステージ45にウェハ8がないと判断した場合に
は、ステップ■においてウェハキャリア33a又は33
bを取出位置Bにセットした後プリアライメント用ステ
ージ45ヘウエハ8を持ってくるよう指令を出す。
は、ステップ■においてウェハキャリア33a又は33
bを取出位置Bにセットした後プリアライメント用ステ
ージ45ヘウエハ8を持ってくるよう指令を出す。
そしてMCU23aのサブルーチン(不図示)に従って
ローディング機構、プリアライメント用ステージは次の
ように動作する。まずモータ39が正回転しモータ40
が第5図左方向へ移動する。
ローディング機構、プリアライメント用ステージは次の
ように動作する。まずモータ39が正回転しモータ40
が第5図左方向へ移動する。
そしてアーム42上にウェハキャリア33a、33b内
に収納されたウェハ8のうちの1枚が載置される。この
ときモータ39が逆回転を始め、モータ40とともにア
ーム42が、第3図及び第5図に図示した位置を通って
、さらに第5図中右方向へ移動する。このようにアーム
42が移動している間にウェハ8がセンサ48の位置を
通って行くことにより、ウェハ8の形状及び向きが測定
され(第8図)、その測定結果に基づいてウェハ8の中
心座標、オリエンテーションフラット8Aの方向がMC
U23aにおいて演算、記憶される。
に収納されたウェハ8のうちの1枚が載置される。この
ときモータ39が逆回転を始め、モータ40とともにア
ーム42が、第3図及び第5図に図示した位置を通って
、さらに第5図中右方向へ移動する。このようにアーム
42が移動している間にウェハ8がセンサ48の位置を
通って行くことにより、ウェハ8の形状及び向きが測定
され(第8図)、その測定結果に基づいてウェハ8の中
心座標、オリエンテーションフラット8Aの方向がMC
U23aにおいて演算、記憶される。
やがて適当な位置でモータ40は移動を停止して位置決
めされる。このときモータ40が回転を始め、アーム4
2が軸41を中心に180度回軸回転。こうしてウェハ
8がプリアライメント用ステージ45上にもたらされ、
ウェハ8がステージ45上に載置される。
めされる。このときモータ40が回転を始め、アーム4
2が軸41を中心に180度回軸回転。こうしてウェハ
8がプリアライメント用ステージ45上にもたらされ、
ウェハ8がステージ45上に載置される。
その後モータ40は、モータ39の回転により第5図左
方向へ移動し、第3図及び第5図に図示した位置に戻る
。ただしアーム42はステージ45の方へ向いたままで
ある。
方向へ移動し、第3図及び第5図に図示した位置に戻る
。ただしアーム42はステージ45の方へ向いたままで
ある。
一方つエバ8を載置したステージ45は前述したウェハ
8の外形情報に基づいて回転してウェハ8のプリアライ
メントを行う。MCU23 aはプリアライメントが終
了したこと検出すると、ステップ■においてθ回転ステ
ージ7ヘウエハ8をセットするように指令を出す、この
ときMCU23aのサブルーチン(不図示)に従ってロ
ーディング機構32、ファインアライメント及び検査用
ステージ(XY、Z、θの各ステージ5〜7)は次のよ
うに動作する。
8の外形情報に基づいて回転してウェハ8のプリアライ
メントを行う。MCU23 aはプリアライメントが終
了したこと検出すると、ステップ■においてθ回転ステ
ージ7ヘウエハ8をセットするように指令を出す、この
ときMCU23aのサブルーチン(不図示)に従ってロ
ーディング機構32、ファインアライメント及び検査用
ステージ(XY、Z、θの各ステージ5〜7)は次のよ
うに動作する。
まずモータ39が逆回転を始め、モータ40はアーム4
2をプリアライメント用ステージ45に向けたまま、第
5図右方向へ移動する。そしてアーム42上にプリアラ
イメントされたウェハ8が載置されるとモータ39が正
回転し、モータ40が第5図左方向へ移動する。こうし
てモータ40はアーム42上にウェハ8を載置した状態
のまま第3図及び第5図に図示した位置に戻る。
2をプリアライメント用ステージ45に向けたまま、第
5図右方向へ移動する。そしてアーム42上にプリアラ
イメントされたウェハ8が載置されるとモータ39が正
回転し、モータ40が第5図左方向へ移動する。こうし
てモータ40はアーム42上にウェハ8を載置した状態
のまま第3図及び第5図に図示した位置に戻る。
その後モータ40が正回転し、アーム42は第3図にて
時計方向に90度回転する。従ってウェハ8は第3図に
おいて破線で図示した受渡位置Cにもたらされる。この
ときXYステージ5はモータ(不図示)により駆動され
、θ回転ステージ7も受渡位置Cまで移動して来ている
