JPS6337921A - ポリオキシメチレンフイルム - Google Patents
ポリオキシメチレンフイルムInfo
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- JPS6337921A JPS6337921A JP61181908A JP18190886A JPS6337921A JP S6337921 A JPS6337921 A JP S6337921A JP 61181908 A JP61181908 A JP 61181908A JP 18190886 A JP18190886 A JP 18190886A JP S6337921 A JPS6337921 A JP S6337921A
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- film
- rolling
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- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
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- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C55/00—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
- B29C55/005—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor characterised by the choice of materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B29C55/146—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial biaxial successively firstly transversely to the direction of feed and then parallel thereto
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
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- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
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- C08J2359/02—Copolyoxymethylenes
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- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、主鎖の主要部が実質的にオキシメチレン基＋
ＣＨ，−０＋の繰返し単位から構成されるポリオキシメ
チレン重合体からなり実質的Ｋｌ軸配向されたフィルム
またはシートに関する。
ＣＨ，−０＋の繰返し単位から構成されるポリオキシメ
チレン重合体からなり実質的Ｋｌ軸配向されたフィルム
またはシートに関する。
本発明のポリオキシメチレンフィルムは、その誘電率異
方性が極めて大きいという特徴により、近年％に注目さ
れている光を用いた情報処理の分野、例えば高分子光ス
ィッチ等の用途にも応用することが出来る。
方性が極めて大きいという特徴により、近年％に注目さ
れている光を用いた情報処理の分野、例えば高分子光ス
ィッチ等の用途にも応用することが出来る。
一般に１配向処理された高分子フィルムまたはシートは
その配向方向及び配向の程度に応じて、力掌的強度、複
屈折、あるいは誘電率等の各種の異方性を示すことが知
られている。そしてこれらの異方性の度合は、そのフィ
ルムまたはシートが使用される用途の目的に応じて、適
当にコントロールされて実用に供されている。
その配向方向及び配向の程度に応じて、力掌的強度、複
屈折、あるいは誘電率等の各種の異方性を示すことが知
られている。そしてこれらの異方性の度合は、そのフィ
ルムまたはシートが使用される用途の目的に応じて、適
当にコントロールされて実用に供されている。
又、これらの異方性を顕著に発現させるための直接的な
手法は、延伸等の手法により、ポリマー分子を一方向に
