JPH02265255A - プローブ装置システム - Google Patents
プローブ装置システムInfo
- Publication number
- JPH02265255A JPH02265255A JP1087466A JP8746689A JPH02265255A JP H02265255 A JPH02265255 A JP H02265255A JP 1087466 A JP1087466 A JP 1087466A JP 8746689 A JP8746689 A JP 8746689A JP H02265255 A JPH02265255 A JP H02265255A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- prober
- carrier
- processing
- measurement
- Prior art date
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- Testing Electric Properties And Detecting Electric Faults (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、プローブ装置システムに関する。
(従来の技術)
近年の半導体製造工程の技術革新により、特定用途向け
の大量のICチップが要求されており、このため多量少
品種生産工程が増加してきている。
の大量のICチップが要求されており、このため多量少
品種生産工程が増加してきている。
この一方で、ICの高集積化のため半導体ウェハ1枚の
測定時間が長くなり、測定ステージにウェハをロード、
アンロードするためのローダ部の稼動率は低下している
。
測定時間が長くなり、測定ステージにウェハをロード、
アンロードするためのローダ部の稼動率は低下している
。
従来、このようなウェハローダ部の稼動率の低下を防止
するために、一つのローダ部に対して、ウェハを測定す
るための複数のステージ機構を配置したプローブ装置が
提供されている(特開昭57−68043.特開昭57
−115843 、特開昭60−491342.特開昭
61−188238.特開昭81−220349 、特
開昭63−129640 )。
するために、一つのローダ部に対して、ウェハを測定す
るための複数のステージ機構を配置したプローブ装置が
提供されている(特開昭57−68043.特開昭57
−115843 、特開昭60−491342.特開昭
61−188238.特開昭81−220349 、特
開昭63−129640 )。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、上記のような従来のプローブ装置にあっ
ては、2系統の測定ステージ間に単一のローダ部を配設
する場合には問題がないが、実際に測定ステージが3系
統以上となると、単一のローダ部の他に特別なローダ部
を設けなければ、ウェハを3系統目の測定ステージに搬
送することができない。
ては、2系統の測定ステージ間に単一のローダ部を配設
する場合には問題がないが、実際に測定ステージが3系
統以上となると、単一のローダ部の他に特別なローダ部
を設けなければ、ウェハを3系統目の測定ステージに搬
送することができない。
ここで、半導体ウェハの電気的特性検査を行うにあたっ
ては、この検査前にウェハの耐電圧をΔ−1定して、プ
ローブ検査を行う際の選別処理を行ったり、あるいは、
プローブ検査終了後に、検査結果に応じた不良チップへ
のマーキング処理、オープン、ショートパターンのりベ
ア処理等が実行される。このように、プローブ検査前後
の処理をも同一ローダ部よりウェハの供給を行おうとす
る場合には、上記処理はウェハ上の全てのチップに行う
必要がないため比較的スルーブツトが高く、複数台の測
定ステージに対して1台配設すれば足りる。
ては、この検査前にウェハの耐電圧をΔ−1定して、プ
ローブ検査を行う際の選別処理を行ったり、あるいは、
プローブ検査終了後に、検査結果に応じた不良チップへ
のマーキング処理、オープン、ショートパターンのりベ
ア処理等が実行される。このように、プローブ検査前後
の処理をも同一ローダ部よりウェハの供給を行おうとす
る場合には、上記処理はウェハ上の全てのチップに行う
必要がないため比較的スルーブツトが高く、複数台の測
定ステージに対して1台配設すれば足りる。
このように、ウェハの電気的特性検査及びその前後に要
する処理のためのウェハ供給稼動率を高める場合には、