。このとき前述したウェハ外形情報から得られたウェハ
8の中心座標位置を補正し、ウェハ8の中心が正しくス
テージ7の中心に来るようにする。かくしてθ回転ステ
ージ7上にウェハ8が正しく載置される。ステージ7は
このウェハ8を吸着し、面上に固定セットする。
時計方向に90度回転する。従ってウェハ8は第3図に
おいて破線で図示した受渡位置Cにもたらされる。この
ときXYステージ5はモータ(不図示)により駆動され
、θ回転ステージ7も受渡位置Cまで移動して来ている
。このとき前述したウェハ外形情報から得られたウェハ
8の中心座標位置を補正し、ウェハ8の中心が正しくス
テージ7の中心に来るようにする。かくしてθ回転ステ
ージ7上にウェハ8が正しく載置される。ステージ7は
このウェハ8を吸着し、面上に固定セットする。
その後モータ40の正回転によりアーム42は第3図時
計方間に90度回転し、第3図の状態に戻る。またθ回
転ステージ7もXYステージ5の移動により第3図及び
第4図に図示した原位置に戻る。
計方間に90度回転し、第3図の状態に戻る。またθ回
転ステージ7もXYステージ5の移動により第3図及び
第4図に図示した原位置に戻る。
その後MCU23aはXYステージ5をX、Y方向へ駆
動させるとともに2不図示の照明光学系にウェハ8を照
明させ、ウェハ8からの反射光をセンサ13にて受光さ
せる。このようにしてウェハ8上に形成されたチップの
位置に関する情報を得る。MCU23 aは、このセン
サ13で得られたデータ等に基づいてステージ5〜7を
微動させ、ウェハ8のファインアライメントを実行する
。第3図のウェハ8はこのようにしてもたらされたウェ
ハである。
動させるとともに2不図示の照明光学系にウェハ8を照
明させ、ウェハ8からの反射光をセンサ13にて受光さ
せる。このようにしてウェハ8上に形成されたチップの
位置に関する情報を得る。MCU23 aは、このセン
サ13で得られたデータ等に基づいてステージ5〜7を
微動させ、ウェハ8のファインアライメントを実行する
。第3図のウェハ8はこのようにしてもたらされたウェ
ハである。
MCU23aはウェハ8のファインアライメントが終了
すると、対応するICテスタへ信号を送り、同時にZス
テージ6を不図示のモータにより駆動してθ回転ステー
ジ7を上昇せしめる。こうしてウェハ8に形成されたチ
ップをプローブ針9aに接触せしめ、このプローブ針9
aに接続されたICテスタにより検査がなされる。
すると、対応するICテスタへ信号を送り、同時にZス
テージ6を不図示のモータにより駆動してθ回転ステー
ジ7を上昇せしめる。こうしてウェハ8に形成されたチ
ップをプローブ針9aに接触せしめ、このプローブ針9
aに接続されたICテスタにより検査がなされる。
1つのチップの検査が終了すると、MCU23aからの
信号によりZステージ6が駆動され、θ回転ステージ7
が下降する。そしてXYステージ5が1チップ分移動さ
た後、再びθ回転ステージ7が上昇されて次のチップが
プローブ針9aに接触し・ ICテスタ25aにより検
査がなされる。
信号によりZステージ6が駆動され、θ回転ステージ7
が下降する。そしてXYステージ5が1チップ分移動さ
た後、再びθ回転ステージ7が上昇されて次のチップが
プローブ針9aに接触し・ ICテスタ25aにより検
査がなされる。
このような動作が順次操り返されることによりウェハ8
上に形成された多数のチップが検査されていく。
上に形成された多数のチップが検査されていく。
MCU23aはステップ■においてウェハセット命令を
出すと、上述したウェハ検査が終了するのを待たず、即
座にステップ■へ移行し、θ回転ステージ17にウェハ
18があるが否がを判断する。かくして上述した右側検
査部Iについてのウェハセット、ファインアライメント
及びウェハ検査の処理工程と、次に述べる左側検査部H
についての処理工程とが同時に、並行して実行されるこ
とになる。
出すと、上述したウェハ検査が終了するのを待たず、即
座にステップ■へ移行し、θ回転ステージ17にウェハ
18があるが否がを判断する。かくして上述した右側検
査部Iについてのウェハセット、ファインアライメント
及びウェハ検査の処理工程と、次に述べる左側検査部H
についての処理工程とが同時に、並行して実行されるこ
とになる。
これに対して、ステップ■においてθ回転ステージ7に
ウェハ8があると判断されたとき、MCU23aはステ
ップ■においてθ回転ステージ7上のウェハ8の検査が
終わっているが否かを判断する。そのとき未だウェハ検
査が終わっていなければ、MCU23aは上述したステ
ージ7へのウェハセット、そのウェハに関するファイン
