JPS6337899A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPS6337899A
JPS6337899A JP61179739A JP17973986A JPS6337899A JP S6337899 A JPS6337899 A JP S6337899A JP 61179739 A JP61179739 A JP 61179739A JP 17973986 A JP17973986 A JP 17973986A JP S6337899 A JPS6337899 A JP S6337899A
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JP
Japan
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address
circuit
level
signal
precharge
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JP61179739A
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English (en)
Inventor
Kiyohiro Furuya
清広 古谷
Koichiro Masuko
益子 耕一郎
Kazutami Arimoto
和民 有本
Norimasa Matsumoto
松本 憲昌
Yoshio Matsuda
吉雄 松田
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/70—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
    • G11C29/78—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
    • G11C29/84—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved access time or stability

Landscapes

  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、冗長構成にして欠陥ビット救済を可能とし
た半導体記憶装置に関し、特にそのスタティックコラム
モードのアクセス時間の短縮化に関するものである。
〔従来の技術〕
第4図は例えば特公昭61−8520号公報に示された
欠陥ビットの救済を行う従来の冗長構成半導体記憶装置
である。この第4図において、lはセンスアンプ列、2
は予備メモリセルアレイ、2゛は予備メモリセル、3は
本体側メモリセルアレイ、3°は本体側メモリセルアレ
イ3の中に存在する欠陥メモリセルである。4はワード
線駆動回路、5はロウデコーダ回路、6は予備ロウデコ
ーダ回路、6゛は欠陥メモリセルの番地に応じてレーザ
ビーム等で溶断される信号経路遮断素子(以下PROM
素子と呼ぶ)、7はロウデコーダ機能停止回路である。
8は制御信号発生回路、9はワード線クロック発生回路
、lOはワード線駆動クロ。
り発生回路9を活性化するタイミングの調整を行うダミ
ーデコーダ回路、11はマルチプレクサ回路、12はコ
ラムデコーダ回路、13はデータ入出カバソファ回路で
ある。また、14はデータ入出力線、15はビット線、
16は予備ワード線、17はワード線、Φpはプリチャ
ージ用クロック、Φredは欠陥ビット救済時にのみ“
L”レベル(低電圧レベル)となる信号である。
次に欠陥ビット救済時のメモリ読み出し動作を説明する
。ここでは、欠陥メモリセル3′が、該欠陥メモリセル
3゛の接続されている同一ビット線15上の予備メモリ
セル2゛に置換される場合を仮定している。
まず、アドレスバッファ出力信号(以下アドレス信号と
略称する)がロウデコーダ回路5及び予備ロウデコーダ
回路6に入力されると、予備ロウデコーダ回路6ではF
ROM素子6”に登録済の番地とこのアドレス信号との
照合が行われ、両者が一致すると予備ロウデコーダ回路
6の出力は制御信号発生回路8を活性化する。
次に制御信号発生回路8はロウデコーダ機能停止回路7
及びダミーデコーダ回路10を活性化する。ダミーデコ
ーダ回路10の出力は、ロウデコーダ機能停止回路7が
動作してロウデコーダ回路5が機能停止するタイミング
で確定する。ダミーデコーダ回路10の出力はワード線
駆動クロック発生回路9を活性化し、これにより発生さ
れたワード線駆動クロックがワード線駆動回路4を活性
化する。この時点においては、既にロウデコーダ機能停
止回路7がロウデコーダ回路5を不活性化しているため
に、該ロウデコーダ回路5に接続されたワード線駆動回
路4は、このワード線駆動回路4に接続されているワー
ド線17のレベルを“L″レベル維持する。
一方、予備ワード線16はワード線駆動回路4によって
″H″レベル(高電圧レベル)となり、予備ワード13
116に接続されている一列分の予備メモリセルアレイ
2の各セル情報に応じた微小信号電圧が全ビット線に現
れる。その後センスアンプ列1が活性化して前記微小信
号は増幅され、マルチプレクサ回路11に伝達される。
マルチプレクサ回路11では、コラムデコーダ回路12
の選択信号によりビット線15に接続されている予備メ
モリセル2”のセル情報のみを選択し、この情報がデー