3系統以上の装置に対してローダ部を共通化する必要が
あったが、従来の構成では実現不能であった。
する処理のためのウェハ供給稼動率を高める場合には、
3系統以上の装置に対してローダ部を共通化する必要が
あったが、従来の構成では実現不能であった。
そこで、本発明の目的とするところは、被処理体の電気
的特性検査及びこの検査の前及び/又は後に実施される
処理を、被処理体の供給1回収のための稼動率を高めて
実施できるプローブ装置システムを提供することにある
。
的特性検査及びこの検査の前及び/又は後に実施される
処理を、被処理体の供給1回収のための稼動率を高めて
実施できるプローブ装置システムを提供することにある
。
C発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明は、被処理体を複数枚収容したキャリアが移動す
る移動路と、 この移動路の途中に複数配設され、上記被処理体の電気
的特性検査を行う複数の測定ステージと、上記移動路の
途中に配設され、上記電気的特性検査の前及び/又は後
に実施される処理を行うための少なくとも一つの処理装
置と、 上記移動路の上記測定ステージ又は処理装置と対向する
位置にて上記キャリアを停止制御し、かつ、この位置で
の被処理体の受け渡し動作を制御する制御手段とを設け
たことを特徴とする。
る移動路と、 この移動路の途中に複数配設され、上記被処理体の電気
的特性検査を行う複数の測定ステージと、上記移動路の
途中に配設され、上記電気的特性検査の前及び/又は後
に実施される処理を行うための少なくとも一つの処理装
置と、 上記移動路の上記測定ステージ又は処理装置と対向する
位置にて上記キャリアを停止制御し、かつ、この位置で
の被処理体の受け渡し動作を制御する制御手段とを設け
たことを特徴とする。
(作 用)
本発明では、被処理体を収容したキャリアを複数のΔP
I定ステージ及び測定前後に実施される処理装置に対し
て移動可能とし、各停止位置にて被処理体の受け渡しが
可能であるので、キャリアからの被処理体の供給及びキ
ャリアへの被処理体の回収動作を一つのキャリアによっ
て実現でき、その稼動率を大幅に高めることができる。
I定ステージ及び測定前後に実施される処理装置に対し
て移動可能とし、各停止位置にて被処理体の受け渡しが
可能であるので、キャリアからの被処理体の供給及びキ
ャリアへの被処理体の回収動作を一つのキャリアによっ
て実現でき、その稼動率を大幅に高めることができる。
(実施例)
以下、本発明を適用した一実施例について、図面を参照
して具体的に説明する。
して具体的に説明する。
第1図において、このプローブ装置システムは例えば2
5枚のウェハを水”平状態にて縦方向で所定ピッチ毎に
離間して収容した2つのキャリアカセットをキャリアと
しての移動部10に搭載している。この移動部10は、
移動路であるレール20に沿って移動可能であり、かつ
、そのウェハの出入り口を180度回転できるようにな
っている。また、この移動部10は、例えばこのレール
20の一端に配置されたキャリアストッカ30との間で
キャリアカセットの受け渡しが可能となっている。前記
キャリアストッカ30は多段の棚構造を有し、このプロ
ーブ装置システムでの測定を要するウェハを搭載したキ
ャリアカセットを多数収容している。
5枚のウェハを水”平状態にて縦方向で所定ピッチ毎に
離間して収容した2つのキャリアカセットをキャリアと
しての移動部10に搭載している。この移動部10は、
移動路であるレール20に沿って移動可能であり、かつ
、そのウェハの出入り口を180度回転できるようにな
っている。また、この移動部10は、例えばこのレール
20の一端に配置されたキャリアストッカ30との間で
キャリアカセットの受け渡しが可能となっている。前記
キャリアストッカ30は多段の棚構造を有し、このプロ
ーブ装置システムでの測定を要するウェハを搭載したキ
ャリアカセットを多数収容している。
前記レール20の例えば両側にはウェハの測定部と、そ
の測定前後に要する処理部とを配設している。すなわち
、レール20の片側に検査系例えば4台のプローバー4
0としてウエハプローバの測定ステージが設けられ、こ
れと反対側には処理系例えばマーキングブローバ50.
VTH用プローバー60.処理系例えばりベア装置70
がそれぞれ1台づつ配設されている。
の測定前後に要する処理部とを配設している。すなわち
、レール20の片側に検査系例えば4台のプローバー4
0としてウエハプローバの測定ステージが設けられ、こ
れと反対側には処理系例えばマーキングブローバ50.