アライメント及びウェハ検査を続行させたまま、当該ウ
ェハ検査の終了を待たずに、即座にステップ■へ移行す
る。
ウェハ8があると判断されたとき、MCU23aはステ
ップ■においてθ回転ステージ7上のウェハ8の検査が
終わっているが否かを判断する。そのとき未だウェハ検
査が終わっていなければ、MCU23aは上述したステ
ージ7へのウェハセット、そのウェハに関するファイン
アライメント及びウェハ検査を続行させたまま、当該ウ
ェハ検査の終了を待たずに、即座にステップ■へ移行す
る。
しかし、ステップ■においてウェハ8の検査が終わって
いなければ、MCU23aはステップ■においてθ回転
ステージ7上のウェハ8をキャリア33a又は33bへ
戻せという指令を出す。
いなければ、MCU23aはステップ■においてθ回転
ステージ7上のウェハ8をキャリア33a又は33bへ
戻せという指令を出す。
この指令が出ると、MCU23aは、サブルーチン(不
図示)に従ってローディング機構32、ファインアライ
メント及び検査用ステージを次のように動作させる。
図示)に従ってローディング機構32、ファインアライ
メント及び検査用ステージを次のように動作させる。
まずモータ40が逆回転し、アーム42は第3図図示の
位置から反時計方向に90度回転する。同時にXYステ
ージ5が駆動され、θ回転ステージ7は受渡位IfCに
移動される。そして真空吸着が解除され、アーム42上
にウェハ8が載置される。
位置から反時計方向に90度回転する。同時にXYステ
ージ5が駆動され、θ回転ステージ7は受渡位IfCに
移動される。そして真空吸着が解除され、アーム42上
にウェハ8が載置される。
この後ステージ7は第3図図示の位置に移動される。
なおステージ7は次のウェハ8が来るまで受渡位置Cで
待機するようにしても良い。
待機するようにしても良い。
7−442にウェハ8が載置された後、モータ40は正
回転し、アーム42は第3図時計方向に90度回転して
第3図図示の位置に戻る。そしてモータ39が正回転し
、モータ4oが第5図左方向へ移動され、ウェハ8がウ
ェハキャリア33a又は33b内に戻される。当該戻さ
れる位置は取り出した位置と同一である。
回転し、アーム42は第3図時計方向に90度回転して
第3図図示の位置に戻る。そしてモータ39が正回転し
、モータ4oが第5図左方向へ移動され、ウェハ8がウ
ェハキャリア33a又は33b内に戻される。当該戻さ
れる位置は取り出した位置と同一である。
その後モータ39によりモータ4oは第5図の位置に復
帰する。モータ40がこの位置に復帰を完了すると、M
CU 23 aは上述のステップ■へ戻る。
帰する。モータ40がこの位置に復帰を完了すると、M
CU 23 aは上述のステップ■へ戻る。
次にステップ■において左側検査部Hについての処理工
程に入ると、MCU23aはまずθ回転ステージ17に
ウェハ18があるか否かを判断する。そしてステージ1
7にウェハ18がないと判断した場合には、ステップ■
においてプリアライメント用ステージ45にウェハ18
があるか否かの判断をする。否定結果が得られたとき、
ステップ■においてキャリア33a又は33bを取出位
置Bにセットした後、プリアライメント用ステージ45
ヘウエハ18を持って来るように指令を出す。そしてス
テップ■について上述したと同様にして、ウェハキャリ
ア33a、33bに収納されたウェハ18をプリアライ
メント用ステージ45へもたらし、ウェハ18のプリア
ライメントを行なう。
程に入ると、MCU23aはまずθ回転ステージ17に
ウェハ18があるか否かを判断する。そしてステージ1
7にウェハ18がないと判断した場合には、ステップ■
においてプリアライメント用ステージ45にウェハ18
があるか否かの判断をする。否定結果が得られたとき、
ステップ■においてキャリア33a又は33bを取出位
置Bにセットした後、プリアライメント用ステージ45
ヘウエハ18を持って来るように指令を出す。そしてス
テップ■について上述したと同様にして、ウェハキャリ
ア33a、33bに収納されたウェハ18をプリアライ
メント用ステージ45へもたらし、ウェハ18のプリア
ライメントを行なう。
こうしてプリアライメントが終了したことを検出すると
、ステップ[株]においてMCU23aはθ回転ステー
ジ17ヘウエハ18をセットするような指令を出す、こ
のときMCU23aは不図示のサブルーチンに従ってロ
ーディング機構及びステージ15〜17の制御を行なう
。これは上述のステップ■においてステージ45上のウ
ェハ18をステージフヘセットする制御、セットされた
ウェハ18をファインアライメントする制御、ウェハ検
査の制御と同様にしてなされる。ただし、ステップ■の