優先的に配向させることである。
手法は、延伸等の手法により、ポリマー分子を一方向に
優先的に配向させることである。
従って、−軸延伸された高分子フィルムまたはシートす
るいは縦強化型二軸延伸フィルム等では上記異方性が顕
著に発現する。
るいは縦強化型二軸延伸フィルム等では上記異方性が顕
著に発現する。
本発明者らは、これまであまり着目されていなかった誘
電率の異方性に着目し、各種ポリマーのフィルム及びこ
れらの延伸フィルムについて、その機械方向（以下ＭＤ
方向と略記）及びこれと直角な方向（以下ＴＤ力方向略
記）を中心に、フィルム面内の各方向の誘電率Ｃ′を測
定し、その異方性を計画した。誘電率の異方性を、各測
定方向に対する最大値ｆ’（Ｍａｘ）と最小値ε’（Ｍ
ｉｎ）の比すなわち誘電率異方性Ｄ ｔ−ｇ’ （Ｍｉ
ｘ）／ε’ （Ｍｉｎ）で示すと、従来通常のフィルム
あるいはこれらの一軸延伸フイルム及び縦強化型２軸延
伸フイルムが１．０〜１．１であったのに対し、本発明
の／ リオキシメチレンフイルムまたはシートは１．１
５以上と極めて大きな値を有していることを発見した。
電率の異方性に着目し、各種ポリマーのフィルム及びこ
れらの延伸フィルムについて、その機械方向（以下ＭＤ
方向と略記）及びこれと直角な方向（以下ＴＤ力方向略
記）を中心に、フィルム面内の各方向の誘電率Ｃ′を測
定し、その異方性を計画した。誘電率の異方性を、各測
定方向に対する最大値ｆ’（Ｍａｘ）と最小値ε’（Ｍ
ｉｎ）の比すなわち誘電率異方性Ｄ ｔ−ｇ’ （Ｍｉ
ｘ）／ε’ （Ｍｉｎ）で示すと、従来通常のフィルム
あるいはこれらの一軸延伸フイルム及び縦強化型２軸延
伸フイルムが１．０〜１．１であったのに対し、本発明
の／ リオキシメチレンフイルムまたはシートは１．１
５以上と極めて大きな値を有していることを発見した。
本発明は、主鎖の主要部が実質的にオキシメチレン基＋
ＣＨ，−０士の繰返し単位から構成されるポリオキシメ
チレン重合体からなり、Ｘ線回折法により測定された結
晶配向状態工が工≧１であり、且つ誘電率異方性りがＤ
≧１．１５であることを特徴とする実質的に１軸配向さ
れてなるポリオキシメチレンフィルムまたはシートを提
供する。
ＣＨ，−０士の繰返し単位から構成されるポリオキシメ
チレン重合体からなり、Ｘ線回折法により測定された結
晶配向状態工が工≧１であり、且つ誘電率異方性りがＤ
≧１．１５であることを特徴とする実質的に１軸配向さ
れてなるポリオキシメチレンフィルムまたはシートを提
供する。
本発明者らは、誘電率異方性りが極めて大きいポリオキ
シメチレンフィルムまたはシートについて、結晶の配向
状態をＸ線回折法により詳細に検討した結果、かかる特
性を有するフィルムまたはシートは極めて特徴的な構造
を有していることを見い出した。第１図、第２図にフィ
ルムまたはシート面に平行で且つ配向方向に直角な方向
から試料にＸ線を入射し、ポリオキシメチレン結晶の（
１００）面（２θ＝２２°〜２４°）の回折強度を方位
角方向に走査した時の強度分布を示した。第２図は通常
の１軸配向ポリオキシメチレンフイルムまたはシートに
ついて、第１図は本発明の誘電率異方性が大きいフィル
ムまたはシートについての結果である。
シメチレンフィルムまたはシートについて、結晶の配向
状態をＸ線回折法により詳細に検討した結果、かかる特
性を有するフィルムまたはシートは極めて特徴的な構造
を有していることを見い出した。第１図、第２図にフィ
ルムまたはシート面に平行で且つ配向方向に直角な方向
から試料にＸ線を入射し、ポリオキシメチレン結晶の（
１００）面（２θ＝２２°〜２４°）の回折強度を方位
角方向に走査した時の強度分布を示した。第２図は通常
の１軸配向ポリオキシメチレンフイルムまたはシートに
ついて、第１図は本発明の誘電率異方性が大きいフィル
ムまたはシートについての結果である。
両図を比較すると、第２図では、６０″と１２０゜近傍
及び小さいが３０°と１５０°近傍にピークがあるのに
対し、第１図では、これらピークに加えて９０°近傍に
特徴的なピークが出現していることが分る。上記傾向は
誘電率異方性が更に大きくなると、第３図の如く、より
顕著に発現してくる。第３図では、６０°と１２０°近
傍のピークが減少し、３０°と１５０°近傍のピークは
実質的になくなっているのに対し、９０°近傍のピーク
が大きく成長していることが分る。この場合の異方性を
前記に定義したｇ ’ （Ｍ ａ ｘ ） ／ ｇ ’
（Ｍ ｉ ｎ ）で示すと１．３以上と極めて大きな
値となる。本発明者らは、上記の結晶配向状態を定量化
し、且つそれが本発明の誘電率異方性と明確に関係づけ
られる指標として、本発明において、結晶配向指数１を
以下に定義する。
及び小さいが３０°と１５０°近傍にピークがあるのに
対し、第１図では、これらピークに加えて９０°近傍に
特徴的なピークが出現していることが分る。上記傾向は
誘電率異方性が更に大きくなると、第３図の如く、より
顕著に発現してくる。第３図では、６０°と１２０°近
傍のピークが減少し、３０°と１５０°近傍のピークは
実質的になくなっているのに対し、９０°近傍のピーク
が大きく成長していることが分る。この場合の異方性を
前記に定義したｇ ’ （Ｍ ａ ｘ ） ／ ｇ ’
（Ｍ ｉ ｎ ）で示すと１．３以上と極めて大きな
値となる。本発明者らは、上記の結晶配向状態を定量化
し、且つそれが本発明の誘電率異方性と明確に関係づけ
られる指標として、本発明において、結晶配向指数１を
以下に定義する。
第４図は、第１図〜第３図と同様の測定により得られた
Ｘ線回折強度分布である。図中すは測定に先立って求め
られた装置のノ々ツクグランドである。方位角９０°の
ピークについて、ノセックグランドよりのピーク強度Ｈ
９０を求め、次いで方位角６０’と１２０°について同
じくパックグランドよりのピーク強度Ｈ６゜＋Ｈ１ｔＯ
を求めた後両者の平均値Ｈ，＝ Ｔ （Ｈ，ｏ＋ Ｈ，
、。）を算出する。次にＩ＝Ｈ，。／Ｈａを求め、これ
を結晶配向指数Ｉと定義する。
Ｘ線回折強度分布である。図中すは測定に先立って求め
られた装置のノ々ツクグランドである。方位角９０°の
ピークについて、ノセックグランドよりのピーク強度Ｈ
９０を求め、次いで方位角６０’と１２０°について同
じくパックグランドよりのピーク強度Ｈ６゜＋Ｈ１ｔＯ
を求めた後両者の平均値Ｈ，＝ Ｔ （Ｈ，ｏ＋ Ｈ，
、。）を算出する。次にＩ＝Ｈ，。／Ｈａを求め、これ
を結晶配向指数Ｉと定義する。
本発明の誘電率異方性を有するポリオキシメチレンフィ
ルムまたはシートは上記結晶配向指数ＩがＩ≧１のｌ軸
配向ポリオキシメチレンフィルムまたはシートである。
ルムまたはシートは上記結晶配向指数ＩがＩ≧１のｌ軸
配向ポリオキシメチレンフィルムまたはシートである。
■が大きくなればそれに応じて誘電率異方性は増大する
。■の上限については、Ｈｌの値がＩ（ｔｏに対して無
視し得る程度まで小さくなると、具体的には１〉１ｏＯ
となると測定装置の違いによる）々ラツキ、測定誤差あ
るいはノイズ等により明確には定まらなくなるため、本
発明では特に上限は定めない。
。■の上限については、Ｈｌの値がＩ（ｔｏに対して無
視し得る程度まで小さくなると、具体的には１〉１ｏＯ
となると測定装置の違いによる）々ラツキ、測定誤差あ
るいはノイズ等により明確には定まらなくなるため、本
発明では特に上限は定めない。
誘電率異方性は、前記定義した如く、本発明ではＤ＝ε
’ （Ｍａｘ）／ｇ’ （Ｍｉｎ）の値を用いる。本発
明の１軸配向フイルムまたけシートは、この誘電率異方
性が１）≧１，１５であり、通常のｌ軸配向フィルムに
は見られない極めて大きな異方性を有する。
’ （Ｍａｘ）／ｇ’ （Ｍｉｎ）の値を用いる。本発
明の１軸配向フイルムまたけシートは、この誘電率異方
性が１）≧１，１５であり、通常のｌ軸配向フィルムに
は見られない極めて大きな異方性を有する。
また、この異方性の上限についても本発明では特に定め
ないが、ポリオキシメチレン重合体の！特性により、Ｄ
〉２についてはそのフィルム化またはシート状に形成す
ることが極めて難しい。
ないが、ポリオキシメチレン重合体の！特性により、Ｄ
〉２についてはそのフィルム化またはシート状に形成す
ることが極めて難しい。
本発明のポリオキシメチレンフィルムまたはシーｌが上
記特性を）、′Ｉｉ著に発現する理由は、−まだ明確で
はないが、？リオキシメチレンの特殊な分子構造及びこ
れに基づく高い結晶性能に起因すると考えられる。
記特性を）、′Ｉｉ著に発現する理由は、−まだ明確で
はないが、？リオキシメチレンの特殊な分子構造及びこ
れに基づく高い結晶性能に起因すると考えられる。
本発明のポリオキシメチレン重合体としては、比較的高
分子量、例えば数平均分子量が１０．０００以上のもの
ないし１００，０００以上のものが好ましい。また本発
明の４リオキシメチレン重合体としてはポリオキシメチ
レンのアセタール化物、又はそのインシアネートとの反
応物、或いは第３成分を共重合した共重合物の如きもの
であって、その主鎖の主要部が実質的にオキシメチレン
基＋Ｈ，−０＋の繰返し単位から構成されたＩリオキシ
メチレン共重合体も用い得る。
分子量、例えば数平均分子量が１０．０００以上のもの
ないし１００，０００以上のものが好ましい。また本発
明の４リオキシメチレン重合体としてはポリオキシメチ
レンのアセタール化物、又はそのインシアネートとの反
応物、或いは第３成分を共重合した共重合物の如きもの
であって、その主鎖の主要部が実質的にオキシメチレン
基＋Ｈ，−０＋の繰返し単位から構成されたＩリオキシ
メチレン共重合体も用い得る。
本発明においてｌ軸配向フィルム又はシートとは、その
製造方法によっては、主配向方向と直角な方向にも多少
配向している場合も含む。すなわちフィルム又はシート
が本発明の構造を有し実質的に１軸配向とみなされる場
合も含むものとする。
製造方法によっては、主配向方向と直角な方向にも多少
配向している場合も含む。すなわちフィルム又はシート
が本発明の構造を有し実質的に１軸配向とみなされる場
合も含むものとする。
次に、Ｘ線回折法による結晶配向指数の測定法について
述べる。各試料に対して、その配向方向をそろえて厚み
２ｍ、幅１ｍ、長さ１０■の短冊状成形物を作成した。
述べる。各試料に対して、その配向方向をそろえて厚み
２ｍ、幅１ｍ、長さ１０■の短冊状成形物を作成した。
成形時の各フィルムの固定はシアノアクリレート系接着
剤を用い九。次いでこの成形物を高滓製作所製ユニバー
サル試料台（回転試料台）に、フィルム面に平行で且つ
配向方向に直角な方向からＸ線が入射出来る様に取付け
た。ＸｆＪ１発生装置は高滓製作新製ＸＤ−３Ａ型を用
い、Ｃｕ−Ｋａ線をＸ線源とした。ザニオメータは同じ
く高滓製作所ｇＶＧ−１０８Ｒ型を用い、これを上記回
転試料台に取付けた。次いで回折角をポリオキクメチレ
ンの（ｔｏｏ）面（２θ＝２２°〜２４°）にセットし
、Ｘ＋ＩＩを入射すると共に、回転試料台を回転し、（
１００）面の回折強度を方位角方向に走査した。この時
得られた結果が第１図〜第４図であり、前記手法により
結晶配向指数Ｉを求めた。
剤を用い九。次いでこの成形物を高滓製作所製ユニバー
サル試料台（回転試料台）に、フィルム面に平行で且つ
配向方向に直角な方向からＸ線が入射出来る様に取付け
た。ＸｆＪ１発生装置は高滓製作新製ＸＤ−３Ａ型を用
い、Ｃｕ−Ｋａ線をＸ線源とした。ザニオメータは同じ
く高滓製作所ｇＶＧ−１０８Ｒ型を用い、これを上記回
転試料台に取付けた。次いで回折角をポリオキクメチレ
ンの（ｔｏｏ）面（２θ＝２２°〜２４°）にセットし
、Ｘ＋ＩＩを入射すると共に、回転試料台を回転し、（
１００）面の回折強度を方位角方向に走査した。この時
得られた結果が第１図〜第４図であり、前記手法により
結晶配向指数Ｉを求めた。
誘電率異方性は、神崎製紙（株）製「マイクロ波分子配
向計」Ｋより測定された。本装置は、一定の周波数（１
４〜４．２ Ｇ Ｈｚ ）のマイクロ波偏波を導波管開
口部間隙にセットされた試料にあて、試料中の高分子動
電を構成する双極子とマイクロ波との相互作用を測定す
ることＫより誘電率ε′が測距出来る装置であり、フィ
ルムまたはシートの各軸方向についてこれを測定するこ
とにより、各試料の誘電率異方性を求めることが出来る
。測定に用いた試料は１００ｍｍＸ１００晴、厚さ１０
０〜７００μ、各方向での測定時間は約３０秒であった
。
向計」Ｋより測定された。本装置は、一定の周波数（１
４〜４．２ Ｇ Ｈｚ ）のマイクロ波偏波を導波管開
口部間隙にセットされた試料にあて、試料中の高分子動
電を構成する双極子とマイクロ波との相互作用を測定す
ることＫより誘電率ε′が測距出来る装置であり、フィ
ルムまたはシートの各軸方向についてこれを測定するこ
とにより、各試料の誘電率異方性を求めることが出来る
。測定に用いた試料は１００ｍｍＸ１００晴、厚さ１０
０〜７００μ、各方向での測定時間は約３０秒であった
。
次に本発明のポリオキシメチレンフィルムまたはシート
の具体的な製造について以下に例示する。
の具体的な製造について以下に例示する。
先ず、通常の手段、例えば溶融加圧又は溶融押出した後
急冷することにより該重合体のシート又はフィルムの原
反（以下「原反」と称する）を形成する。
急冷することにより該重合体のシート又はフィルムの原
反（以下「原反」と称する）を形成する。
次いで、この原反を圧延、延伸あるいは圧延と延伸との
併用等の手段により、１軸方向に伸長し本発明の１軸配
向フイルムまたはシートを形成する。本発明のフィルム
又はシートを製造する場合、圧延、延伸あるいは圧延と
延伸との併用のいずれの手段を用いてもよいが、安定に
且つ効率よく製造出来、更に得られたフィルムまたはシ
ートの透明性及び機械的物性が優れているという点で圧
延による方法が好ましい。即ち、原反を一対の圧延ロー
ルからなる圧延機により一軸方向に圧延伸長を行う。こ
の時の伸長倍率は原反に対して少なくとも１５倍以上で
ある。より好ましくは３倍以上である。この時の圧延温
度は１５倍以上の高倍圧延を安定に且つ効率よく行うた
めに特に重要である。
併用等の手段により、１軸方向に伸長し本発明の１軸配
向フイルムまたはシートを形成する。本発明のフィルム
又はシートを製造する場合、圧延、延伸あるいは圧延と
延伸との併用のいずれの手段を用いてもよいが、安定に
且つ効率よく製造出来、更に得られたフィルムまたはシ
ートの透明性及び機械的物性が優れているという点で圧
延による方法が好ましい。即ち、原反を一対の圧延ロー
ルからなる圧延機により一軸方向に圧延伸長を行う。こ
の時の伸長倍率は原反に対して少なくとも１５倍以上で
ある。より好ましくは３倍以上である。この時の圧延温
度は１５倍以上の高倍圧延を安定に且つ効率よく行うた
めに特に重要である。
その温度は圧延ロールの表面温度で室温以上１７０℃以
下である。室温以下では、圧延効率が極めて悪くなり、
１５倍以上の高倍圧延を安定に行うのに難がある。又１
７０℃を超えると、試料の部分的溶融が起り溶融破断の
原因になる。好ましくは、ロール表面温度が８０°〜１
６５°でありより好ましくは１２０〜１６０℃である。
下である。室温以下では、圧延効率が極めて悪くなり、
１５倍以上の高倍圧延を安定に行うのに難がある。又１
７０℃を超えると、試料の部分的溶融が起り溶融破断の
原因になる。好ましくは、ロール表面温度が８０°〜１
６５°でありより好ましくは１２０〜１６０℃である。
この時より安定に、効率よく圧延伸長を行うことが出来
る。又、圧延時のポリマー分子のスプリングノ々ツクに
よる配向緩和を抑制するために１圧延ロールの前後に繰
出しロール及び引取ロール等を備えて、張力下に行うと
より効率よく圧延を行うことが出来る。又、原反が厚い
場合、予め他の手段により原反を予熱しておいても良い
。１回の圧延で、目標の伸長倍率に達しない場合は複数
回の圧延を施すことが出来る。
る。又、圧延時のポリマー分子のスプリングノ々ツクに
よる配向緩和を抑制するために１圧延ロールの前後に繰
出しロール及び引取ロール等を備えて、張力下に行うと
より効率よく圧延を行うことが出来る。又、原反が厚い
場合、予め他の手段により原反を予熱しておいても良い
。１回の圧延で、目標の伸長倍率に達しない場合は複数
回の圧延を施すことが出来る。
又、圧延速度は、圧延温度、伸長倍率、原反の寸法及び
圧下刃等の圧延機の能力等により適当に選ばれる。
圧下刃等の圧延機の能力等により適当に選ばれる。
圧延条件が同一の場合、誘電率異方性は圧延倍率が大き
くなると共に大きくなるが、その値は圧延倍率によって
一義的に決まるものではない。即ち圧延時の条件（温度
、速度、圧下刃、張力等）Ｋよりポリマー分子の配向の
度合が異なるため、同一圧延倍率でも誘電率異方性が異
なる場合が生じる。従って出来るだけ低い圧延倍率で、
大きな誘電率異方性を発現させるように圧延条件が選ば
れることが好ましい。
くなると共に大きくなるが、その値は圧延倍率によって
一義的に決まるものではない。即ち圧延時の条件（温度
、速度、圧下刃、張力等）Ｋよりポリマー分子の配向の
度合が異なるため、同一圧延倍率でも誘電率異方性が異
なる場合が生じる。従って出来るだけ低い圧延倍率で、
大きな誘電率異方性を発現させるように圧延条件が選ば
れることが好ましい。
以上本発明のフィルムまたはシートに関する製造方法の
１例について述べたが、本発明はこの方法に限定される
ものではなく、本発明の構造を有する１軸配向ポリオキ
シメチレンフイルムまたはシートは全て本発明に含ま扛
る。
１例について述べたが、本発明はこの方法に限定される
ものではなく、本発明の構造を有する１軸配向ポリオキ
シメチレンフイルムまたはシートは全て本発明に含ま扛
る。
〔実施例〕
以下に実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、
不発明はこれら実施例に限定されるものではない。
不発明はこれら実施例に限定されるものではない。
（実施例）
数平均分子量が約６３，０００のベレット状ポリオキシ
メチレンホモポリマーを２０θ℃の温度でスリットダイ
から押出し、１２０℃に加熱したキャスティングロール
で急冷し、厚さ７００μ、幅１５０■の原反シートを得
た。
メチレンホモポリマーを２０θ℃の温度でスリットダイ
から押出し、１２０℃に加熱したキャスティングロール
で急冷し、厚さ７００μ、幅１５０■の原反シートを得
た。
次に、この原反を第５図に示した圧延機により圧延する
ことにより、ＭＤ力方向、１軸配向したポリオキシメチ
レンシートを得た。第５図において、Ａｔ１ｉロール径
１８０■の金属ロール１とゴムロール２からなる繰出し
ロール部であり、Ｂはロール径５０＋ａ＊、ロール幅４
００−のワークロール３とロール径１０（１ｍ＋、ロー
ル幅４０（１ｍの〕々ツクアップロール４からなる４段
圧延機であり、各ロールは熱媒による温度調節が可能な
構造圧なっている。Ｃはロール径１８０■の金属ロール
５とゴムロール６からなる引取りロール部である。
ことにより、ＭＤ力方向、１軸配向したポリオキシメチ
レンシートを得た。第５図において、Ａｔ１ｉロール径
１８０■の金属ロール１とゴムロール２からなる繰出し
ロール部であり、Ｂはロール径５０＋ａ＊、ロール幅４
００−のワークロール３とロール径１０（１ｍ＋、ロー
ル幅４０（１ｍの〕々ツクアップロール４からなる４段
圧延機であり、各ロールは熱媒による温度調節が可能な
構造圧なっている。Ｃはロール径１８０■の金属ロール
５とゴムロール６からなる引取りロール部である。
圧延性、同一原反について、圧延倍率が１．５゜１０、
２．５．３．０．４０．５．０．６．０．７．０の８通
りについてなされた。各々の圧延ロールの表面温度、圧
延回数、及び繰出し速度は第１表の如くであった。
２．５．３．０．４０．５．０．６．０．７．０の８通
りについてなされた。各々の圧延ロールの表面温度、圧
延回数、及び繰出し速度は第１表の如くであった。
この圧延によって得られたシートについて、Ｘ線回折法
による結晶配向指数Ｉ及び誘電率異方性りを測定した。
による結晶配向指数Ｉ及び誘電率異方性りを測定した。
圧延による１軸配向シートの場合、ＭＤ力方向配向とな
るため、結晶配向指数Ｉは該シートのエツジ方向からＸ
線を入射することＫより測定される。また誘電率異方性
は、ＭＤ力方向誘電率がε’（Ｍａｘ）であり、ＴＤ力
方向ｇ’ （Ｍｉｎ）となる丸め、ＭＤ力方向ＴＤ力方
向誘電率の比で表わすことが出来る。結果を第１表に示
した。この結果から、圧延倍率が２５倍以上では、！≧
１であり、この時、Ｄ≧１．１５となり本発明のシート
が極めて大きな誘電率異方性を示すことが分る。
るため、結晶配向指数Ｉは該シートのエツジ方向からＸ
線を入射することＫより測定される。また誘電率異方性
は、ＭＤ力方向誘電率がε’（Ｍａｘ）であり、ＴＤ力
方向ｇ’ （Ｍｉｎ）となる丸め、ＭＤ力方向ＴＤ力方
向誘電率の比で表わすことが出来る。結果を第１表に示
した。この結果から、圧延倍率が２５倍以上では、！≧
１であり、この時、Ｄ≧１．１５となり本発明のシート
が極めて大きな誘電率異方性を示すことが分る。
（以下余白）
第１．３．４図は本発明のフィルム又はシートのＸ線回
折強度分布図であり１第２図は従来品のそれを示す。 第５図は本発明のフィルム又はシートの製造のための圧
延機の説明図である。 特許出願人 旭化成工業株式会社 第１図 方Ａ立角 （皮） 第２ｒＩＪ 方ａ角 傭） 第３図 方Ａ立角 （虐） 第４図 方イ立角 （／ｌ） 第５図
折強度分布図であり１第２図は従来品のそれを示す。 第５図は本発明のフィルム又はシートの製造のための圧
延機の説明図である。 特許出願人 旭化成工業株式会社 第１図 方Ａ立角 （皮） 第２ｒＩＪ 方ａ角 傭） 第３図 方Ａ立角 （虐） 第４図 方イ立角 （／ｌ） 第５図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 主鎖の主要部が実質的にオキシメチレン基−（ＣＨ＿
２−Ｏ）−の繰返し単位から構成されるポリオキシメチ
レン重合体からなり、Ｘ線回折法により測定された結晶
配向指数ＩがＩ≧１であり、 且つ誘電率異方性ＤがＤ≧１．１５ であることを特徴とする実質的に１軸配向されてなるポ
リオキシメチレンフィルムまたはシート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61181908A JPS6337921A (ja) | 1985-07-11 | 1986-08-04 | ポリオキシメチレンフイルム |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60151349A JPS6213318A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | ２軸延伸ポリオキシメチレンフイルムの製造方法 |
| JP61181908A JPS6337921A (ja) | 1985-07-11 | 1986-08-04 | ポリオキシメチレンフイルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6337921A true JPS6337921A (ja) | 1988-02-18 |
Family
ID=15516617
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60151349A Granted JPS6213318A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | ２軸延伸ポリオキシメチレンフイルムの製造方法 |
| JP61181908A Pending JPS6337921A (ja) | 1985-07-11 | 1986-08-04 | ポリオキシメチレンフイルム |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60151349A Granted JPS6213318A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | ２軸延伸ポリオキシメチレンフイルムの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4835245A (ja) |
| EP (1) | EP0265553B1 (ja) |
| JP (2) | JPS6213318A (ja) |
| DE (1) | DE3688678T2 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6213318A (ja) * | 1985-07-11 | 1987-01-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ２軸延伸ポリオキシメチレンフイルムの製造方法 |
| DE3703790A1 (de) * | 1987-02-07 | 1988-08-18 | Hoechst Ag | Kontinuierliches verfahren zur entfernung instabiler anteile aus rohem oxymethylencopolymerisat |
| US4946930A (en) * | 1987-07-21 | 1990-08-07 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Biaxially oriented polyoxymethylene film |
| JP2598318B2 (ja) * | 1989-02-21 | 1997-04-09 | 日本化薬株式会社 | 粒状爆薬組成物 |
| JP2598319B2 (ja) * | 1989-03-02 | 1997-04-09 | 日本化薬株式会社 | 粒状爆薬組成物 |
| JP2668578B2 (ja) * | 1989-04-10 | 1997-10-27 | 日本化薬株式会社 | 加圧成型爆薬 |
| US6179939B1 (en) | 1997-05-12 | 2001-01-30 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Methods of making stretched filled microporous films |
| TW588345B (en) * | 2001-09-28 | 2004-05-21 | Sony Corp | Optical recording medium and its manufacturing method |
| US7087682B2 (en) * | 2003-05-02 | 2006-08-08 | General Electric | Polymeric blends for optical devices and method of manufacture thereof |
| US20060141887A1 (en) * | 2004-12-23 | 2006-06-29 | Morman Michael T | Cross-direction elastic film laminates, and methods of making same |
| US8580174B2 (en) * | 2006-12-29 | 2013-11-12 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Method for texturing polymeric films and articles comprising the same |
| CN103180122B (zh) * | 2010-11-26 | 2015-07-15 | 株式会社钟化 | 拉伸膜及拉伸膜的制造方法 |
| CN106738751A (zh) * | 2017-03-07 | 2017-05-31 | 中国科学技术大学 | 一种与x射线散射联用进行原位结构检测的吹塑薄膜装置及其实验方法 |
| CN107722550B (zh) * | 2017-10-24 | 2019-07-16 | 唐山开滦化工科技有限公司 | 一种聚甲醛薄膜及其制备方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE559799A (ja) * | 1956-08-02 | |||
| US2936492A (en) * | 1956-10-04 | 1960-05-17 | Du Pont | Method of casting crystalline polymer film |
| US3875284A (en) * | 1972-09-25 | 1975-04-01 | Asahi Chemical Ind | Process for preparing clear polyoxymethylene film |
| DE2538954A1 (de) * | 1975-09-02 | 1977-03-10 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von oxymethylenpolymeren |
| US4307049A (en) * | 1980-02-01 | 1981-12-22 | Maryland Cup Corporation | Method for the continuous formation of biaxially oriented thermoplastic materials and forming articles therefrom by intermittent forming means interfaced therewith |
| JPS6213318A (ja) * | 1985-07-11 | 1987-01-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ２軸延伸ポリオキシメチレンフイルムの製造方法 |
-
1985
- 1985-07-11 JP JP60151349A patent/JPS6213318A/ja active Granted
-
1986
- 1986-08-04 JP JP61181908A patent/JPS6337921A/ja active Pending
- 1986-10-31 US US06/925,606 patent/US4835245A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-10-31 EP EP86115139A patent/EP0265553B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-10-31 DE DE86115139T patent/DE3688678T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-03-20 US US07/326,063 patent/US4962001A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0265553A1 (en) | 1988-05-04 |
| DE3688678T2 (de) | 1994-02-24 |
| JPH0331331B2 (ja) | 1991-05-02 |
| US4835245A (en) | 1989-05-30 |
| JPS6213318A (ja) | 1987-01-22 |
| EP0265553B1 (en) | 1993-07-07 |
| DE3688678D1 (en) | 1993-08-12 |
| US4962001A (en) | 1990-10-09 |
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