VTH用プローバー60.処理系例えばりベア装置70
がそれぞれ1台づつ配設されている。
前記プローバー40は、ウェハを載置してX。
Y平面、高さ方向のZ方向及びZ方向の回転方向である
θ方向にそれぞれ移動可能な測定ステージ42を有し、
このステージ42上方には図示しないプローブカード等
の触針が配置され、ウェハ上の各チップの電極パッドと
の接触が可能となっている。なお、各触針はプローバー
40毎に配設された図示しないテスタに接続され、この
テスタより検査信号パターンを送信し、その出力をモニ
タすることで、各種電気的特性検査が可能となっている
。尚、1台のテスタを4台のプローバー40に兼用する
ことも可能である。
θ方向にそれぞれ移動可能な測定ステージ42を有し、
このステージ42上方には図示しないプローブカード等
の触針が配置され、ウェハ上の各チップの電極パッドと
の接触が可能となっている。なお、各触針はプローバー
40毎に配設された図示しないテスタに接続され、この
テスタより検査信号パターンを送信し、その出力をモニ
タすることで、各種電気的特性検査が可能となっている
。尚、1台のテスタを4台のプローバー40に兼用する
ことも可能である。
前記プローバー40では、測定ステージ42上にてウェ
ハのプリアライメントが可能であり、その後ステージ4
2を図示しない画像認識機能を上方に有するアライメン
トブリッジ44に移動させ、画像処理によるパターン認
識からファインアライメントを実行可能となっている。
ハのプリアライメントが可能であり、その後ステージ4
2を図示しない画像認識機能を上方に有するアライメン
トブリッジ44に移動させ、画像処理によるパターン認
識からファインアライメントを実行可能となっている。
前記マーキングプローバー50は、同様にマーキングス
テージ52.アライメントブリッジ54を有し、前記各
プローバー40での検査結果に基づき、不良チップへの
マーキングをスクラッチ方式あるいはインクジェット方
式等により実施するものである。
テージ52.アライメントブリッジ54を有し、前記各
プローバー40での検査結果に基づき、不良チップへの
マーキングをスクラッチ方式あるいはインクジェット方
式等により実施するものである。
前記VTH用プローバー60は、前記プローバ40での
測定前のウェハが所定の耐電圧を有するか否かを検査し
て、測定を要するウェハの選別処理を行うものである。
測定前のウェハが所定の耐電圧を有するか否かを検査し
て、測定を要するウェハの選別処理を行うものである。
この耐電圧測定は、ウェハ上の予め定められた4点又は
5点のチップに対して実施される。
5点のチップに対して実施される。
前記リペア装置70は、前記プローバー40のでの検査
結果に基づき、ビット救済が可能な不良箇所のみをリペ
アするものである。このリペアの内容は大別してショー
トパターンの切断処理及びオープンパターンの接続処理
とである。この種のりベア装置70としては、集束イオ
ンビームを用いて、スパッタガス又は膜生成用ガスを導
入し、ショート箇所をスパッタにより接続し、オープン
箇所をデポジションの付着により接続するものを挙げる
ことができる(特公昭83−25860.月刊Sem1
conductor World 198B、I P9
3〜103参照)。
結果に基づき、ビット救済が可能な不良箇所のみをリペ
アするものである。このリペアの内容は大別してショー
トパターンの切断処理及びオープンパターンの接続処理
とである。この種のりベア装置70としては、集束イオ
ンビームを用いて、スパッタガス又は膜生成用ガスを導
入し、ショート箇所をスパッタにより接続し、オープン
箇所をデポジションの付着により接続するものを挙げる
ことができる(特公昭83−25860.月刊Sem1
conductor World 198B、I P9
3〜103参照)。
前記移動部10のキャリアカセットと、この移動部10
の搬送途上にあるプローバー40等とのウェハの受け渡
しは、ウェハハンドラー80によって行われる。このウ
ェハハンドラー80として、本出願人による先の出願(
特願昭63−234461 )に開示されたものを好適
に採用することができる。
の搬送途上にあるプローバー40等とのウェハの受け渡
しは、ウェハハンドラー80によって行われる。このウ
ェハハンドラー80として、本出願人による先の出願(
特願昭63−234461 )に開示されたものを好適
に採用することができる。
このウェハハンドラー80は、第2図に示すように、一