場合とは、アーム42の回転方向、ステージ5〜7に代
わってステージ15〜17が移動される点、ステージ1
7上にウェハ18をセットする時にステージ17がθ位
置にもたらされる点、ステージ17上のウェハ18はプ
ローブ針192にて検査される点がそれぞれ異なる。
、ステップ[株]においてMCU23aはθ回転ステー
ジ17ヘウエハ18をセットするような指令を出す、こ
のときMCU23aは不図示のサブルーチンに従ってロ
ーディング機構及びステージ15〜17の制御を行なう
。これは上述のステップ■においてステージ45上のウ
ェハ18をステージフヘセットする制御、セットされた
ウェハ18をファインアライメントする制御、ウェハ検
査の制御と同様にしてなされる。ただし、ステップ■の
場合とは、アーム42の回転方向、ステージ5〜7に代
わってステージ15〜17が移動される点、ステージ1
7上にウェハ18をセットする時にステージ17がθ位
置にもたらされる点、ステージ17上のウェハ18はプ
ローブ針192にて検査される点がそれぞれ異なる。
こうしてウェハ18のステージ17へのセット、セット
されたウェハ18のファインアライメント、ウェハ検査
が行なわれる。ここでMCU23 aはステップ[相]
において左側検査部についてウェハセット指令を出すと
、ウェハ検査が終了するのを待たずに、即座に右側検査
部■についての処理ステップ0に移行して右側検査部■
のステージ7にウェハがあるか否かを判断する。かくし
て左側検査部■についてのステージ17へのウェハ18
のセット、セットされたウェハ18のファインアライメ
ント及びウェハ検査の工程と、右側検査部mについての
ステップ0の判断及びそれ以降の処理工程とが同時に、
並行して行なわれる。
されたウェハ18のファインアライメント、ウェハ検査
が行なわれる。ここでMCU23 aはステップ[相]
において左側検査部についてウェハセット指令を出すと
、ウェハ検査が終了するのを待たずに、即座に右側検査
部■についての処理ステップ0に移行して右側検査部■
のステージ7にウェハがあるか否かを判断する。かくし
て左側検査部■についてのステージ17へのウェハ18
のセット、セットされたウェハ18のファインアライメ
ント及びウェハ検査の工程と、右側検査部mについての
ステップ0の判断及びそれ以降の処理工程とが同時に、
並行して行なわれる。
これに対してステップ■においてステージ17にウェハ
18があると判断された場合には、MCU23aはステ
ップ■においてθ回転ステージ17上のウェハ18の検
査が終わっているか否かを判断する。その時までにウェ
ハ検査を終わっていなければ、MCU23aはステージ
17へのウェハ18のセット、そのウェハ18のファイ
ンアライメント及びウェハ検査を続行させると共に、当
該ウェハ検査の終了を待たずに、即座に上述のステップ
0に移行する。
18があると判断された場合には、MCU23aはステ
ップ■においてθ回転ステージ17上のウェハ18の検
査が終わっているか否かを判断する。その時までにウェ
ハ検査を終わっていなければ、MCU23aはステージ
17へのウェハ18のセット、そのウェハ18のファイ
ンアライメント及びウェハ検査を続行させると共に、当
該ウェハ検査の終了を待たずに、即座に上述のステップ
0に移行する。
・ しかしステップ0においてウェハ18の検査が終わ
っていれば、MCU23aはステップ@においてθ回転
ステージ17上のウェハ18をウェハキャリア33a、
33bへ戻せという指令を出す。
っていれば、MCU23aはステップ@においてθ回転
ステージ17上のウェハ18をウェハキャリア33a、
33bへ戻せという指令を出す。
この指令が出ると、MCU23aのサブルーチン(不図
示)に従ってローディング機構32及びファインアライ
メント用ステージ15〜17が動作し、ステップ■の場
合と同様にして、ステージ17上のウェハ18がキャリ
ア33a、33b内に戻され、第3図及び第5図の原状
部に戻る。
示)に従ってローディング機構32及びファインアライ
メント用ステージ15〜17が動作し、ステップ■の場
合と同様にして、ステージ17上のウェハ18がキャリ
ア33a、33b内に戻され、第3図及び第5図の原状
部に戻る。
ただし、ステップ■の場合とは、アーム42の回転方向
の点、ステージ15〜17が移動される点、ステージ1
7が受渡位置りにもたらされる点がそれぞれ異なる。
の点、ステージ15〜17が移動される点、ステージ1
7が受渡位置りにもたらされる点がそれぞれ異なる。
MCU23 aは、ローディング機構32が第3図及び
第5図の状態に戻されると、上述のステップ■へ戻る。
