JPS6338434B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6338434B2 JPS6338434B2 JP59225477A JP22547784A JPS6338434B2 JP S6338434 B2 JPS6338434 B2 JP S6338434B2 JP 59225477 A JP59225477 A JP 59225477A JP 22547784 A JP22547784 A JP 22547784A JP S6338434 B2 JPS6338434 B2 JP S6338434B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- electrode
- liquid
- metal ions
- deposited
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/34—Treatment of water, waste water, or sewage with mechanical oscillations
- C02F1/36—Treatment of water, waste water, or sewage with mechanical oscillations ultrasonic vibrations
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
- C02F1/46109—Electrodes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/467—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction
- C02F1/4676—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction by electroreduction
- C02F1/4678—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction by electroreduction of metals
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
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- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、廃液中に含まれる金属イオンを金属
粉体として回収する金属回収装置に関する。 〔従来技術およびその問題点〕 従来、工場等から排出される廃液又は、廃水は
その内に含まれる金属イオンを中和し、沈澱さ
せ、濾過後、スラツジを形成し、この金属を含む
スラツジは、埋立又は海洋投棄されるだけで、再
利用等の有効利用されていない。 また、上記方法による処理は、処理場として大
きな設置場所が必要なうえ、多額の薬品代を必要
とする欠点がある。 この欠点を改良した回収装置として本発明者等
は、特願昭58―184864号（特開昭60―77937号）
で出願しており、この回収装置は、廃液中の金属
イオンをキレート剤によつて濃縮し、この濃縮さ
れた金属イオンを脱離液で脱離させて金属イオン
の高濃度液を生成する濃縮手段と、電極および絶
縁ビーズを収納し、前記高濃度液を電解して、前
記電極面に金属を析出させる電解槽とからなり、
前記絶縁ビーズを撹拌しながら金属を回収する装
置である。 この装置は、金属イオンをスラツジとして回収
する装置と比較して、はるかに小さい装置で効率
よく高純度の金属を安価に回収できる利点があつ
た。 上記装置により回収される金属は高純度ではあ
るが、回収される状態が、電極に密着したまま
で、しかも板状等の固体で回収されるため、再利
用の際、手間や費用がかかる欠点があつた。ま
た、前記の状態で回収されるため回収毎に新しい
電極を用意しなければならなかつた。さらに、金
属を回収する時、絶縁ビーズを撹拌しながら行な
うので、電極に絶縁ビーズが付着するおそれがあ
つた。 〔解決しようとする問題点〕 特願昭58―184864号に示した金属回収装置にお
いて高濃度液から電解により回収する金属を電極
上に付着することなく、しかも粉体の状態で回収
する金属回収装置を得ることである。 〔問題点を解決するための手段〕 廃液中の金属イオンをキレート剤によつて濃縮
し、この濃縮された金属イオンを脱離液で脱離さ
せて金属イオンの高濃度液を生成するキレート塔
を有する濃縮部から導いた高濃度液を電解する電
解槽からなり、該電解槽が下部から金属を回収す