対の多関節アーム82.84を、その移動平面が交差す
るように傾斜して配置している。
対の多関節アーム82.84を、その移動平面が交差す
るように傾斜して配置している。
そして、両端が上記多関節アーム82.84と同一角度
で傾斜する傾斜部86aと、この間に形成された水平部
86bとて構成されたアーム連結部材86が設けられ、
前記傾斜部86a、86aが前記一対の多関節アーム8
2.84の移動端に回転自在に支持されている。そして
、このアーム連結部材86上に、このアーム連結部材8
6の長平方向と直交する方向に沿ってピンセット88が
固着されている。なお、このピンセット88は、その両
端側でウェハWを例えば真空吸着によって支持可能な真
空吸着部88a、88aを有している。
で傾斜する傾斜部86aと、この間に形成された水平部
86bとて構成されたアーム連結部材86が設けられ、
前記傾斜部86a、86aが前記一対の多関節アーム8
2.84の移動端に回転自在に支持されている。そして
、このアーム連結部材86上に、このアーム連結部材8
6の長平方向と直交する方向に沿ってピンセット88が
固着されている。なお、このピンセット88は、その両
端側でウェハWを例えば真空吸着によって支持可能な真
空吸着部88a、88aを有している。
一方の多関節アーム82は、第1のアーム82aと第2
のアーム82bとから構成され、同様に他方の多関節ア
ーム84も第1アーム84aと第2のアーム84bとか
ら構成され、上記各アームの両端を回転自在とする3関
節(a、b、c)ををする構造となっている。
のアーム82bとから構成され、同様に他方の多関節ア
ーム84も第1アーム84aと第2のアーム84bとか
ら構成され、上記各アームの両端を回転自在とする3関
節(a、b、c)ををする構造となっている。
また、前記第1アーム82a、84aを回転自在に支持
する基台90は、モータ92.ベルト94によって一方
の第1アーム82aを回転駆動し、かつ、基台90自体
が、第2図のθ方向に回転可能であり、かつ、高さ方向
であるZ方向に上下動可能となっている。この結果、ピ
ンセット88は第2図のA、B方向に移動可能であり、
かつ、このピンセット88を回転させ、かつ、上下動可
能としている。
する基台90は、モータ92.ベルト94によって一方
の第1アーム82aを回転駆動し、かつ、基台90自体
が、第2図のθ方向に回転可能であり、かつ、高さ方向
であるZ方向に上下動可能となっている。この結果、ピ
ンセット88は第2図のA、B方向に移動可能であり、
かつ、このピンセット88を回転させ、かつ、上下動可
能としている。
次に、このプローブ装置システムの駆動制御系について
第3図を参照して説明する。
第3図を参照して説明する。
CPU100は、このシステムの全ての制御を司どるも
のであり、前記キャリアストッカ30内の各キャリアカ
セットのロットの種別1枚数、現在測定中あるいは処理
中のキャリアカセットの内のウェハに関する情報(アラ
イメント情報、測定すべきチップアドレス、不良チップ
アドレス、不良内容等)を記憶、管理している。このC
PU100には下記の゛各種駆動制御部が接続されてい
る。キャリア移動制御部102は、キャリアカセットを
搭載した前記移動部10の駆動、停止を制御する。プロ
ーバー制御部104は、各プローバ−40及びこれと対
向するウェハハンドラー80に対応して4台設けられ、
各プローバー40での測定動作、そのプローバー40に
対するウェハのロード、アンロードを駆動制御する。マ
キレグプローバー制御部106.VTH用プローバー制
御部108及びリペア装置制御部110も、各端末処理
部及びこれに対応するウェハハンドラー80毎の個別的
な動作制御を行うようになっている。
のであり、前記キャリアストッカ30内の各キャリアカ
セットのロットの種別1枚数、現在測定中あるいは処理
中のキャリアカセットの内のウェハに関する情報(アラ
イメント情報、測定すべきチップアドレス、不良チップ
アドレス、不良内容等)を記憶、管理している。このC
PU100には下記の゛各種駆動制御部が接続されてい
る。キャリア移動制御部102は、キャリアカセットを
搭載した前記移動部10の駆動、停止を制御する。プロ
ーバー制御部104は、各プローバ−40及びこれと対
向するウェハハンドラー80に対応して4台設けられ、
各プローバー40での測定動作、そのプローバー40に
対するウェハのロード、アンロードを駆動制御する。マ
キレグプローバー制御部106.VTH用プローバー制