第5図の状態に戻されると、上述のステップ■へ戻る。
以上は右及び左側検査部■及び■についての処理ステッ
プを述べたが、この処理ステップ■〜■及び■〜@は、
右及び左側検査部■及び■についても同様にして実行さ
れ、右側検査部■はステップ■〜■に対応させてステッ
プ0〜[相]で示すようにステップ■〜■と同様に制御
され、また左側検査部■はステップ■〜@に対応させて
ステップ[相]〜[相]に示すように、ステップ■〜@
と同様に制御される。
プを述べたが、この処理ステップ■〜■及び■〜@は、
右及び左側検査部■及び■についても同様にして実行さ
れ、右側検査部■はステップ■〜■に対応させてステッ
プ0〜[相]で示すようにステップ■〜■と同様に制御
され、また左側検査部■はステップ■〜@に対応させて
ステップ[相]〜[相]に示すように、ステップ■〜@
と同様に制御される。
上述においては、ステップ■、■、■、[相]において
ステージ45上にウェハがないときの処理手順を述べた
が、ステージ45上にウェハがあるときは、ステップ■
、■、■、[相]からステップ■、■、[相]、■をジ
ャンプしてステップ■、[相]、[相]、■に移行して
直ちに右側検査部I、■及び左側検査部■、■について
のローディング処理手順を終了する。
ステージ45上にウェハがないときの処理手順を述べた
が、ステージ45上にウェハがあるときは、ステップ■
、■、■、[相]からステップ■、■、[相]、■をジ
ャンプしてステップ■、[相]、[相]、■に移行して
直ちに右側検査部I、■及び左側検査部■、■について
のローディング処理手順を終了する。
また、右側検査部■、■及び左側検査部■、■の全での
ステージ7.17及び7a、17a上にウェハが載置さ
れており、しかも全てのウェハについて検査が終了して
いないときには、MCU23aはステップ■−■−■−
■−o−o−o−。
ステージ7.17及び7a、17a上にウェハが載置さ
れており、しかも全てのウェハについて検査が終了して
いないときには、MCU23aはステップ■−■−■−
■−o−o−o−。
のループを通ってステップ[相]に移行する。
このステップ[相]においてMCU23aは、プリアラ
イメント用ステージ45上にウェハがあるか否かを判断
し、否定結果が得られたときステップ[相]においてス
テージ45上にウェハをもって来る。
イメント用ステージ45上にウェハがあるか否かを判断
し、否定結果が得られたときステップ[相]においてス
テージ45上にウェハをもって来る。
このステップ[相]における動作は、ステップ■、■、
[相]、■について上述したと同様にして実行される。
[相]、■について上述したと同様にして実行される。
このようにすれば、右側検査部11■及び左側検査部■
、■の全でのステージ7.17及び7a、17a上に4
枚のウェハが載置されていて新たなウェハを供給できな
い状態になったとき、5枚目のウェハをプリアライメン
ト用ステージ45上にプリアライメントすることにより
、4枚のウェハの検査を続行しながらこれを同時に5枚
目のウェハについてプリアライメント処理をしておくこ
とができる。かくして検査部I〜■のうち1つにおける
検査が終了すれば、直ちにプリアライメントが済んだウ
ェハを供給することができ、これによリウエハ検査装置
の検査時間を一段と短縮し得る。
、■の全でのステージ7.17及び7a、17a上に4
枚のウェハが載置されていて新たなウェハを供給できな
い状態になったとき、5枚目のウェハをプリアライメン
ト用ステージ45上にプリアライメントすることにより
、4枚のウェハの検査を続行しながらこれを同時に5枚
目のウェハについてプリアライメント処理をしておくこ
とができる。かくして検査部I〜■のうち1つにおける
検査が終了すれば、直ちにプリアライメントが済んだウ
ェハを供給することができ、これによリウエハ検査装置
の検査時間を一段と短縮し得る。
本実施例において、ローディング機構がある指令(第1
の指令)に従って動作している時に、ローディング機構
32を動作する別の指令(第2の指令)が出た時には(
例えばステップ■の指令とステップ@の指令が出た時に
は)、ローディング機構は第1の指令に従う動作が終了
した後に第2の指令に従う動作を行なうことはいうまで
もない。
の指令)に従って動作している時に、ローディング機構
32を動作する別の指令(第2の指令)が出た時には(
例えばステップ■の指令とステップ@の指令が出た時に
は)、ローディング機構は第1の指令に従う動作が終了
した後に第2の指令に従う動作を行なうことはいうまで
もない。
しかしながらθ回転ステージ7.17にウェハ8.18
がセットされてからそのウェハ8.18の検査が終了す