タ入出力線14を通してデータ入出カバソファ回路13
に入力され、セル情報の読み出しが行われる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
以上のような従来の冗長構成半導体記憶装置において、
欠陥ビットのアドレスと入力アドレスの照合を行う回路
は、欠陥ビットのアドレスと入力アドレスの照合を行う
前に、この照合回路を初期化するためのプリチャージ期
間が必要である。この期間中、照合回路に入力するアド
レスバッファ出力信号は低レベルに保持する必要があり
、プリチャージ期間後、アドレスバッファ出力を活性化
した時点で照合回路が動作する。列アドレスを冗長構成
にした半導体記憶装置においては、通常のアクセスモー
ドでは、列アドレスが決まる前にRASなどのストロー
ブ信号に同期して前記のプリチャージを行うことができ
るが、RAS信号で行を選択した後は、アドレス信号の
変化によって読み出しメモリセルのアドレスが変化して
いくようなスタティックコラムモードでは、外部入力ア
ドレスが変化した後一旦アドレスバッファ出力を低レベ
ルにし、前記のプリチャージを行い、その後アドレスバ
ッファ出力を活性化して照合回路を動作させる必要があ
る。従って、アドレスバッファ出力を活性化する前に、
プリチャージ期間が必要である従来の照合回路を用いた
冗長回路では、スタティックコラムモードの列アドレス
が変化してからデータが読み出されるまでの時間(アク
セス時間)の高速が難しいという欠点があった。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、冗長構成にした半導体記憶装置のスタティ
ックコラムモードのアクセス時間を高速化することので
きる半導体記憶装置を得ることを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係る半導体記憶装置は、その照合回路のプリ
チャージする節点と、この節点にプリチャージされた電
荷が照合回路動作時にPROM素子とゲート素子を通じ
て流れ込む節点との電位をプリチャージ期間に同電位と
なるようにしたものである。
〔作用〕
この発明においては、照合回路のプリチャージ期間中、
プリチャージされる節点とプリチャージされた電荷がP
ROM素子とゲート素子とを通じて流れ込む節点との電
位を同電位としているので、プリチャージ期間中、アド
レスバッファを不活性化する必要がない、即ちアドレス
バッファが活性化されていても、上記両節点に電流は流
れない。
従って、プリチャージ期間中にアドレスバッファ出力を
確定させておき、プリチャージ期間終了俊速やかに照合
回路を動作させることができ、スタティックコラムモー
ドのアクセス時間が短縮する。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を図について説明する。
第1図は本発明の一実施例による冗長構成半導体記憶装
置の構成図である0図において、1はセンスアンプ列、
2は予備メモリセルアレイ、3は本体側メモリセルアレ
イ、4はワード線駆動回路、5はロウデコーダ回路、1
1はマルチプレクサ回路、13はデータ入出カバソファ
回路、14はデータ入出力線、12はコラムデコーダ回
路、19はコラムデコーダ活性化信号発生回路、20は
予備列選択回路である。6は入力アドレスと欠陥メモリ
セルのアドレスを照合する照合回路、22はアドレスバ
ッファ、23はプリデコーダ回路、24はアドレスが変
化したことを検知するアドレス変化検出回路、25は制
御回路である。また、C下はセンス動作終了後、低レベ
ルに変化する信号、ATDはアドレス変化検出回路24
の出力信号で、CEが高レベルの時又はアドレスが変化
した時、高レベルとなる信号である。CYは信号ATD
と相補の信号、CYDは信号CYよりも一定期間遅れて
低レベルから高レベルに変化する信号、ynはプリデコ
ード信号、eXAo〜exA9は外部入力アドレス信号
、An、Anはデコーダ18を駆動するアドレスバッフ
ァ出力信号、Anl 、 An゛は照合回路6を駆動す
るアドレスバッファ出力信号、A n”、 A n”は
アドレス変化検出回路24を駆動するアドレスバッファ
出力信号であり、が小さい。
第2図は入力アドレスと欠陥メモリセルのアドレスを照
合する照合回路6の実施例であり、F1〜F20はPR
OM素子であり、その一部は欠陥メモリセルのアドレス
に応じて溶断されている。
Q1〜Q20.Q24はN型MO3FET、Q21、Q
22.Q23はP型MO3FETである。
このように本実施例の照合回路は、アドレス信号An’
 、An’が入力する複数のトランジスタ(ゲート素子
)とこれに直列接続されたPROM素子(ヒユーズ素子
)とによって放電経路が形成されたダイナミックNOR
回路から構成されている。
次に動作について説明する。
第3図において、時刻t=t 1でアドレスが変化した
時、アドレス変化検出回路24の出力信号ATDは一定
期間高レベルとなるとともに、信号CYは一定期間低レ
ベルとなる。このとき、トランジスタQ22.Q23は
導通状態、トランジスタQ24は非導通状態となり、照
合回路出力信号Ci(プリチャージする節点)と第2図
の節点26とは高電位にプリチャージされる。従って両
節点(Ciと節点26)は同電位となり、トランジスタ
Q1〜Q20に入力する信号によらず、出力信号Ciは
高レベルに保たれるので、該信号Ciのプリチャージと
平行してアドレスバッファを動作させることができる。
次に信号CYが“H”レベルに変化するとトランジスタ
Q24が導通する。そして入力アドレスがPROM素子
に登録済みの欠陥ビットのアドレスと一致しない場合は
、レーザビームで溶断されないPROM素子に直列に接
続されたトランジスタの少なくとも1つが導通するので
、このトランジスタを通じて照合回路出力信号Ciは“
L”レヘ/L/に放電される。逆に入力アドレスが欠陥
ビットのアドレスと一致する場合は、レーザビームで溶
断されていないPROM素子に接続したトランジスタは
全て非導通となるので、照合回路出力信号Ciは“H″
レベルままとなる。
以上のようにして、信号CYが“H”レベルに変化した
後、入力アドレスとPROM素子に登録した欠陥ビット
のアドレスとの照合が行われるが、本実施例による照合
回路では、信号cyが“L”レベルとなるプリチャージ
期間中に、照合回路に入力するアドレス信号のレベルが
確定しているので、プリチャージ終了後、すぐに照合動
作を行うことができる。照合回路の出力信号Ciは予備
列選択回路20とコラムデコーダ活性化信号発生回路1
9に入力する。
ここで、コラムデコーダ活性化信号発生回路はNOR回
路であり、従って本実施例では予備列を4列備えている
が、欠陥列アドレスが入力すると、CY倍信号“H”レ
ベルに変化しても4つの照合回路の出力信号C1,C2
,C3,C4のいずれか1つは“H”レベルを維持し、
コラムデコーダ活性化信号NCRは“L”レベルに維持
され、コラムデコーダは動作せず、本体側メモリセルは
選択されない。
一方欠陥列アドレスが入力しないときは、CY倍信号“
H″レベル変化すると、C1,C2゜C3,C4は全て
“L″レベル変化し、コラムデコーダ活性化信号NCR
は“H°レベルとなり、コラムデコーダが動作し、本体
側メモリセルが選択される。予備列選択回路20は照合
回路出力信号CiとCYD信号のAND回路であり、欠
陥セルのアドレスが入力して照合回路の出力Ciが“H
”レベルノ時、CY倍信号“H”レベルとなり、照合回
路が動作し、次いでコラムデコーダ活性化信号NCHの
レベルが定まった時点で、CYD信号が高レベルとなる
と予備列選択回路20の出力は“H”レベルとなり、予
備列が選択される。
このような本実施例では、照合回路のプリチャージ期間
中、Ciと節点26とを同電位としているので、該プリ
チャージ期間中入力アドレスを活性化しても両者間に電
流が流れることはなく、従って従来のようにプリチャー
ジ期間中アドレス信号を不活性にする必要がなく、プリ
チャージ終了後速かに照合動作を行うことができる。
なお、上記実施例ではスタティックコラムモードを備え
たダイナミックRAMの冗長構成について説明したが、
スタティックRAMの列又は行の冗長構成にも同様に通
用できる。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明に係る半導体記憶装置によれば
、照合化のプリチャージ期間中、プリチャージされる節
点とプリチャージされた電荷がPROM素子とゲート素
子を通じて流れ込む節点の電位を同電位としているので
、プリチャージ期間中にもこれと平行してアドレスバッ
ファを動作させることができ、該プリチャージ期間終了
俊速やかに照合回路を動作させてスタティックコラムモ
ードにおけるアクセス時間を短縮する効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による半導体記憶装置の構
成図、第2図は欠陥アドレスと入力アドレスを照合する
回路の具体的構成例を示す図、第3図は上記実施例の動
作を説明するための信号のタイミング図、第4図は従来
の冗長構成半導体記憶装置の構成図である。 2・・・予備メモリセルアレイ、2゛・・・予備メモリ
セル、3・・・本体側メモリセルアレイ、3゛・・・欠
陥メモリセル、F1〜F20・・・PROM素子、Q1
〜Q20.C24・・・NMO3FET、Q21.C2
2、C23・・・PMO3棄子。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)1ビットの情報を記憶するための本体側メモリセ
    ル及び欠陥ビット救済用の予備メモリセルを複数個有し
    、該複数個の本体側メセリセル内の欠陥メモリセルの番
    地を上記予備メモリセルの番地に置換することにより欠
    陥ビットの救済を行う冗長構成半導体記憶装置において
    、 欠陥ビットの番地と入力アドレスとの照合を行う照合回
    路と、 欠陥ビットの番地と入力アドレスとが一致したとき予備
    メモリセルを選択する予備列選択回路と、欠陥ビットの
    番地と入力アドレスとが一致しないとき本体側メモリセ
    ルを選択するためのデコーダを活性化する信号を発生す
    るデコーダ活性化信号発生回路とを備え、 上記照合回路は、アドレス信号とこれと相補のアドレス
    信号とが入力する複数のゲート素子と、この各ゲート素
    子に直列に接続されたヒューズ素子とによって放電経路
    が形成されたダイナミックNOR回路からなり、プリチ
    ャージ時に、上記直列接続したゲート素子とヒューズ素
    子の両端が同電位となるものであることを特徴とする半
    導体記憶装置。
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