御部108及びリペア装置制御部110も、各端末処理
部及びこれに対応するウェハハンドラー80毎の個別的
な動作制御を行うようになっている。
次に、作用について説明する。
CPU100の指令を受けたキャリア移動制御部102
の制御に基づき、キャリアストッカ30より移動部10
に同一種類のウェハを搭載した2個のキャリアカセット
が搭載され、この移動部10をまずVTH用プローバー
60と対応する位置まで搬送して停止させる。そして、
このVTH用プローバー60にて、キャリアカセット内
の全てのウェハに対し、予め定められた4〜5点のチッ
プに関する耐電圧の検査を行う。この測定結果はCPU
100に送られ、不良を有するウェハについては以降の
測定から構成される装置が成される。尚、この際のウェ
ハのロード、アンロードは後述する通りである。
の制御に基づき、キャリアストッカ30より移動部10
に同一種類のウェハを搭載した2個のキャリアカセット
が搭載され、この移動部10をまずVTH用プローバー
60と対応する位置まで搬送して停止させる。そして、
このVTH用プローバー60にて、キャリアカセット内
の全てのウェハに対し、予め定められた4〜5点のチッ
プに関する耐電圧の検査を行う。この測定結果はCPU
100に送られ、不良を有するウェハについては以降の
測定から構成される装置が成される。尚、この際のウェ
ハのロード、アンロードは後述する通りである。
次に、上記移動部10を一つのプローバー40と対応す
る位置まで搬送して停止させる。この後、これと対応す
るプローバー制御部104の制御に基づき、移動部10
に搭載されている一方のキャリアカセットからのウェハ
のロード動作が実施される。すなわち、ウェハハンドラ
ー80を上下動してZ方向位置をセットし、その後モー
タ92の駆動によってビンセット88を該ウェハの裏面
まで移動させ、キャリアカセットより浮かせた状態にて
ウェハを取り出す。その後、ウェハハンドラー80を1
80”回転させ、さらにモータ92を駆動してこのウェ
ハを測定ステージ42に搭載することでロード動作が終
了する。
る位置まで搬送して停止させる。この後、これと対応す
るプローバー制御部104の制御に基づき、移動部10
に搭載されている一方のキャリアカセットからのウェハ
のロード動作が実施される。すなわち、ウェハハンドラ
ー80を上下動してZ方向位置をセットし、その後モー
タ92の駆動によってビンセット88を該ウェハの裏面
まで移動させ、キャリアカセットより浮かせた状態にて
ウェハを取り出す。その後、ウェハハンドラー80を1
80”回転させ、さらにモータ92を駆動してこのウェ
ハを測定ステージ42に搭載することでロード動作が終
了する。
この後、上述したウェハのプリアライメント。
ファインアライメントが実施され、その後、ステージ4
2上のウェハに対して触針を接触し、図示しないテスタ
にて各種電気的特性検査を実施する。
2上のウェハに対して触針を接触し、図示しないテスタ
にて各種電気的特性検査を実施する。
この際の不良チップのアドレス及び不良内容は、CPU
100に送られて記憶されることになる。
100に送られて記憶されることになる。
これと並行して、2台目以降の各プローバー40に対し
ても同様なウェハロード動作を実行し、各プローバー4
0にて順次測定を開始させる。
ても同様なウェハロード動作を実行し、各プローバー4
0にて順次測定を開始させる。
この際、先に行われた耐電圧測定にて不良と判別された
ウェハのロードは阻止される。
ウェハのロードは阻止される。
各プローバー40では、その測定開始タイミングがずれ
ているので、所定時間で終了する一枚のウェハに対する
検査終了時間もそれぞれずれている。従って、移動部1
0は、前記CPU100からの指令を受けるキャリア移
動制御部102の制御に基づき、測定の終了したプロー
バー40と対応する位置に順次移動、停止し、測定の終
了したウェハをキャリアカセット内の基の位置にアンロ
ードすることになる。この際、ビンセット88の両端が
真空吸着部33a、88aとなっているので、次の新た
なウェハを一方の真空吸着部88aにて支持した状態で
、他方の真空吸着部88aにて測定ステージ42より測
定済みウェハを受けとり、このビンセット88を180
@回転することて、即座に新たなウェハをロートするこ
とができ、スルーブツトが向上する。また、移動部10
によって次にウェハの受け渡しを実行するプローバー4
0は予めCPU100によってわかっているので、その
位置にて待機して即座にウェハの受け渡しを実施すれば
、さらにスループットが向上する。
ているので、所定時間で終了する一枚のウェハに対する
検査終了時間もそれぞれずれている。従って、移動部1
0は、前記CPU100からの指令を受けるキャリア移
動制御部102の制御に基づき、測定の終了したプロー
バー40と対応する位置に順次移動、停止し、測定の終
了したウェハをキャリアカセット内の基の位置にアンロ
ードすることになる。この際、ビンセット88の両端が
真空吸着部33a、88aとなっているので、次の新た
なウェハを一方の真空吸着部88aにて支持した状態で
、他方の真空吸着部88aにて測定ステージ42より測
定済みウェハを受けとり、このビンセット88を180
@回転することて、即座に新たなウェハをロートするこ
とができ、スルーブツトが向上する。また、移動部10
によって次にウェハの受け渡しを実行するプローバー4
0は予めCPU100によってわかっているので、その
位置にて待機して即座にウェハの受け渡しを実施すれば
、さらにスループットが向上する。
一方、測定の終了したウェハは、次に移動部10の移動
によってマーキングプローバー50に搬送され、同様な
ロード動作を実施してプローバー50内にウェハを設定
する。このマーキングプローバー50では、CPU10
0にて記憶している不良チップ位置情報に基づき、この
不良チップに対してのみマーキング動作を実行すること
になる。
によってマーキングプローバー50に搬送され、同様な
ロード動作を実施してプローバー50内にウェハを設定
する。このマーキングプローバー50では、CPU10
0にて記憶している不良チップ位置情報に基づき、この
不良チップに対してのみマーキング動作を実行すること
になる。
また、CPU100にてビット救済が可能と判断された
チップを有するウェハについては、同様に移動部10を
リペア装置70に搬送し、ここで上述したビット救済措
置が行われることになる。
チップを有するウェハについては、同様に移動部10を
リペア装置70に搬送し、ここで上述したビット救済措
置が行われることになる。
尚、本実施例では4台のプローバー40に対し、マーキ
ングプローバー50及びリペア装置70をそれぞれ1台
づつ配置しているが、これはウェハの歩留まり(例えば
70〜80%)及びマーキング処理時間、ビット救済時
間と、全てのチップに対するプローブ検査時間とを考慮
すると、4二1の台数割合で充分に効率良く稼動するか
らである。
ングプローバー50及びリペア装置70をそれぞれ1台
づつ配置しているが、これはウェハの歩留まり(例えば
70〜80%)及びマーキング処理時間、ビット救済時
間と、全てのチップに対するプローブ検査時間とを考慮
すると、4二1の台数割合で充分に効率良く稼動するか
らである。
また、VTH用プローバー60も1台であるが、この検
査も1枚のウェハに付き4〜5点のチップであるので、
プローブ時間に比べれば充分短時間で終了するからであ
る。そして、この移動部10の稼動率が高まるように、
前記CPU100によって移動部10の移動先を指定し
て、キャリアカセット内の全てのウェハに関する測定、
処理等を実施することになる。
査も1枚のウェハに付き4〜5点のチップであるので、
プローブ時間に比べれば充分短時間で終了するからであ
る。そして、この移動部10の稼動率が高まるように、
前記CPU100によって移動部10の移動先を指定し
て、キャリアカセット内の全てのウェハに関する測定、
処理等を実施することになる。
このように、本実施例装置では、移動部10によって複
数のプローバー40およびその測定前後に要する各処理
部に対してキャリアカセット毎ウェハを移動させている
ので、順次測定、処理の終了する各部に対して稼動率良
くウェハの供給1回収動作を行うことができ、各部毎に
ローダ部を設けるものと比較すれば、高価なりリーンル
ーム内に占める装置設置面積が大幅に減少し、かっ、ロ
ーダ部の総数も少なくてよいので、製造設備の大幅なコ
ストダウンを図ることができる。
数のプローバー40およびその測定前後に要する各処理
部に対してキャリアカセット毎ウェハを移動させている
ので、順次測定、処理の終了する各部に対して稼動率良
くウェハの供給1回収動作を行うことができ、各部毎に
ローダ部を設けるものと比較すれば、高価なりリーンル
ーム内に占める装置設置面積が大幅に減少し、かっ、ロ
ーダ部の総数も少なくてよいので、製造設備の大幅なコ
ストダウンを図ることができる。
尚、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本
発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
例えば、上記実施例では移動部10内にキャリアカセッ
トのみを搭載し、ロード、アンロードのためのウェハハ
ンドラー80を各測定部毎に配設したが、移動部10内
に搬送アームを内蔵するものでも良く、あるいは第4図
に示すように、前記ウェハハンドラー80を各部の配設
位置に亘って移動可能とし、同一ラインに沿っである各
部へのウェハのロード、アンロード動作を−っのウェハ
ハンドラー80によって兼用するものでもよい。
トのみを搭載し、ロード、アンロードのためのウェハハ
ンドラー80を各測定部毎に配設したが、移動部10内
に搬送アームを内蔵するものでも良く、あるいは第4図
に示すように、前記ウェハハンドラー80を各部の配設
位置に亘って移動可能とし、同一ラインに沿っである各
部へのウェハのロード、アンロード動作を−っのウェハ
ハンドラー80によって兼用するものでもよい。
また、一つのプローブ装置システムに備えられるプロー
バー40及びそのn1定前後の各処理部の数についても
種々の変形実施が可能であり、移動部10を効率良く稼
動できる種々の組み合わせが可能である。
バー40及びそのn1定前後の各処理部の数についても
種々の変形実施が可能であり、移動部10を効率良く稼
動できる種々の組み合わせが可能である。
また、本発明ではキャリアカセットを移動する必要上、
この稼動に伴うゴミの発生が懸念されるが、これは稼動
部分を真空引きし、ウェハの存在する空間に飛散しない
構成とすること等で解決可能である。・ [発明の効果コ 以上説明したように、本発明によれば複数の測定ステー
ジ及びその、111J定の前及び/又は後に実施れさる
処理部への被処理体の供給1回収を、共通のキャリアに
よって実施でき、従って被処理体の供給1回収を行うキ
ャリアの稼動率を大幅に向上でき、特に多量少品種の測
定に好適なプローブ装置システムを提供できる。
この稼動に伴うゴミの発生が懸念されるが、これは稼動
部分を真空引きし、ウェハの存在する空間に飛散しない
構成とすること等で解決可能である。・ [発明の効果コ 以上説明したように、本発明によれば複数の測定ステー
ジ及びその、111J定の前及び/又は後に実施れさる
処理部への被処理体の供給1回収を、共通のキャリアに
よって実施でき、従って被処理体の供給1回収を行うキ
ャリアの稼動率を大幅に向上でき、特に多量少品種の測
定に好適なプローブ装置システムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明を適用したプローブ装置システムの一
実施例の概略説明図、 第2図は、第1図中のウェハハンドラーの概略斜視図、 第3図は、第1図の実施例装置の制御系ブロック図、 第4図は、ウェハハンドラーを移動可能とした変形例を
説明するための概略説明図である。 10・・・移動部、20・・・レール、30・・・キャ
リアストッカ、 40・・・プローバー 42・・・測定ステージ、50
・・・マーキングプローバー 60・・・TVH用プローバー 70・・・リペア装置、 80・・・ハンドラー 100・・・制御手段。 代理人 弁理士 井 上 −(他1名)A \ 第 図 第 図
実施例の概略説明図、 第2図は、第1図中のウェハハンドラーの概略斜視図、 第3図は、第1図の実施例装置の制御系ブロック図、 第4図は、ウェハハンドラーを移動可能とした変形例を
説明するための概略説明図である。 10・・・移動部、20・・・レール、30・・・キャ
リアストッカ、 40・・・プローバー 42・・・測定ステージ、50
・・・マーキングプローバー 60・・・TVH用プローバー 70・・・リペア装置、 80・・・ハンドラー 100・・・制御手段。 代理人 弁理士 井 上 −(他1名)A \ 第 図 第 図
Claims (1)
- (1)被処理体を複数枚収容したキャリアが移動する移
動路と、 この移動路の途中に複数配設され、上記被処理体の電気
的特性検査を行う複数の測定ステージと、上記移動路の
途中に配設され、上記電気的特性検査の前及び/又は後
に実施される処理を行うための少なくとも一つの処理装
置と、 上記移動路の上記測定ステージ又は処理装置と対向する
位置にて上記キャリアを停止制御し、かつ、この位置で
の被処理体の受け渡し動作を制御する制御手段とを設け
たことを特徴とするプローブ装置システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1087466A JPH02265255A (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | プローブ装置システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1087466A JPH02265255A (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | プローブ装置システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02265255A true JPH02265255A (ja) | 1990-10-30 |
Family
ID=13915674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1087466A Pending JPH02265255A (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | プローブ装置システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02265255A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5510724A (en) * | 1993-05-31 | 1996-04-23 | Tokyo Electron Limited | Probe apparatus and burn-in apparatus |
| US5563520A (en) * | 1992-08-17 | 1996-10-08 | Tokyo Electron Limited | Probe system |
| JP2023122826A (ja) * | 2022-02-24 | 2023-09-05 | オムロン株式会社 | 搬送システムおよび搬送方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61123150A (ja) * | 1985-10-23 | 1986-06-11 | Hitachi Ltd | 製造装置 |
| JPS6246542A (ja) * | 1985-08-26 | 1987-02-28 | Toshiba Corp | ウエ−ハテストシステム |
| JPS6387735A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-19 | Tokyo Electron Ltd | ウエハテスト工程における集中マ−キングシステム |
| JPS63229836A (ja) * | 1987-03-19 | 1988-09-26 | Nikon Corp | ウエハ検査装置 |
-
1989
- 1989-04-06 JP JP1087466A patent/JPH02265255A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6246542A (ja) * | 1985-08-26 | 1987-02-28 | Toshiba Corp | ウエ−ハテストシステム |
| JPS61123150A (ja) * | 1985-10-23 | 1986-06-11 | Hitachi Ltd | 製造装置 |
| JPS6387735A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-19 | Tokyo Electron Ltd | ウエハテスト工程における集中マ−キングシステム |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US5510724A (en) * | 1993-05-31 | 1996-04-23 | Tokyo Electron Limited | Probe apparatus and burn-in apparatus |
| JP2023122826A (ja) * | 2022-02-24 | 2023-09-05 | オムロン株式会社 | 搬送システムおよび搬送方法 |
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