るまでの時間は、ローディング機構32の動作する時間
に比べて非常に長い。従ってローディング機構32に上
述の如く2つの指令が同時に加えられることはほとんど
ない。
がセットされてからそのウェハ8.18の検査が終了す
るまでの時間は、ローディング機構32の動作する時間
に比べて非常に長い。従ってローディング機構32に上
述の如く2つの指令が同時に加えられることはほとんど
ない。
また本実施例においてステップ■、■、■、■、■、■
、■、■、■、[相]、[相]、■、[相]、[相]の
各判断は、MCU23 a自身が第4図のフローチャー
トに従ってローディング機1構、プリアライメント用ス
テージ、ファインアライメント用ステージ等の制御状態
を判断することによってなされる0例えばステップ■の
判断を行なう場合には、次の如(である、すなわち、ア
ーム42がθ回転ステージ7からウェハ8を受は取る動
作が終了しており、そのアーム42からステージ7へ新
たなウェハ8を供給する動作が行なわれていなければ、
MCU23aはθ回転ステージ7にウェハ8がないと判
断する。
、■、■、■、[相]、[相]、■、[相]、[相]の
各判断は、MCU23 a自身が第4図のフローチャー
トに従ってローディング機1構、プリアライメント用ス
テージ、ファインアライメント用ステージ等の制御状態
を判断することによってなされる0例えばステップ■の
判断を行なう場合には、次の如(である、すなわち、ア
ーム42がθ回転ステージ7からウェハ8を受は取る動
作が終了しており、そのアーム42からステージ7へ新
たなウェハ8を供給する動作が行なわれていなければ、
MCU23aはθ回転ステージ7にウェハ8がないと判
断する。
また回転ステージ35.39.40.44の各モータ及
びステージ5〜7.15〜17を移動する各モータ(不
図示)はMCU23aから不図示のドライバを介して伝
達される信号により駆動されることはいうまでもない。
びステージ5〜7.15〜17を移動する各モータ(不
図示)はMCU23aから不図示のドライバを介して伝
達される信号により駆動されることはいうまでもない。
さらにウェハキャリア33a、33bは、これに収納さ
れた多数のウェハの検査が全て終了すると、搬送機構3
1により取出位置Bから退避させられ、次の新しいウェ
ハキャリアが取出位置Bにもたらされる。そして再び前
述の如(ローディング、プリアライメント、ウェハセッ
ト、ファインアライメント、ウェハ検査等の動作が操り
返される。
れた多数のウェハの検査が全て終了すると、搬送機構3
1により取出位置Bから退避させられ、次の新しいウェ
ハキャリアが取出位置Bにもたらされる。そして再び前
述の如(ローディング、プリアライメント、ウェハセッ
ト、ファインアライメント、ウェハ検査等の動作が操り
返される。
上述の如<采実施例は複数例えば4つの右側及び左側検
査部のうち一つの検査部でウェハの検査がなされている
間(例えばステップ■、[相]、[相]、又はOの指令
に基づく動作がなされている間)に、他の検査部ヘウエ
ハをローディングして検査する(ステップ■〜[相]、
◎〜[相]又は[相]〜◎の段階の動作)ことができる
ものである。
査部のうち一つの検査部でウェハの検査がなされている
間(例えばステップ■、[相]、[相]、又はOの指令
に基づく動作がなされている間)に、他の検査部ヘウエ
ハをローディングして検査する(ステップ■〜[相]、
◎〜[相]又は[相]〜◎の段階の動作)ことができる
ものである。
また、検査当初の1枚目〜4枚目のウェハが第4図の処
理手順に従ってステージ7.17.7a、17aにセッ
トされた状態において、5枚目のウェハは、1枚目〜4
枚目のウェハがステージ7.17.7a、17a上で検
査中であってもローディング機構が単独に動作すること
ができることにより、ステージ45上にセットできる。
理手順に従ってステージ7.17.7a、17aにセッ
トされた状態において、5枚目のウェハは、1枚目〜4
枚目のウェハがステージ7.17.7a、17a上で検
査中であってもローディング機構が単独に動作すること
ができることにより、ステージ45上にセットできる。
因にウェハがウェハキャリアから取り出されてステージ
45に載置されてからプリアライメントが完了するまで
はかなりの時間を要するが、ウェハ1枚の検査時間に較
べれば十分短いものである。
45に載置されてからプリアライメントが完了するまで
はかなりの時間を要するが、ウェハ1枚の検査時間に較
べれば十分短いものである。
従って全てのステージでウェハを検査している間に5枚
目のウェハをステージ45に載置してプリアライメント
