JPS6337106B2 - - Google Patents
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- JPS6337106B2 JPS6337106B2 JP52084022A JP8402277A JPS6337106B2 JP S6337106 B2 JPS6337106 B2 JP S6337106B2 JP 52084022 A JP52084022 A JP 52084022A JP 8402277 A JP8402277 A JP 8402277A JP S6337106 B2 JPS6337106 B2 JP S6337106B2
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- methanesulfonamidoethyl
- tetrazole
- acid
- ylthiomethyl
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D257/00—Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D257/02—Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D257/04—Five-membered rings
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Communicable Diseases (AREA)
- Oncology (AREA)
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- Medicinal Chemistry (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Pharmacology & Pharmacy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
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- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
本発明は置換テトラゾールチオール化合物、さ
らに詳しくは非経口投与により抗菌作用を発揮す
る一連のセフアロスポリン化合物を製造するにお
いて有用な新規中間体の置換テトラゾールチオー
ルに関する。 本発明の化合物は式[]: [式中、nは2〜5;Rは炭素数1〜4のアル
キルを意味する] で示される化合物である。 特に好ましい化合物は、nが2、Rがメチルの
式[]の化合物である。 式[]のアルカンスルホンアミドアルキルテ
トラゾールチオールは、2,4―ジニトロフルオ
ロベンゼンと1―アセトアミドアルキルテトラゾ
ール―5―チオールを反応させ、そのアセトアミ
ド基を加水分解して得られる対応する1―アミノ
アルキル―5―(2,4―ジニトロフエニルチ
オ)テトラゾール化合物を、メタンスルホニルク
ロライドのようなアルカンスルホニルハライドと
反応させ、ついで2,4―ジニトロフエニル保護
基を開裂して製造される。1―アセトアミドアル
キルテトラゾール―5―チオールは2―アセトア
ミドエチルジチオカルバミン酸メチルのようなア
セトアミドアルキルジチオカルバミン酸エステル
をナトリウムアジドのようなアジドと反応させて
製造される。アセトアミドアルキルジチオカルバ
ミン酸エステルは、N―(2―アミノエチル)ア
セトアミドのようなN―アミノアルキルアセトア
ミドをトリエチルアミンのような塩基の存在下、
二硫化炭素およびヨウ化メチルのようなハロゲン
化アルキルで処理して製造される。 本発明の化合物は、その構造がセフエム核の3
位にアルカンスルホンアミドアルキル置換テトラ
ゾリルチオメチル基を有することにより特徴づけ
られる生物学的に活性なセフアロスポリン化合物
を製造するのに用いることができる。 このようなセフアロスポリン化合物としては、
式[]: {式中、Wは水素またはメトキシ;R1は式:
らに詳しくは非経口投与により抗菌作用を発揮す
る一連のセフアロスポリン化合物を製造するにお
いて有用な新規中間体の置換テトラゾールチオー
ルに関する。 本発明の化合物は式[]: [式中、nは2〜5;Rは炭素数1〜4のアル
キルを意味する] で示される化合物である。 特に好ましい化合物は、nが2、Rがメチルの
式[]の化合物である。 式[]のアルカンスルホンアミドアルキルテ
トラゾールチオールは、2,4―ジニトロフルオ
ロベンゼンと1―アセトアミドアルキルテトラゾ
ール―5―チオールを反応させ、そのアセトアミ
ド基を加水分解して得られる対応する1―アミノ
アルキル―5―(2,4―ジニトロフエニルチ
オ)テトラゾール化合物を、メタンスルホニルク
ロライドのようなアルカンスルホニルハライドと
反応させ、ついで2,4―ジニトロフエニル保護
基を開裂して製造される。1―アセトアミドアル
キルテトラゾール―5―チオールは2―アセトア
ミドエチルジチオカルバミン酸メチルのようなア
セトアミドアルキルジチオカルバミン酸エステル
をナトリウムアジドのようなアジドと反応させて
製造される。アセトアミドアルキルジチオカルバ
ミン酸エステルは、N―(2―アミノエチル)ア
セトアミドのようなN―アミノアルキルアセトア
ミドをトリエチルアミンのような塩基の存在下、
二硫化炭素およびヨウ化メチルのようなハロゲン
化アルキルで処理して製造される。 本発明の化合物は、その構造がセフエム核の3
位にアルカンスルホンアミドアルキル置換テトラ
ゾリルチオメチル基を有することにより特徴づけ
られる生物学的に活性なセフアロスポリン化合物
を製造するのに用いることができる。 このようなセフアロスポリン化合物としては、
式[]: {式中、Wは水素またはメトキシ;R1は式:
【式】および
【式】