る構造の槽内に陰極または陽極のいずれかで円筒
状の内電極と該内電極の周囲に逆の極からなる外
電極を設け、金属が析出する電解の表面に接触す
るか近接した状態に回収板を設け、かつ金属の析
出する電極表面に超音波を照射できる位置に超音
波発振器を配置し、前記金属が析出する電極と該
電極の金属析出面に接する回収板の少なくとも一
方が回転する金属回収装置である。 〔作 用〕 金属が析出する電極の析出面に超音波発振器か
ら発せられた超音波が照射されるので、金属は電
極は付着せず、粉体または粒体の状態で回収でき
る。 また、金属が析出する電極と該電極の金属析出
面に接するように設けた回収板の少なくとも一方
が回転可能に設けたので、電極付近に析出する金
属を電極に付着させることなく回収できる。 〔実施例〕 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明
する。 第１図は、本発明の金属回収装置を利用して工
場廃水を処理する工程を示すフローチヤートであ
る。 図中１は廃水貯槽を示し、ここから金属イオン
を含有する廃水はPH調整槽２へ送られ、ここで金
属イオンへ後述するキレート剤に選択吸着させる
のに好ましいPH値に硫酸又は水酸化ナトリウム等
を用いて調整する。PH調整された廃水は濾過塔３
へ送られ、ここで浮遊物質が除去された後、キレ
ート塔４へ送られる。キレート塔４において、廃
水中の金属イオンは、キレートに吸着、濃縮され
る。 金属イオンを除去された廃水は、PH調整槽５へ
送られ、ここで排水基準のPH値（PH＝７前後）に
調整された後放流される。キレート塔４内のキレ
ート剤に吸着された金属イオンは、脱離液槽８か
ら供給された脱離液に接触して脱離し、金属液イ
オン含有液を生成する。例えば回収すべき金属が
Cu、Niの場合には、H2SO4等が脱離液として利
用され、したがつてCuSO4、NiSO4が生成する。 キレート塔４において、脱離開始時と終了時に
金属イオン濃度の薄い液が生成するが、この薄い
液は脱離廃液槽７へ送られて貯蔵され、さらにこ
こから再濃縮のために廃水貯槽１へ送られる。脱
離開始時と脱離終了時の間の一定時間内において
金属イオン濃度の濃い液が生成するが、この高濃
度液は回収液槽６へ送られて貯蔵される。なお、
キレート塔４は処理すべき廃水の量が多い場合や
安全性を考慮して、通常２塔設置され、一方のキ
レート塔で脱離が実施されている間に、他方のキ
レート塔で吸着が続行される。 キレート塔４に用いられるキレート樹脂は、所
望の金属を選択的に吸着するものを用いるのが、
本発明により回収される金属の純度が上昇するの
で都合が良い。例えば、下記の表は、選択的に吸
着した金属イオンに対応するキレート樹脂（商品
名）のほんの一例を示す。
粉体として回収する金属回収装置に関する。 〔従来技術およびその問題点〕 従来、工場等から排出される廃液又は、廃水は
その内に含まれる金属イオンを中和し、沈澱さ
せ、濾過後、スラツジを形成し、この金属を含む
スラツジは、埋立又は海洋投棄されるだけで、再
利用等の有効利用されていない。 また、上記方法による処理は、処理場として大
きな設置場所が必要なうえ、多額の薬品代を必要
とする欠点がある。 この欠点を改良した回収装置として本発明者等
は、特願昭58―184864号（特開昭60―77937号）
で出願しており、この回収装置は、廃液中の金属
イオンをキレート剤によつて濃縮し、この濃縮さ
れた金属イオンを脱離液で脱離させて金属イオン
の高濃度液を生成する濃縮手段と、電極および絶
縁ビーズを収納し、前記高濃度液を電解して、前
記電極面に金属を析出させる電解槽とからなり、
前記絶縁ビーズを撹拌しながら金属を回収する装
置である。 この装置は、金属イオンをスラツジとして回収
する装置と比較して、はるかに小さい装置で効率
よく高純度の金属を安価に回収できる利点があつ
た。 上記装置により回収される金属は高純度ではあ
るが、回収される状態が、電極に密着したまま
で、しかも板状等の固体で回収されるため、再利
用の際、手間や費用がかかる欠点があつた。ま
た、前記の状態で回収されるため回収毎に新しい
電極を用意しなければならなかつた。さらに、金
属を回収する時、絶縁ビーズを撹拌しながら行な
うので、電極に絶縁ビーズが付着するおそれがあ
つた。 〔解決しようとする問題点〕 特願昭58―184864号に示した金属回収装置にお
いて高濃度液から電解により回収する金属を電極
上に付着することなく、しかも粉体の状態で回収
する金属回収装置を得ることである。 〔問題点を解決するための手段〕 廃液中の金属イオンをキレート剤によつて濃縮
し、この濃縮された金属イオンを脱離液で脱離さ
せて金属イオンの高濃度液を生成するキレート塔
を有する濃縮部から導いた高濃度液を電解する電
解槽からなり、該電解槽が下部から金属を回収す
る構造の槽内に陰極または陽極のいずれかで円筒
状の内電極と該内電極の周囲に逆の極からなる外
電極を設け、金属が析出する電解の表面に接触す
るか近接した状態に回収板を設け、かつ金属の析
出する電極表面に超音波を照射できる位置に超音
波発振器を配置し、前記金属が析出する電極と該
電極の金属析出面に接する回収板の少なくとも一
方が回転する金属回収装置である。 〔作 用〕 金属が析出する電極の析出面に超音波発振器か
ら発せられた超音波が照射されるので、金属は電
極は付着せず、粉体または粒体の状態で回収でき
る。 また、金属が析出する電極と該電極の金属析出
面に接するように設けた回収板の少なくとも一方
が回転可能に設けたので、電極付近に析出する金
属を電極に付着させることなく回収できる。 〔実施例〕 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明
する。 第１図は、本発明の金属回収装置を利用して工
場廃水を処理する工程を示すフローチヤートであ
る。 図中１は廃水貯槽を示し、ここから金属イオン
を含有する廃水はPH調整槽２へ送られ、ここで金
属イオンへ後述するキレート剤に選択吸着させる
のに好ましいPH値に硫酸又は水酸化ナトリウム等
を用いて調整する。PH調整された廃水は濾過塔３
へ送られ、ここで浮遊物質が除去された後、キレ
ート塔４へ送られる。キレート塔４において、廃
水中の金属イオンは、キレートに吸着、濃縮され
る。 金属イオンを除去された廃水は、PH調整槽５へ
送られ、ここで排水基準のPH値（PH＝７前後）に
調整された後放流される。キレート塔４内のキレ
ート剤に吸着された金属イオンは、脱離液槽８か
ら供給された脱離液に接触して脱離し、金属液イ
オン含有液を生成する。例えば回収すべき金属が
Cu、Niの場合には、H2SO4等が脱離液として利
用され、したがつてCuSO4、NiSO4が生成する。 キレート塔４において、脱離開始時と終了時に
金属イオン濃度の薄い液が生成するが、この薄い
液は脱離廃液槽７へ送られて貯蔵され、さらにこ
こから再濃縮のために廃水貯槽１へ送られる。脱
離開始時と脱離終了時の間の一定時間内において
金属イオン濃度の濃い液が生成するが、この高濃
度液は回収液槽６へ送られて貯蔵される。なお、
キレート塔４は処理すべき廃水の量が多い場合や
安全性を考慮して、通常２塔設置され、一方のキ
レート塔で脱離が実施されている間に、他方のキ
レート塔で吸着が続行される。 キレート塔４に用いられるキレート樹脂は、所
望の金属を選択的に吸着するものを用いるのが、
本発明により回収される金属の純度が上昇するの
で都合が良い。例えば、下記の表は、選択的に吸
着した金属イオンに対応するキレート樹脂（商品
名）のほんの一例を示す。
本発明の装置は、以上の構成からなるので、従
来のスラツジとして回収処理装置に比べて、本発
明は、はるかに小さい装置で、かつ低電圧低電流
で効率よく高純度（99.5％以上）の金属粉を安価
に回収できる。 また、回収される金属が、粉体または粒体で回
収できるので、再利用のとき、そのまま使用でき
従来のように再使用における分離等の煩雑な作業
を必要としない。 さらに、超音波の周波数を変えることにより、
回収する金属粉の粒径を変えることができ、所望
の金属粉を廃液から容易に得ることができる。
来のスラツジとして回収処理装置に比べて、本発
明は、はるかに小さい装置で、かつ低電圧低電流
で効率よく高純度（99.5％以上）の金属粉を安価
に回収できる。 また、回収される金属が、粉体または粒体で回
収できるので、再利用のとき、そのまま使用でき
従来のように再使用における分離等の煩雑な作業
を必要としない。 さらに、超音波の周波数を変えることにより、
回収する金属粉の粒径を変えることができ、所望
の金属粉を廃液から容易に得ることができる。
第１図は、本発明の金属回収装置の一実施例を
廃水処理工程の中で説明するフローチヤート、第
２図は、本発明の装置の電解槽を示す説明図、第
３図は第２図の電極の配置例を示す説明図、第４
図は、他の電解槽の配置例を示す説明図、第５図
は、本発明の装置による銅の回収状態を示すグラ
フである。 ４……キレート塔、６……回収液槽、８……脱
離液槽、９……循環槽、１０……電解槽、１１…
…槽、１３……陰極、１４……回収板、１５……
陽極、１６……超音波発振器。
廃水処理工程の中で説明するフローチヤート、第
２図は、本発明の装置の電解槽を示す説明図、第
３図は第２図の電極の配置例を示す説明図、第４
図は、他の電解槽の配置例を示す説明図、第５図
は、本発明の装置による銅の回収状態を示すグラ
フである。 ４……キレート塔、６……回収液槽、８……脱
離液槽、９……循環槽、１０……電解槽、１１…
…槽、１３……陰極、１４……回収板、１５……
陽極、１６……超音波発振器。
Claims (1)
- １ 廃液中の金属イオンをキレート剤によつて濃
縮し、この濃縮された金属イオンを脱離液で脱離
させて金属イオンの高濃度液を生成するキレート
塔を有する濃縮部と、高濃度液を電解する電解槽
からなり、該電解槽が槽内に陰極または陽極のい
ずれかで円筒状の内電極と該内電極の周囲に逆の
極からなる外電極を設け、金属が析出する電極の
表面に接触または近接した状態に回収板を設け、
かつ金属の析出する電極表面に超音波を照射でき
る位置に超音波発振器を配置し、前記金属が析出
する電極と該電極表面に接する回収板の少なくと
も一方が回転する金属回収装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59225477A JPS61104096A (ja) | 1984-10-26 | 1984-10-26 | 金属回収装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59225477A JPS61104096A (ja) | 1984-10-26 | 1984-10-26 | 金属回収装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61104096A JPS61104096A (ja) | 1986-05-22 |
| JPS6338434B2 true JPS6338434B2 (ja) | 1988-07-29 |
Family
ID=16829928
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59225477A Granted JPS61104096A (ja) | 1984-10-26 | 1984-10-26 | 金属回収装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61104096A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01195291A (ja) * | 1988-01-29 | 1989-08-07 | Nec Corp | 回収装置 |
| JPH01234586A (ja) * | 1988-03-14 | 1989-09-19 | Nittetsu Kakoki Kk | 金属の分離方法 |
| WO2001051685A2 (en) * | 2000-01-10 | 2001-07-19 | Michael John Sole | Removal of metals from solution |
| JP4699105B2 (ja) | 2005-06-24 | 2011-06-08 | アサヒプリテック株式会社 | 金の回収方法および装置 |
| JP5485239B2 (ja) * | 2010-09-17 | 2014-05-07 | 古河電気工業株式会社 | 銅微粒子の製造方法 |
| CN105329990B (zh) * | 2015-10-28 | 2017-06-23 | 中海油天津化工研究设计院有限公司 | 一种超声波强化电催化氧化处理反渗透浓水的装置及方法 |
| JP7007620B1 (ja) * | 2020-08-25 | 2022-01-24 | 株式会社ジージェーブイ | 金属イオン水製造装置及び金属イオン水の製造方法 |
| JP7601893B2 (ja) | 2020-10-21 | 2024-12-17 | アサヒプリテック株式会社 | 金属回収装置の状態監視システム |
| JP7806987B2 (ja) * | 2022-02-15 | 2026-01-27 | 国立大学法人 名古屋工業大学 | 粒子回収方法及び粒子回収装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5510614B2 (ja) * | 1972-05-26 | 1980-03-18 | ||
| JPS4941241A (ja) * | 1972-08-28 | 1974-04-18 | ||
| DE3270833D1 (en) * | 1981-02-13 | 1986-06-05 | Nat Res Dev | Electrodeposition cell |
-
1984
- 1984-10-26 JP JP59225477A patent/JPS61104096A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61104096A (ja) | 1986-05-22 |
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