を完了させておくことができる。
目のウェハをステージ45に載置してプリアライメント
を完了させておくことができる。
ステージ7.17.7a、17aのいずれかのウェハが
検査完了してウェハのウェハキャリアヘノ収納が完了す
ると、ウェハの取出し及びプリアライメントを実施する
ことなく即座にステージ45からステージ7.17.7
a、17aのいずれかにウェハをセットすることができ
る。従ってステージ7.17.7a、17aの使用効率
を落とすことなくウェハの連続供給が可能である。
検査完了してウェハのウェハキャリアヘノ収納が完了す
ると、ウェハの取出し及びプリアライメントを実施する
ことなく即座にステージ45からステージ7.17.7
a、17aのいずれかにウェハをセットすることができ
る。従ってステージ7.17.7a、17aの使用効率
を落とすことなくウェハの連続供給が可能である。
上述の実施例によれば、複数の検査部に対して共用のロ
ーディング機構を設けるようにしたことにより、大口径
化し、重く扱いにくいウェハキャリアの装着を一段と容
易にし得ると共に、検出部全体としての構成の簡略化が
図られて安価な装置を供給することができる。
ーディング機構を設けるようにしたことにより、大口径
化し、重く扱いにくいウェハキャリアの装着を一段と容
易にし得ると共に、検出部全体としての構成の簡略化が
図られて安価な装置を供給することができる。
なお、第3図において破線で示すように、左及び右側検
査部間に電m遮蔽部材46.47を設ければ、一方の検
査部で発生する電磁的なノイズが他方の検査部に与える
影響を小さくすることができる。このように、電磁的な
ノイズの影響が大きい場合には上述の如く電磁遮蔽部材
を設けるのが望ましい。
査部間に電m遮蔽部材46.47を設ければ、一方の検
査部で発生する電磁的なノイズが他方の検査部に与える
影響を小さくすることができる。このように、電磁的な
ノイズの影響が大きい場合には上述の如く電磁遮蔽部材
を設けるのが望ましい。
また上述の実施例においては、4つの検査部■、■、■
、■に対して共通のローディング機構を用いてウェハを
振り分けるように構成したが、検査部の数はこれに限ら
ず、3つ又は5つ以上に変更しても上述の場合と同様の
効果を得ることができる。
、■に対して共通のローディング機構を用いてウェハを
振り分けるように構成したが、検査部の数はこれに限ら
ず、3つ又は5つ以上に変更しても上述の場合と同様の
効果を得ることができる。
以上詳述した如く本発明はウェハ検査を行なうための複
数のステージ機構を有すると共に、各ステージ機構へ単
一のローディング機構によりウェハを効率良く振り分け
るように構成されているので、ローディング機構を共用
できると共に、設置床面積の小さなウェハ検査装置を得
ることができる。
数のステージ機構を有すると共に、各ステージ機構へ単
一のローディング機構によりウェハを効率良く振り分け
るように構成されているので、ローディング機構を共用
できると共に、設置床面積の小さなウェハ検査装置を得
ることができる。
かくするにつき、特に本発明によれば、1台のウェハ検
査装置によって同様に検査処理し得るウェハの枚数を多
くし得、これにより後段に連設される次工程の装置のウ
ェハ1枚当りの処理時間が短い場合はこれに適応するよ
うに検査部の数を選定することにより、当該次工程の装
置の稼動率を必要に応じて十分向上させることができる
。
査装置によって同様に検査処理し得るウェハの枚数を多
くし得、これにより後段に連設される次工程の装置のウ
ェハ1枚当りの処理時間が短い場合はこれに適応するよ
うに検査部の数を選定することにより、当該次工程の装
置の稼動率を必要に応じて十分向上させることができる
。
第1図は本発明によるウェハ検査装置の一実施例をケー
シングを取りはずした状態で示す概略的平面図、第2図
は第1図のウェハ検査装置を次工程の装置に連設した構
成を示す路線的系統図、第3図は第1図の詳細構成を示
す概略的平面図、第4図はケーシング内のステージ部分
を示す縦断面図、第5図はウェハ検査装置のローディン
グ機構を第3図のA−A線から見て示す断面図、第6図
は制御ユニットの処理手順を表すフローチャート、第7
図は顕微鏡を示す平面図、第8図はウェハの形状測定部
を示す路線図である。 5〜7.15〜17・・・・・・ステージ機構、36〜
42−−−−−−ローディング機構、23・・・・・・
制御ユニット、23a・・・・・・マイクロコンピュー
タ。
シングを取りはずした状態で示す概略的平面図、第2図
は第1図のウェハ検査装置を次工程の装置に連設した構
成を示す路線的系統図、第3図は第1図の詳細構成を示