[式中、Xはチエニル、フエニルまたはモノ置
換フエニル(置換基はヒドロキシ、ヒドロキシメ
チル、ホルムアミドまたはウレイド);Aは
NH2、OH、COOH、SO3Hまたはホルミルオキ
シ;Yはシアノ、シドノン、ピリドン、チエニル
またはテトラゾリル;Zはメチル、トリフルオロ
メチル、トリフルオロエチル、ピリジルまたはシ
アノメチル;mは0〜2を意味する] で示される基から選ばれるアシル基;nは2〜
5;Rは炭素数1〜4のアルキルを意味する} で示される化合物またはその非毒性の医薬上許容
される塩または水化物が挙げられる。 式[]の化合物の4―カルボン酸基は公知の
方法で容易にエステル化できる。これらのエステ
ルには、例えば、単純なアルキルおよびアリール
エステルならびに体内で容易に開裂されて親化合
物の酸となるインダニルエステル、ピバロイルオ
キシメチルエステル、アセトキシメチルエステ
ル、プロピオニルオキシメチルエステル、グリシ
ルオキシメチルエステル、フエニルグリシルオキ
シメチルエステル、チエニルグリシルオキシメチ
ルエステルなどが包含される。AがCOOHの場
合、この基も当然、同様にエステル化される。 式[]の化合物の代表的な7―アシル置換基
(R1NH―)はつぎのとおりである。 α―ヒドロキシフエニルアセトアミド、α―ア
ミノフエニルアセトアミド、α―アミノ―4―ヒ
ドロキシフエニルアセトアミド、トリフルオロメ
チルチオアセトアミド、2,2,2―トリフルオ
ロエチルスルフイニルアセトアミド、2,2,2
―トリフルオロエチルチオアセトアミド、シアノ
アセトアミド、α―カルボキシチエニルアセトア
ミド、α―カルボキシフエニルアセトアミド、α
―スルホフエニルアセトアミド、メチルスルホニ
ルアセトアミド、シアノメチルチオアセトアミ
ド、3―シドノンアセトアミド、1―テトラゾリ
ルアセトアミド、2―チエニルアセトアミド、4
―ピリジルチオアセトアミド 式[]の化合物の例としては、7β―D―マ
ンデルアミド―3―[1―(2―メタンスルホン
アミドエチル)テトラゾール―5―イルチオメチ
ル]―3―セフエム―4―カルボン酸、7β―
(2―チエニルアセトアミド)―3―[1―(2
―メタンスルホンアミドエチル)テトラゾール―
5―イルチオメチル]―3―セフエム―4―カル
ボン酸、7β―(1―テトラゾリルアセトアミド)
―3―[1―(2―メタンスルホンアミドエチ
ル)テトラゾール―5―イルチオメチル]―3―
セフエム―4―カルボン酸、7β―シアノメチル
チオアセトアミド―3―[1―(2―メタンスル
ホンアミドエチル)テトラゾール―5―イルチオ
メチル]―3―セフエム―4―カルボン酸、7β
―(D―α―アミノフエニルアセトアミド)―3
―[1―(2―メタンスルホンアミドエチル)テ
トラゾール―5―イルチオメチル]―3―セフエ
ム―4―カルボン酸、7β―(D―α―アミノ―
4―ヒドロキシフエニルアセトアミド)―3―
[1―(2―メタンスルホンアミドエチル)テト
ラゾール―5―イルチオメチル]―3―セフエム
―4―カルボン酸、7β―D―マンデルアミド―
7α―メトキシ―3―[1―(2―メタンスルホ
ンアミドエチル)テトラゾール―5―イルチオメ
チル]―3―セフエム―4―カルボン酸、7β―
(D―α―アミノフエニルアセトアミド)―7α―
メトキシ―3―[1―(2―メタンスルホンアミ
ドエチル)テトラゾール―5―イルチオメチル]
―3―セフエム―4―カルボン酸、7α――メト
キシ―7β―トリフルオロメチルチオアセトアミ
ド―3―[1―(2―メタンスルホンアミドエチ
ル)テトラゾール―5―イルチオメチル]―3―
セフエム―4―カルボン酸、7α―メトキシ―7β
―(2―チエニルアセトアミド)―3―[1―
(2―メタンスルホンアミドエチル)テトラゾー
ル―5―イルチオメチル]―3―セフエム―4―
カルボン酸が挙げられる。 前記のような7―アシル置換基を有するセフア
ロスポリン誘導体は従来からよく報告されてい
る。また、セフエム核の3位を、テトラゾリルチ
オメチルを含め、種々置換されたS―複素環チオ
メチル基で置換することも公知である。ドイツ国
特許公開明細書2415402号は3位に、とりわけ、
アシルアミノアルキル基で置換されたN―含有複
素環チオメチル基を有する7―(アシルまたはア
ミノ)セフアロスポリンを開示している。ベルギ
ー国特許第818209号は複素環基が、とりわけ、―
SO2R1(R1はアルキル、アミノまたはヒドロキ
シ)で置換された7―(チオ置換アシルアミノ)
―3―複素環チオメチルセフアロスポリンを開示
している。さらに、ドイツ国特許公開明細書第
2514322号は複素環基が、とりわけ、スルホアル
キル基で置換された7―(α―N―置換フエニル
グリシンアミド)―3―複素環チオメチルセフア
ロスポリンを開示している。しかし、3―(アル
カンスルホンアミドアルキル置換テトラゾリル)
チオメチル基を有するセフアロスポリンに関して
の開示は全く見当らない。 Wが水素の式[]の化合物は、好ましくは、
7β―アミノセフアロスポラン酸(7―ACA)を、
要すれば適宜保護して適当なアシル化剤でアシル
化し、ついでその3―アセトキシ基を本発明の
式: [式中、nおよびRは前記と同じである] で示される所望のアルカンスルホンアミドアルキ
ルテトラゾールチオールで置換し、保護基を離脱
させて製造される。例えば、マンデル酸の反応性
保護誘導体のようなある種のアシル化剤を用いる
場合は、置換前に7―側鎖から保護基を離脱させ
ることが好ましい。 この反応の第1段階(7―アシル化)における
アシル化剤のカルボン酸基は、混酸無水物、酸塩
化物、酸イミダゾリドまたは活性エステルに変え
るような常法により活性化される。さらに、セフ
エム核上のカルボキシル基をベンズヒドリル、t
―ブチル、トリクロロエチル、ベンジル、ベンジ
ルオキシメチル、p―メトキシフエニル、p―ニ
トロフエニル、p―メトキシベンジルまたはp―
ニトロベンジルエステルのような容易に離脱でき
る保護基で保護してジシクロカルボジイミドのよ
うな試薬を使用できる。AがNH2の場合、アシ
ル化剤の該α―アミノ基は、好ましくは、アシル
化の前に、t―ブトキシカルボニル、トリクロロ
エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
ル、アセト酢酸メチル付加物またはペプチド合成
に通常用いられる同様の基のような公知の容易に
離脱できる保護基で保護する。 別法として、好ましくはWがメトキシの場合、
式[]の化合物は、式: [式中、Wは水素またはメトキシ;nは2〜
5;Rは炭素数1〜4のアルキル;R2は水素ま
たは保護エステル基を意味する] で示される適当な7β―アミノ―3―(アルカン
スルホンアミドアルキル置換テトラゾリルチオメ
チル)セフアロスポリン核を、前記と同様に、適
当なアシル化剤でアシル化し、保護基が存在する
場合はこれを離脱させて製造される。 保護基は、t―ブチルまたはt―ブトキシカル
ボニル保護基を用いた場合はトリフルオロ酢酸に
よるような公知の方法で離脱できる。得られた塩
はポリスチレン―アミンイオン交換樹脂(アンバ
ーライトIR―45)のような塩基性イオン交換樹
脂または塩の水性溶液を塩基性とするような方法
により双性イオン性生成物または遊離酸に変えら
れる。 出発物質として用いるアシル化剤は公知か、ま
たは公知の方法で製造される。 Wが水素の式[]の7β―アミノ―3―アル
カンスルホンアミドアルキルテトラゾリルチオメ
チルセフアロスポリン出発物質は7β―アミノセ
フアロスポラン酸と式[]の置換テトラゾール
チオールを反応させ、ついでエステル化させて製
造される。 Wがメトキシの式[]の7β―アミノ―7α―
メトキシセフアロスポリン核がWが水素、R3が
t―ブチルのような保護エステル基の対応する
7β―アミノ―3―(置換テトラゾリルチオメチ
ル)セフアロスポリンを3,5―ジ―t―ブチル
―4―ヒドロキシベンズアルデヒドと、水を共沸
除去しながら反応させて製造される。得られた生
成物を二酸化鉛で処理し、この酸化された中間体
をメタノールと反応させ、ついでそのイミン基
を、例えばジラルド試薬T(Girard reagent T、
トリメチルアミノアセトヒドラジドクロリド)で
開裂し、保護基を離脱させて所望の式[]の化
合物を得る。 式[]および[]の化合物は、例えば、ナ
トリウムまたはカリウムのようなアルカリ金属、
カルシウムのようなアルカリ土金属またはアンモ
ニウムカチオンと造塩する。AがNH2の化合物
は双性イオンまたは酸もしくは塩基の塩として存
在できる。これらの塩は種々の公知の非毒性医薬
上許容される酸および塩基を用い、常法によつて
製造される。 式[]の化合物およびその塩はまた、水化物
あるいはソルベートとして存在できる。 R1が
換フエニル(置換基はヒドロキシ、ヒドロキシメ
チル、ホルムアミドまたはウレイド);Aは
NH2、OH、COOH、SO3Hまたはホルミルオキ
シ;Yはシアノ、シドノン、ピリドン、チエニル
またはテトラゾリル;Zはメチル、トリフルオロ
メチル、トリフルオロエチル、ピリジルまたはシ
アノメチル;mは0〜2を意味する] で示される基から選ばれるアシル基;nは2〜
5;Rは炭素数1〜4のアルキルを意味する} で示される化合物またはその非毒性の医薬上許容
される塩または水化物が挙げられる。 式[]の化合物の4―カルボン酸基は公知の
方法で容易にエステル化できる。これらのエステ
ルには、例えば、単純なアルキルおよびアリール
エステルならびに体内で容易に開裂されて親化合
物の酸となるインダニルエステル、ピバロイルオ
キシメチルエステル、アセトキシメチルエステ
ル、プロピオニルオキシメチルエステル、グリシ
ルオキシメチルエステル、フエニルグリシルオキ
シメチルエステル、チエニルグリシルオキシメチ
ルエステルなどが包含される。AがCOOHの場
合、この基も当然、同様にエステル化される。 式[]の化合物の代表的な7―アシル置換基
(R1NH―)はつぎのとおりである。 α―ヒドロキシフエニルアセトアミド、α―ア
ミノフエニルアセトアミド、α―アミノ―4―ヒ
ドロキシフエニルアセトアミド、トリフルオロメ
チルチオアセトアミド、2,2,2―トリフルオ
ロエチルスルフイニルアセトアミド、2,2,2
―トリフルオロエチルチオアセトアミド、シアノ
アセトアミド、α―カルボキシチエニルアセトア
ミド、α―カルボキシフエニルアセトアミド、α
―スルホフエニルアセトアミド、メチルスルホニ
ルアセトアミド、シアノメチルチオアセトアミ
ド、3―シドノンアセトアミド、1―テトラゾリ
ルアセトアミド、2―チエニルアセトアミド、4
―ピリジルチオアセトアミド 式[]の化合物の例としては、7β―D―マ
ンデルアミド―3―[1―(2―メタンスルホン
アミドエチル)テトラゾール―5―イルチオメチ
ル]―3―セフエム―4―カルボン酸、7β―
(2―チエニルアセトアミド)―3―[1―(2
―メタンスルホンアミドエチル)テトラゾール―
5―イルチオメチル]―3―セフエム―4―カル
ボン酸、7β―(1―テトラゾリルアセトアミド)
―3―[1―(2―メタンスルホンアミドエチ
ル)テトラゾール―5―イルチオメチル]―3―
セフエム―4―カルボン酸、7β―シアノメチル
チオアセトアミド―3―[1―(2―メタンスル
ホンアミドエチル)テトラゾール―5―イルチオ
メチル]―3―セフエム―4―カルボン酸、7β
―(D―α―アミノフエニルアセトアミド)―3
―[1―(2―メタンスルホンアミドエチル)テ
トラゾール―5―イルチオメチル]―3―セフエ
ム―4―カルボン酸、7β―(D―α―アミノ―
4―ヒドロキシフエニルアセトアミド)―3―
[1―(2―メタンスルホンアミドエチル)テト
ラゾール―5―イルチオメチル]―3―セフエム
―4―カルボン酸、7β―D―マンデルアミド―
7α―メトキシ―3―[1―(2―メタンスルホ
ンアミドエチル)テトラゾール―5―イルチオメ
チル]―3―セフエム―4―カルボン酸、7β―
(D―α―アミノフエニルアセトアミド)―7α―
メトキシ―3―[1―(2―メタンスルホンアミ
ドエチル)テトラゾール―5―イルチオメチル]
―3―セフエム―4―カルボン酸、7α――メト
キシ―7β―トリフルオロメチルチオアセトアミ
ド―3―[1―(2―メタンスルホンアミドエチ
ル)テトラゾール―5―イルチオメチル]―3―
セフエム―4―カルボン酸、7α―メトキシ―7β
―(2―チエニルアセトアミド)―3―[1―
(2―メタンスルホンアミドエチル)テトラゾー
ル―5―イルチオメチル]―3―セフエム―4―
カルボン酸が挙げられる。 前記のような7―アシル置換基を有するセフア
ロスポリン誘導体は従来からよく報告されてい
る。また、セフエム核の3位を、テトラゾリルチ
オメチルを含め、種々置換されたS―複素環チオ
メチル基で置換することも公知である。ドイツ国
特許公開明細書2415402号は3位に、とりわけ、
アシルアミノアルキル基で置換されたN―含有複
素環チオメチル基を有する7―(アシルまたはア
ミノ)セフアロスポリンを開示している。ベルギ
ー国特許第818209号は複素環基が、とりわけ、―
SO2R1(R1はアルキル、アミノまたはヒドロキ
シ)で置換された7―(チオ置換アシルアミノ)
―3―複素環チオメチルセフアロスポリンを開示
している。さらに、ドイツ国特許公開明細書第
2514322号は複素環基が、とりわけ、スルホアル
キル基で置換された7―(α―N―置換フエニル
グリシンアミド)―3―複素環チオメチルセフア
ロスポリンを開示している。しかし、3―(アル
カンスルホンアミドアルキル置換テトラゾリル)
チオメチル基を有するセフアロスポリンに関して
の開示は全く見当らない。 Wが水素の式[]の化合物は、好ましくは、
7β―アミノセフアロスポラン酸(7―ACA)を、
要すれば適宜保護して適当なアシル化剤でアシル
化し、ついでその3―アセトキシ基を本発明の
式: [式中、nおよびRは前記と同じである] で示される所望のアルカンスルホンアミドアルキ
ルテトラゾールチオールで置換し、保護基を離脱
させて製造される。例えば、マンデル酸の反応性
保護誘導体のようなある種のアシル化剤を用いる
場合は、置換前に7―側鎖から保護基を離脱させ
ることが好ましい。 この反応の第1段階(7―アシル化)における
アシル化剤のカルボン酸基は、混酸無水物、酸塩
化物、酸イミダゾリドまたは活性エステルに変え
るような常法により活性化される。さらに、セフ
エム核上のカルボキシル基をベンズヒドリル、t
―ブチル、トリクロロエチル、ベンジル、ベンジ
ルオキシメチル、p―メトキシフエニル、p―ニ
トロフエニル、p―メトキシベンジルまたはp―
ニトロベンジルエステルのような容易に離脱でき
る保護基で保護してジシクロカルボジイミドのよ
うな試薬を使用できる。AがNH2の場合、アシ
ル化剤の該α―アミノ基は、好ましくは、アシル
化の前に、t―ブトキシカルボニル、トリクロロ
エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
ル、アセト酢酸メチル付加物またはペプチド合成
に通常用いられる同様の基のような公知の容易に
離脱できる保護基で保護する。 別法として、好ましくはWがメトキシの場合、
式[]の化合物は、式: [式中、Wは水素またはメトキシ;nは2〜
5;Rは炭素数1〜4のアルキル;R2は水素ま
たは保護エステル基を意味する] で示される適当な7β―アミノ―3―(アルカン
スルホンアミドアルキル置換テトラゾリルチオメ
チル)セフアロスポリン核を、前記と同様に、適
当なアシル化剤でアシル化し、保護基が存在する
場合はこれを離脱させて製造される。 保護基は、t―ブチルまたはt―ブトキシカル
ボニル保護基を用いた場合はトリフルオロ酢酸に
よるような公知の方法で離脱できる。得られた塩
はポリスチレン―アミンイオン交換樹脂(アンバ
ーライトIR―45)のような塩基性イオン交換樹
脂または塩の水性溶液を塩基性とするような方法
により双性イオン性生成物または遊離酸に変えら
れる。 出発物質として用いるアシル化剤は公知か、ま
たは公知の方法で製造される。 Wが水素の式[]の7β―アミノ―3―アル
カンスルホンアミドアルキルテトラゾリルチオメ
チルセフアロスポリン出発物質は7β―アミノセ
フアロスポラン酸と式[]の置換テトラゾール
チオールを反応させ、ついでエステル化させて製
造される。 Wがメトキシの式[]の7β―アミノ―7α―
メトキシセフアロスポリン核がWが水素、R3が
t―ブチルのような保護エステル基の対応する
7β―アミノ―3―(置換テトラゾリルチオメチ
ル)セフアロスポリンを3,5―ジ―t―ブチル
―4―ヒドロキシベンズアルデヒドと、水を共沸
除去しながら反応させて製造される。得られた生
成物を二酸化鉛で処理し、この酸化された中間体
をメタノールと反応させ、ついでそのイミン基
を、例えばジラルド試薬T(Girard reagent T、
トリメチルアミノアセトヒドラジドクロリド)で
開裂し、保護基を離脱させて所望の式[]の化
合物を得る。 式[]および[]の化合物は、例えば、ナ
トリウムまたはカリウムのようなアルカリ金属、
カルシウムのようなアルカリ土金属またはアンモ
ニウムカチオンと造塩する。AがNH2の化合物
は双性イオンまたは酸もしくは塩基の塩として存
在できる。これらの塩は種々の公知の非毒性医薬
上許容される酸および塩基を用い、常法によつて
製造される。 式[]の化合物およびその塩はまた、水化物
あるいはソルベートとして存在できる。 R1が
【式】の場合、式[]の7―
アセトアミド基の不斉α―炭素原子により、光学
異性体が存在する。アシル化剤としてラセミ体、
あるいは分割された側鎖酸を用いるかによりラセ
ミ体または分割された生成物が得られる。分割さ
れた側鎖酸は、光学活性の酸または塩基と形成さ
せた塩の分別結晶を包含する公知の方法に従つて
ラセミ化合物を分割して得られる。 式[]の化合物はグラム陽性菌およびグラム
陰性菌の両方に対してすぐれた抗菌性を有する。
invitroテストにおける最少阻止濃度(MIC)は
0.2〜>200μg/mlの範囲である。つぎに第1表
に7β―D―マンデルアミド―3―[1―(2―
メタンスルホンアミドエチル)テトラゾール―5
―イルチオメチル]―3―セフエム―カルボン酸
ジナトリウム塩水化物(化合物A)のテスト結果
を、公知の化合物、セフアゾリンと対比させて示
す。
異性体が存在する。アシル化剤としてラセミ体、
あるいは分割された側鎖酸を用いるかによりラセ
ミ体または分割された生成物が得られる。分割さ
れた側鎖酸は、光学活性の酸または塩基と形成さ
せた塩の分別結晶を包含する公知の方法に従つて
ラセミ化合物を分割して得られる。 式[]の化合物はグラム陽性菌およびグラム
陰性菌の両方に対してすぐれた抗菌性を有する。
invitroテストにおける最少阻止濃度(MIC)は
0.2〜>200μg/mlの範囲である。つぎに第1表
に7β―D―マンデルアミド―3―[1―(2―
メタンスルホンアミドエチル)テトラゾール―5
―イルチオメチル]―3―セフエム―カルボン酸
ジナトリウム塩水化物(化合物A)のテスト結果
を、公知の化合物、セフアゾリンと対比させて示
す。
【表】
【表】
in vivoマウス保護テストにおいて、7β―D―
マンデルアミド―3―[1―(2―メタンスルホ
ンアミドエチル)テトラゾール―5―イルチオメ
チル]―3―セフエム―4―カルボン酸ナトリウ
ム塩水化物は皮下投与により、イー・コリ12140
に対して0.39mg/Kgの、また、クレブシエラ・ニ
ウモニアエ4200に対して2.44mg/KgのED50を示
す。一方、セフアゾリンのED50は、皮下投与に
より、イー・コリ12140に対して4mg/Kg、クレ
ブシエラ・ニウモニアエ4200に対して11.3mg/Kg
である。 式[]の化合物は医薬組成物として患者に投
与される。投与は経口的または皮下注、筋注また
は静脈注のような非経口的に行なうことができ
る。非毒性有効量の該新規セフアロスポリンを含
有する適宜調製された滅菌溶液または懸濁液の注
射が好ましい。 式[]の化合物は他のセフアロスポリンと同
様に処方され投与される。100〜1000mgの用量範
囲から選ばれる非毒性有効量の式[]の化合物
は1日の総量400mg〜6gで、好ましくは注射に
より投与する。 つぎに実施例および参考例を挙げて本発明をさ
らに詳しく説明するが、これらに限定されるもの
ではない。 実施例 1 1―(2―メタンスルホンアミドエチル)テト
ラゾール―5―チオール N―(2―アミノエチル)アセトアミド20.4g
(0.20モル)の95%エタノール200mg中溶液にトリ
エチルアミン27.9ml(0.20モル)および二硫化炭
素12.0ml(0.20モル)を加える。発熱反応による
還流が起つた後、1.5時間を要して室温まで冷却
する。ついでヨウ化メチル28.4g(0.20モル)を
加え、再び発熱反応を起させる。1.75時間後、反
応混合液を蒸発乾固させ、固体残渣を水200mlに
溶解する。この水溶液を酢酸エチル250mlづつで
2回抽出する。抽出液を合し、固体チオ硫酸ナト
リウムと共に振とうし、硫酸マグネシウムで乾燥
し、蒸発乾固させて2―アセトアミドエチルジチ
オカルバミン酸メチルを得る。 2―アセトアミドエチルジチオカルバミン酸メ
チル38.4g(0.198モル)の95%エタノール100ml
中溶液にナトリウムアジド13.5g(0.208モル)
水100ml中溶液を加える。反応混合液を24時間還
流し、冷却し、減圧下で約半量に濃縮する。この
溶液を15℃に冷却し、6N硫酸50mlを加える。こ
の酸性溶液を濾過し、濾液を約100mlに濃縮し、
5℃に冷却し、1―(2―アセトアミドエチル)
テトラゾール―5―チオールを結晶させ、濾取す
る。融点139〜139.5℃ 濾液を酢酸エチルで連続的に抽出し、さらに生
成物を得る。 2,4―ジニトロフルオロベンゼン9.3g
(0.050モル)のアセトン50ml中溶液を1―(2―
アセトアミドエチル)テトラゾール―5―チオー
ル9.35g(0.050モル)およびトリエチルアミン
6.85ml(0.050モル)のアセトン100ml中溶液に加
え、反応混合液を1時間撹拌する。固体を濾取
し、アセトニトリルから再結晶させて1―(2―
アセトアミドエチル)―5―(2,4―ジニトロ
フエニルチオ)テトラゾールを得る。融点197〜
198℃ 1―(2―アセトアミドエチル)―5―(2,
4―ジニトロフエニルチオ)テトラゾール6.5g
(0.02モル)、12N塩酸100mlおよび95%エタノー
ル100mlの混合液を4.5時間還流させる。混合液を
蒸発乾固させてガム状残渣を得、エタノールを加
えて結晶させ、1―(2―アミノエチル)―5―
(2,4―ジニトロフエニルチオ)テトラゾール
塩酸塩を得る。融点217〜219℃(分解) 1―(2―アミノエチル)―5―(2,4―ジ
ニトロフエニルチオ)テトラゾール塩酸塩4.9g
(14.1ミリモル)ピリジン100ml中懸濁液にメタン
スルホニルクロライド1.5ml(2.2g、19.2ミリモ
ル)を加える。この混合液を1.5時間撹拌し、さ
らにメタンスルホニルクロライド0.5mlを加え、
この混合液をさらに1時間撹拌する。蒸発させて
ピリジンを除去し、残渣を少量のジメチルホルム
アミドに溶解する。この溶液に水を加え、生じた
沈殿を濾取し、水洗し、風乾する。沈殿を最少量
のジメチルホルムアミドに溶解し、この溶液を酢
酸エチルで希釈し、ダルコG―60で処理する。混
合液を濾過し、蒸発乾固し、シロツプ状残渣を酢
酸エチルから結晶させて5―(2,4―ジニトロ
フエニルチオ)―1―メタンスルホンアミドエチ
ル)テトラゾールを得る。 元素分析、C10H11N7O6S2として、 計算値(%):C,30.85;H,2.85;N,25.18 実測値(%):C,31.08;H,3.09;N,25.17 5―(2,4―ジニトロフエニルチオ)―1―
(2―メタンスルホンアミドエチル)テトラゾー
ル4.46g(11.5ミリモル)をメタノール中、5%
ナトリウムメトキシド60mlに加える。1時間後、
水を加え、固体を濾去する。濾液を真空下で濃縮
し、3N塩酸を加えてPH1.4とする。この酸性溶液
を濾過し、濾液を酢酸エチルで2回抽出する。抽
出液を合し、濃縮し、残渣に酢酸エチルを加えて
結晶させ、1―(2―メタンスルホンアミドエチ
ル)テトラゾール―5―チオールを得る。融点
131〜132℃ 元素分析、C4H9N5O2S2として、 計算値(%):C,21.52;H,4.06;N,31.37 実測値(%):C,21.61;H,4.19;N,31.63 参考例 1 7β―D―マンデルアミド―3―[1―(2―
メタンスルホンアミドエチル)テトラゾール―
5―イルチオメチル]―3―セフエム―4―カ
ルボン酸 7β―D―マンデルアミドセフアロスポラン酸
ナトリウム塩1.3水化物4.52g(10.0ミリモル)、
実施例1で得られた1―(2―メタンスルホンア
ミドエチル)テトラゾール―5―チオール1.70g
(7.5ミリモル)およびPHを6.8とするに充分な量
の重炭酸ナトリウムの混合物を68℃で3時間加熱
する。室温まで冷却した後、反応混合液に3N塩
酸を加えてPH1.8に調整する。得られたガム状物
質をアセトンに溶解する。酢酸エチルを加え、沈
殿した固体を濾去する。濾液にエーテルを加え、
表記化合物を沈殿させ、これを集めてメタノール
に溶解する。このメタノール溶液をPH7.0になる
までナトリウムメトキシドで処理し、ついでイソ
プロパノールを加える。生じた沈殿を集め、水に
溶解し、凍結乾燥して表記化合物のナトリウム塩
を得る。 元素分析、C20H22N7O7S3・Na・0.75H2Oとし
て、 計算値(%):C,39.69;H,3.91;N,16.20 実測値(%):C,40.11;H,3.91;N,15.11 7β―D―マンデルアミド―3―[1―(2―
メタンスルホンアミドエチル)テトラゾール―5
―イルチオメチル]―3―セフエム―4―カルボ
ン酸ナトリウム塩の水溶液を3N塩酸でPH2.5と
し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、蒸発乾固させて表記の化合
物を得る。 参考例 2 7β―(D―α―アミノフエニルアセトアミド)
―3―[1―(2―メタンスルホンアミドエチ
ル)テトラゾール―5―イルチオメチル]―3
―セフエム―4―カルボン酸 7β―(D―α―t―ブトキシカルボニルアミ
ノフエニルアセトアミド)セフアロスポラン酸
7.58g(0.015モル)、1―(2―メタンスルホン
アミドエチル)テトラゾール―5―チオール2.27
g(0.01モル)および重炭酸ナトリウム2.52g
(0.03モル)の水125ml中溶液を、重炭酸ナトリウ
ムの添加によりPH7.0〜7.2に保持しながら60℃で
5時間撹拌する。混合液を冷却し、酢酸エチルで
抽出する。水層を3N塩酸でPH2.5の酸性とし、こ
の酸性溶液を再び酢酸エチルで抽出する。この抽
出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発乾固させ
て7β―(D―α―t―ブトキシカルボニルアミ
ノフエニルアセトアミド)―3―[1―(2―メ
タンスルホンアミドエチル)テトラゾール―5―
イルチオメチル]―3―セフエム―4―カルボン
酸を得る。 7β―(D―α―t―ブトキシカルボニルアミ
ノフエニルアセトアミド)―3―[1―(2―メ
タンスルホンアミドエチル)テトラゾール―5―
イルチオメチル]―3―セフエム―4―カルボン
酸約1gをトリフルオロ酢酸25mlおよび1,3―
ジメトキシベンゼン25mlと共に25℃で2.25時間撹
拌する。この混合液を真空下で蒸発乾固し、残渣
にエーテルを加え、沈殿を集め、エーテルで洗浄
する。これをアセトニトリル中で2時間撹拌し、
集め、真空下で乾燥し、表記化合物のトリフルオ
ロ酢酸塩を得る。この塩を水に溶解し、この溶液
をIR―45イオン交換樹脂と共に撹拌し、ついで
凍結乾燥して表記の化合物を得る。 参考例 3 7β―アミノ―3―[1―(2―メタンスルホ
ンアミドエチル)テトラゾール―5―イルチオ
メチル]―3―セフエム―4―カルボン酸 1―(2―メタンスルホンアミドエチル)テト
ラゾール―5―チオール13.62g(0.06モル)の
アセトン120ml中溶液を、7―アミノセフアロス
ポラン酸10.9g(0.04モル)の水220ml、アセト
ン50mlおよび重炭酸ナトリウム8.4g(0.01モル)
混合液中温溶液(45℃)に加える。温度を65℃に
上げ、重炭酸ナトリウム水溶液を加えてPH7.4〜
7.6に保持する。3時間後、真空下でアセトンを
除去し、反応混合液を10℃に冷却し、稀塩酸を加
えてPH3.5に調整する。生成物を集め、水、つい
でアセトンで洗浄して表記の化合物を得る。 参考例 4 7β―(2,2,2―トリフルオロエチルスル
フイニルアセトアミド)―3―[1―(2―メ
タンスルホンアミドエチル)テトラゾール―5
―イルチオメチル]―3―セフエム―4―カル
ボン酸 2,2,2―トリフルオロエチルスルフイニル
酢酸5.7g(0.03モル)およびN―ヒドロキシこ
はく酸イミド3.45g(0.03モル)のテトラヒドロ
フラン50ml中撹拌溶液(0℃)にジシクロヘキシ
ルカルボジイミド6.2g(0.031モル)を加える。
反応混合液を0℃で1時間、ついで25℃で12時間
撹拌する。沈殿を濾去し、テトラヒドロフランで
洗浄し、濾液を蒸発乾固して2,2,2―トリフ
ルオロエチルスルフイニル酢酸の活性エステルを
得る。 7β―アミノ―3―[1―(2―メタンスルホ
ンアミドエチル)テトラゾール―5―イルチオメ
チル]―3―セフエム―4―カルボン酸4.35g
(0.01モル)の乾燥ジメチルホルムアミド50ml中
懸濁液をトリエチルアミン2mlで処理し、混合液
を25℃で15分間撹拌する。この混合液にわずかに
過剰の2,2,2―トリフルオロエチルスルフイ
ニル酢酸の活性エステル0.01モルを加え、さらに
1時間撹拌する。反応混合液を蒸発乾固し、残渣
に水および酢酸エチルを加える。層を分離させ、
酢酸エチル層を捨て、水層に新たな酢酸エチルを
加え、6N塩酸でPH2.5の酢酸とする。この混合液
を濾過し、層を分離させ、水層を酢酸エチルで抽
出する。抽出液を合し、水洗し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、蒸発乾固させて表記の化合物を得
る。
マンデルアミド―3―[1―(2―メタンスルホ
ンアミドエチル)テトラゾール―5―イルチオメ
チル]―3―セフエム―4―カルボン酸ナトリウ
ム塩水化物は皮下投与により、イー・コリ12140
に対して0.39mg/Kgの、また、クレブシエラ・ニ
ウモニアエ4200に対して2.44mg/KgのED50を示
す。一方、セフアゾリンのED50は、皮下投与に
より、イー・コリ12140に対して4mg/Kg、クレ
ブシエラ・ニウモニアエ4200に対して11.3mg/Kg
である。 式[]の化合物は医薬組成物として患者に投
与される。投与は経口的または皮下注、筋注また
は静脈注のような非経口的に行なうことができ
る。非毒性有効量の該新規セフアロスポリンを含
有する適宜調製された滅菌溶液または懸濁液の注
射が好ましい。 式[]の化合物は他のセフアロスポリンと同
様に処方され投与される。100〜1000mgの用量範
囲から選ばれる非毒性有効量の式[]の化合物
は1日の総量400mg〜6gで、好ましくは注射に
より投与する。 つぎに実施例および参考例を挙げて本発明をさ
らに詳しく説明するが、これらに限定されるもの
ではない。 実施例 1 1―(2―メタンスルホンアミドエチル)テト
ラゾール―5―チオール N―(2―アミノエチル)アセトアミド20.4g
(0.20モル)の95%エタノール200mg中溶液にトリ
エチルアミン27.9ml(0.20モル)および二硫化炭
素12.0ml(0.20モル)を加える。発熱反応による
還流が起つた後、1.5時間を要して室温まで冷却
する。ついでヨウ化メチル28.4g(0.20モル)を
加え、再び発熱反応を起させる。1.75時間後、反
応混合液を蒸発乾固させ、固体残渣を水200mlに
溶解する。この水溶液を酢酸エチル250mlづつで
2回抽出する。抽出液を合し、固体チオ硫酸ナト
リウムと共に振とうし、硫酸マグネシウムで乾燥
し、蒸発乾固させて2―アセトアミドエチルジチ
オカルバミン酸メチルを得る。 2―アセトアミドエチルジチオカルバミン酸メ
チル38.4g(0.198モル)の95%エタノール100ml
中溶液にナトリウムアジド13.5g(0.208モル)
水100ml中溶液を加える。反応混合液を24時間還
流し、冷却し、減圧下で約半量に濃縮する。この
溶液を15℃に冷却し、6N硫酸50mlを加える。こ
の酸性溶液を濾過し、濾液を約100mlに濃縮し、
5℃に冷却し、1―(2―アセトアミドエチル)
テトラゾール―5―チオールを結晶させ、濾取す
る。融点139〜139.5℃ 濾液を酢酸エチルで連続的に抽出し、さらに生
成物を得る。 2,4―ジニトロフルオロベンゼン9.3g
(0.050モル)のアセトン50ml中溶液を1―(2―
アセトアミドエチル)テトラゾール―5―チオー
ル9.35g(0.050モル)およびトリエチルアミン
6.85ml(0.050モル)のアセトン100ml中溶液に加
え、反応混合液を1時間撹拌する。固体を濾取
し、アセトニトリルから再結晶させて1―(2―
アセトアミドエチル)―5―(2,4―ジニトロ
フエニルチオ)テトラゾールを得る。融点197〜
198℃ 1―(2―アセトアミドエチル)―5―(2,
4―ジニトロフエニルチオ)テトラゾール6.5g
(0.02モル)、12N塩酸100mlおよび95%エタノー
ル100mlの混合液を4.5時間還流させる。混合液を
蒸発乾固させてガム状残渣を得、エタノールを加
えて結晶させ、1―(2―アミノエチル)―5―
(2,4―ジニトロフエニルチオ)テトラゾール
塩酸塩を得る。融点217〜219℃(分解) 1―(2―アミノエチル)―5―(2,4―ジ
ニトロフエニルチオ)テトラゾール塩酸塩4.9g
(14.1ミリモル)ピリジン100ml中懸濁液にメタン
スルホニルクロライド1.5ml(2.2g、19.2ミリモ
ル)を加える。この混合液を1.5時間撹拌し、さ
らにメタンスルホニルクロライド0.5mlを加え、
この混合液をさらに1時間撹拌する。蒸発させて
ピリジンを除去し、残渣を少量のジメチルホルム
アミドに溶解する。この溶液に水を加え、生じた
沈殿を濾取し、水洗し、風乾する。沈殿を最少量
のジメチルホルムアミドに溶解し、この溶液を酢
酸エチルで希釈し、ダルコG―60で処理する。混
合液を濾過し、蒸発乾固し、シロツプ状残渣を酢
酸エチルから結晶させて5―(2,4―ジニトロ
フエニルチオ)―1―メタンスルホンアミドエチ
ル)テトラゾールを得る。 元素分析、C10H11N7O6S2として、 計算値(%):C,30.85;H,2.85;N,25.18 実測値(%):C,31.08;H,3.09;N,25.17 5―(2,4―ジニトロフエニルチオ)―1―
(2―メタンスルホンアミドエチル)テトラゾー
ル4.46g(11.5ミリモル)をメタノール中、5%
ナトリウムメトキシド60mlに加える。1時間後、
水を加え、固体を濾去する。濾液を真空下で濃縮
し、3N塩酸を加えてPH1.4とする。この酸性溶液
を濾過し、濾液を酢酸エチルで2回抽出する。抽
出液を合し、濃縮し、残渣に酢酸エチルを加えて
結晶させ、1―(2―メタンスルホンアミドエチ
ル)テトラゾール―5―チオールを得る。融点
131〜132℃ 元素分析、C4H9N5O2S2として、 計算値(%):C,21.52;H,4.06;N,31.37 実測値(%):C,21.61;H,4.19;N,31.63 参考例 1 7β―D―マンデルアミド―3―[1―(2―
メタンスルホンアミドエチル)テトラゾール―
5―イルチオメチル]―3―セフエム―4―カ
ルボン酸 7β―D―マンデルアミドセフアロスポラン酸
ナトリウム塩1.3水化物4.52g(10.0ミリモル)、
実施例1で得られた1―(2―メタンスルホンア
ミドエチル)テトラゾール―5―チオール1.70g
(7.5ミリモル)およびPHを6.8とするに充分な量
の重炭酸ナトリウムの混合物を68℃で3時間加熱
する。室温まで冷却した後、反応混合液に3N塩
酸を加えてPH1.8に調整する。得られたガム状物
質をアセトンに溶解する。酢酸エチルを加え、沈
殿した固体を濾去する。濾液にエーテルを加え、
表記化合物を沈殿させ、これを集めてメタノール
に溶解する。このメタノール溶液をPH7.0になる
までナトリウムメトキシドで処理し、ついでイソ
プロパノールを加える。生じた沈殿を集め、水に
溶解し、凍結乾燥して表記化合物のナトリウム塩
を得る。 元素分析、C20H22N7O7S3・Na・0.75H2Oとし
て、 計算値(%):C,39.69;H,3.91;N,16.20 実測値(%):C,40.11;H,3.91;N,15.11 7β―D―マンデルアミド―3―[1―(2―
メタンスルホンアミドエチル)テトラゾール―5
―イルチオメチル]―3―セフエム―4―カルボ
ン酸ナトリウム塩の水溶液を3N塩酸でPH2.5と
し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、蒸発乾固させて表記の化合
物を得る。 参考例 2 7β―(D―α―アミノフエニルアセトアミド)
―3―[1―(2―メタンスルホンアミドエチ
ル)テトラゾール―5―イルチオメチル]―3
―セフエム―4―カルボン酸 7β―(D―α―t―ブトキシカルボニルアミ
ノフエニルアセトアミド)セフアロスポラン酸
7.58g(0.015モル)、1―(2―メタンスルホン
アミドエチル)テトラゾール―5―チオール2.27
g(0.01モル)および重炭酸ナトリウム2.52g
(0.03モル)の水125ml中溶液を、重炭酸ナトリウ
ムの添加によりPH7.0〜7.2に保持しながら60℃で
5時間撹拌する。混合液を冷却し、酢酸エチルで
抽出する。水層を3N塩酸でPH2.5の酸性とし、こ
の酸性溶液を再び酢酸エチルで抽出する。この抽
出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発乾固させ
て7β―(D―α―t―ブトキシカルボニルアミ
ノフエニルアセトアミド)―3―[1―(2―メ
タンスルホンアミドエチル)テトラゾール―5―
イルチオメチル]―3―セフエム―4―カルボン
酸を得る。 7β―(D―α―t―ブトキシカルボニルアミ
ノフエニルアセトアミド)―3―[1―(2―メ
タンスルホンアミドエチル)テトラゾール―5―
イルチオメチル]―3―セフエム―4―カルボン
酸約1gをトリフルオロ酢酸25mlおよび1,3―
ジメトキシベンゼン25mlと共に25℃で2.25時間撹
拌する。この混合液を真空下で蒸発乾固し、残渣
にエーテルを加え、沈殿を集め、エーテルで洗浄
する。これをアセトニトリル中で2時間撹拌し、
集め、真空下で乾燥し、表記化合物のトリフルオ
ロ酢酸塩を得る。この塩を水に溶解し、この溶液
をIR―45イオン交換樹脂と共に撹拌し、ついで
凍結乾燥して表記の化合物を得る。 参考例 3 7β―アミノ―3―[1―(2―メタンスルホ
ンアミドエチル)テトラゾール―5―イルチオ
メチル]―3―セフエム―4―カルボン酸 1―(2―メタンスルホンアミドエチル)テト
ラゾール―5―チオール13.62g(0.06モル)の
アセトン120ml中溶液を、7―アミノセフアロス
ポラン酸10.9g(0.04モル)の水220ml、アセト
ン50mlおよび重炭酸ナトリウム8.4g(0.01モル)
混合液中温溶液(45℃)に加える。温度を65℃に
上げ、重炭酸ナトリウム水溶液を加えてPH7.4〜
7.6に保持する。3時間後、真空下でアセトンを
除去し、反応混合液を10℃に冷却し、稀塩酸を加
えてPH3.5に調整する。生成物を集め、水、つい
でアセトンで洗浄して表記の化合物を得る。 参考例 4 7β―(2,2,2―トリフルオロエチルスル
フイニルアセトアミド)―3―[1―(2―メ
タンスルホンアミドエチル)テトラゾール―5
―イルチオメチル]―3―セフエム―4―カル
ボン酸 2,2,2―トリフルオロエチルスルフイニル
酢酸5.7g(0.03モル)およびN―ヒドロキシこ
はく酸イミド3.45g(0.03モル)のテトラヒドロ
フラン50ml中撹拌溶液(0℃)にジシクロヘキシ
ルカルボジイミド6.2g(0.031モル)を加える。
反応混合液を0℃で1時間、ついで25℃で12時間
撹拌する。沈殿を濾去し、テトラヒドロフランで
洗浄し、濾液を蒸発乾固して2,2,2―トリフ
ルオロエチルスルフイニル酢酸の活性エステルを
得る。 7β―アミノ―3―[1―(2―メタンスルホ
ンアミドエチル)テトラゾール―5―イルチオメ
チル]―3―セフエム―4―カルボン酸4.35g
(0.01モル)の乾燥ジメチルホルムアミド50ml中
懸濁液をトリエチルアミン2mlで処理し、混合液
を25℃で15分間撹拌する。この混合液にわずかに
過剰の2,2,2―トリフルオロエチルスルフイ
ニル酢酸の活性エステル0.01モルを加え、さらに
1時間撹拌する。反応混合液を蒸発乾固し、残渣
に水および酢酸エチルを加える。層を分離させ、
酢酸エチル層を捨て、水層に新たな酢酸エチルを
加え、6N塩酸でPH2.5の酢酸とする。この混合液
を濾過し、層を分離させ、水層を酢酸エチルで抽
出する。抽出液を合し、水洗し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、蒸発乾固させて表記の化合物を得
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式: [式中、nは2〜5;Rは炭素数1〜4のアル
キルを意味する] で示される化合物。 2 nが2、Rがメチルである前記第1項の化合
物。
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