す概略的平面図、第4図はケーシング内のステージ部分
を示す縦断面図、第5図はウェハ検査装置のローディン
グ機構を第3図のA−A線から見て示す断面図、第6図
は制御ユニットの処理手順を表すフローチャート、第7
図は顕微鏡を示す平面図、第8図はウェハの形状測定部
を示す路線図である。 5〜7.15〜17・・・・・・ステージ機構、36〜
42−−−−−−ローディング機構、23・・・・・・
制御ユニット、23a・・・・・・マイクロコンピュー
タ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ウェハを検査するために上記ウェハをファインアライメ
ントし得る複数のステージ機構と、上記複数のステージ
機構に共通に設けられ上記各ステージ機構に上記ウェハ
を導く単一のローディング機構とを具え、 上記ステージ機構は上記ローディング機構を間に挟んだ
両側位置に配設され、上記ローディング機構はウェハキ
ャリアから上記ウェハを取り出して上記ステージ機構の
間を通つて指定された上記ステージ機構に搬送し得るよ
うになされ、 上記ステージ機構は上記ローディング機構の片側又は両
側位置に、上記搬送方向に2つ以上配列されている ことを特徴とするウェハ検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61180813A JP2503425B2 (ja) | 1986-07-30 | 1986-07-30 | ウエハ検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61180813A JP2503425B2 (ja) | 1986-07-30 | 1986-07-30 | ウエハ検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6336541A true JPS6336541A (ja) | 1988-02-17 |
| JP2503425B2 JP2503425B2 (ja) | 1996-06-05 |
Family
ID=16089803
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61180813A Expired - Fee Related JP2503425B2 (ja) | 1986-07-30 | 1986-07-30 | ウエハ検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2503425B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6381830A (ja) * | 1986-09-25 | 1988-04-12 | Tokyo Electron Ltd | プロ−ブ装置 |
| JPS6410640A (en) * | 1987-07-03 | 1989-01-13 | Tokyo Electron Ltd | Wafer prober |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61168236A (ja) * | 1985-01-21 | 1986-07-29 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | ウエハ検査装置 |
-
1986
- 1986-07-30 JP JP61180813A patent/JP2503425B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61168236A (ja) * | 1985-01-21 | 1986-07-29 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | ウエハ検査装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6381830A (ja) * | 1986-09-25 | 1988-04-12 | Tokyo Electron Ltd | プロ−ブ装置 |
| JPS6410640A (en) * | 1987-07-03 | 1989-01-13 | Tokyo Electron Ltd | Wafer prober |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2503425B2 (ja) | 1996-06-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |