JPS6340363A - random access memory - Google Patents
random access memoryInfo
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- JPS6340363A JPS6340363A JP61184416A JP18441686A JPS6340363A JP S6340363 A JPS6340363 A JP S6340363A JP 61184416 A JP61184416 A JP 61184416A JP 18441686 A JP18441686 A JP 18441686A JP S6340363 A JPS6340363 A JP S6340363A
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B12/00—Dynamic random access memory [DRAM] devices
- H10B12/30—DRAM devices comprising one-transistor - one-capacitor [1T-1C] memory cells
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- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Abstract] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明はランダムアクセスメモリに関し、特に、折返
しビット線を構成する相補の第1および第2のビット線
対を含むようなM O3ランダムアクセスメモリに関す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a random access memory, and more particularly to an M03 random access memory including a pair of complementary first and second bit lines forming a folded bit line. Regarding.
[従来の技術]
第4図は従来の折返しビット線構成のダイナミックMO
8−RAMにおけるメモリセル部の平面図である。[Prior art] Figure 4 shows a dynamic MO with a conventional folded bit line configuration.
FIG. 8 is a plan view of a memory cell section in 8-RAM.
第4図において、ビットtfA1は第1のアルミ配線層
からなり、平行に複数設けられる。これらのピット11
に対して交差するように第2のポリシリコン層からなる
ワード線3が形成されている。In FIG. 4, a plurality of bits tfA1 are formed of a first aluminum wiring layer and are provided in parallel. These pits 11
A word line 3 made of a second polysilicon layer is formed so as to intersect with the second polysilicon layer.
ビット線1とワード線3の交点の近傍には、第1のポリ
シリコン層からなるメモリキャパシタを構成するセルプ
レート2が形成されており、さらに、メモリセルの活性
領域に対応し、その周囲がフィールド酸化膜で覆われた
領域4が形成されている。A cell plate 2 constituting a memory capacitor made of a first polysilicon layer is formed near the intersection of the bit line 1 and the word line 3. A region 4 covered with a field oxide film is formed.
なお、領域4はコンタクト5によってビット線1に接続
されている。Note that region 4 is connected to bit line 1 through contact 5.
上述のごとく構成された従来のダイナミックMO8−R
AMでは、ワード$113を介してアクセスされると、
メモリセル内の情報がビット線1に読出される。Conventional dynamic MO8-R configured as described above
In AM, when accessed via word $113,
Information in the memory cell is read onto bit line 1.
〔発明が解決しようとする問題点]
ところで、上述の第1図に示したダイナミックMO8−
RAMは、ビットl111上に読出された電位差は、ビ
ット線1の容量をCaとし、メモリセルの容量をC5と
すると、C=/CBになってしまい、非常に小さな値と
なっている。このために、高感度のセンスアンプを用い
て、続出電荷を検出する必要があった。しかし、高集積
化が進むにっれて、ビット11の容jl Caは隣接す
るビット線との間隔が猥くなってしまい、隣接間容量が
増加し、結果としてトータルのビット線容蚤が増大し、
続出電位差が減少するという問題点があった。[Problems to be solved by the invention] By the way, the dynamic MO8- shown in FIG.
In the RAM, if the capacitance of the bit line 1 is Ca and the capacitance of the memory cell is C5, the potential difference read on the bit l111 of the RAM is C=/CB, which is a very small value. For this reason, it was necessary to use a highly sensitive sense amplifier to detect successive charges. However, as higher integration progresses, the distance between the capacitance of bit 11 and the adjacent bit lines becomes increasingly large, and the capacitance between adjacent bit lines increases, resulting in an increase in the total bit line capacity. death,
There was a problem that the successive potential difference decreased.
それゆえに、この発明の主たる目的は、高集積化が進ん
でも、隣接ビットの線間容量を増加しないようにビット
線を構成したランダムアクセスメモリを提供することで
ある。Therefore, the main object of the present invention is to provide a random access memory in which bit lines are configured so that the line-to-line capacity of adjacent bits does not increase even as the degree of integration increases.
1間9題点を解決するための手段] ′この発明は
折返しビット線を構成する相補の第1および第2のピッ
ト線対を含むランダムアクセスメモリであって、相補の
ピット線対が、ビット線伸延方向に垂直な面においてそ
れぞれの層が異なる第1および第2の導電層から形成さ
れかつ同一層では隣接しないように構成したものである
。Means for Solving Problems Between 1 and 9] 'The present invention is a random access memory including complementary first and second pairs of pit lines constituting folded bit lines, wherein the complementary pit line pair Each layer is formed from different first and second conductive layers in a plane perpendicular to the line drawing direction, and the same layers are not adjacent to each other.
[作用]
この発明にかかるランダムアクセスメモリは、第1およ
び第2のピット線対をそれぞれの層が異なる第1および
第2の導電層から構成したので、ビットS!間隔が狭く
てもビット線の線間容量を軽減することができる。[Function] In the random access memory according to the present invention, since the first and second pit line pairs are each composed of different first and second conductive layers, the bit S! Even if the spacing is narrow, the line-to-line capacitance of the bit lines can be reduced.
[発明の実施例J
第1図はこの発明の一実施例の構成を示す図であり、第
2図は第1図の斜線部分Xの平面図であり、第3図は第
2図の線■−■に沿う断面図である。[Embodiment J of the invention FIG. 1 is a diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the shaded area X in FIG. 1, and FIG. It is a sectional view along ■-■.
まず、第1図を参照して、この発明の一実施例では、第
1のビット線11は第3のポリシリコン層から形成され
る部分1と、第4のポリシリコン層から形成される8と
によって構成される。また、第1のビット4’j111
と対をなす第2のビット線12は第4のポリシリコン層
から形成される部分6と、第3のポリシリコン層から形
成される部分9とによって構成される。すなわち、第1
のビット線11を構成する部分1と第2のビットJ61
2を構成する部分6が形成される第3のポリシリコン層
と第4のポリシリコン層は、第3図に示すように、それ
ぞれの層がビット線の伸延方向に垂直な面において異な
っている。First, referring to FIG. 1, in one embodiment of the present invention, a first bit line 11 has a portion 1 formed from a third polysilicon layer and a portion 8 formed from a fourth polysilicon layer. It is composed of Also, the first bit 4'j111
The second bit line 12 paired with the second bit line 12 is constituted by a portion 6 formed from the fourth polysilicon layer and a portion 9 formed from the third polysilicon layer. That is, the first
Portion 1 and second bit J61 constituting bit line 11 of
As shown in FIG. 3, the third polysilicon layer and the fourth polysilicon layer in which the portion 6 constituting the bit line 2 is formed are different in the plane perpendicular to the extending direction of the bit line. .
同様にして、第1のビット線11を構成する部分8と第
2のビット線12を構成する部分9も、同様にしてビッ
ト線伸延方向に垂直な面において層が異なっている。し
たがって、第1のビット線11の部分1と第2のビット
線12の一部分6.15よび第1のビット線11の部分
8と第2のビット線72の部分9は、その層の層間膜の
分だけ隣接間距離を長くできるため、それぞれにおける
ビットm間の容量を軽減できる。また、第1および第2
のビット1111および12は、共に同じ長さの第3の
ポリシリコン層および第4のポリシリコン層により形成
することにより、同じ寄生容量となる。Similarly, the portion 8 constituting the first bit line 11 and the portion 9 constituting the second bit line 12 have different layers in the plane perpendicular to the bit line extending direction. Therefore, the portion 1 of the first bit line 11 and the portion 6.15 of the second bit line 12, the portion 8 of the first bit line 11, and the portion 9 of the second bit line 72 are the interlayer film of the layer. Since the distance between adjacent bits can be increased by the amount of , the capacity between bits m in each can be reduced. Also, the first and second
The bits 1111 and 12 have the same parasitic capacitance because they are both formed by the third polysilicon layer and the fourth polysilicon layer having the same length.
なお、第1のビット線11および第2のビット1i11
2はそれぞ°れセンスアンプ10に接続され、第1のビ
ット線11と、これに交差するワード線3はメモリセル
フに接続されている。このように、第1および第2のビ
ット線11および12のそれぞれの隣接間距離を長くし
かつ同じ長さにすることにより、センスアンプ1oの誤
動作および各ビット線11.12での読出信号量の変化
が生じることはない。Note that the first bit line 11 and the second bit line 1i11
2 are each connected to a sense amplifier 10, and a first bit line 11 and a word line 3 crossing it are connected to a memory cell. In this way, by increasing the distance between the first and second bit lines 11 and 12 and making them the same length, malfunction of the sense amplifier 1o and the amount of read signal on each bit line 11 and 12 can be prevented. No change will occur.
なお、上述の説明では、第1および第2のビット線11
および12を、それぞれ第3のポリシリコンおよび第4
のポリシリコンで形成するようにしたが、これに限るこ
となくポリサイド、シリサイド層またはアルミ配線で形
成するようにしてもよい。Note that in the above description, the first and second bit lines 11
and 12 to the third polysilicon and fourth polysilicon, respectively.
Although it is made of polysilicon, it is not limited to this, and may be formed of polycide, a silicide layer, or aluminum wiring.
[発明の効果]
以上のように、この発明によれば、隣接するビット線を
それぞれ異なる配線層で形成しがっ相補のビット線が同
じ容量を有するように構成したので、バランスよくかつ
読出信号量の大きいランダムアクセスメモリを得ること
ができる。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, adjacent bit lines are formed in different wiring layers and complementary bit lines are configured to have the same capacitance. A large amount of random access memory can be obtained.
第1図はこの発明の一実施例の構成を示す図である。第
2図は同じく平面図である。第3図は第2図の線■−■
に沿う断面図である。第4図は従来のランダムアクセス
メモリの平面図である。
図において、1.8は第1のビット線を構成する部分、
3はワード線、6.9は第2のビット線を構成する部分
、1oはセンスアンプ、11は第1のビット線、12は
第2のビット線を示す。FIG. 1 is a diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention. FIG. 2 is also a plan view. Figure 3 is the line ■-■ of Figure 2.
FIG. FIG. 4 is a plan view of a conventional random access memory. In the figure, 1.8 is a portion constituting the first bit line;
3 is a word line, 6.9 is a portion constituting a second bit line, 1o is a sense amplifier, 11 is a first bit line, and 12 is a second bit line.
Claims (3)
のビット線対を含むランダムアクセスメモリにおいて、 前記第1および第2のビット線対は、ビット線伸延方向
に垂直な面において、それぞれの層が異なる第1および
第2の導電層に形成されかつ同一導電層では隣接しない
ように設けられることを特徴とする、ランダムアクセス
メモリ。(1) Complementary first and second lines forming a folded bit line
In the random access memory, the first and second bit line pairs are formed in different first and second conductive layers in a plane perpendicular to the bit line extending direction, and A random access memory characterized in that it is provided so as not to be adjacent to each other in the same conductive layer.
よび第2の導電層に形成される領域の長さが等しいこと
を特徴とする、特許請求の範囲第1項記載のランダムア
クセスメモリ。(2) The random bit line pair according to claim 1, wherein the lengths of regions formed in the first and second conductive layers are equal to each other. access memory.
線からなり、 前記第3および第4のビット線は、それぞれ異なる層に
形成され、 前記第2のビット線は第5および第6のビット線からな
り、 前記第5のビット線は、前記第3のビット線と異なる層
に形成され、前記第6のビット線は前記第4および第5
のビット線と異なる層に形成される、特許請求の範囲第
1項または第2項記載のランダムアクセスメモリ。(3) The first bit line consists of a third and fourth bit line, the third and fourth bit lines are formed in different layers, and the second bit line consists of a fifth and a fourth bit line. a sixth bit line, the fifth bit line is formed in a different layer from the third bit line, and the sixth bit line is formed in the fourth and fifth bit lines.
3. The random access memory according to claim 1, wherein the random access memory is formed in a layer different from that of the bit lines.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61184416A JPH0831565B2 (en) | 1986-08-05 | 1986-08-05 | Random access memory |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61184416A JPH0831565B2 (en) | 1986-08-05 | 1986-08-05 | Random access memory |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6340363A true JPS6340363A (en) | 1988-02-20 |
| JPH0831565B2 JPH0831565B2 (en) | 1996-03-27 |
Family
ID=16152784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61184416A Expired - Lifetime JPH0831565B2 (en) | 1986-08-05 | 1986-08-05 | Random access memory |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0831565B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63108764A (en) * | 1986-10-24 | 1988-05-13 | Nec Corp | Semiconductor memory |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5534500A (en) * | 1978-08-30 | 1980-03-11 | Siemens Ag | Integrated mos semiconductor memory and method of manufacturing same |
| JPS61152063A (en) * | 1984-12-25 | 1986-07-10 | Mitsubishi Electric Corp | semiconductor storage device |
| JPS61152064A (en) * | 1984-12-25 | 1986-07-10 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor memory device |
-
1986
- 1986-08-05 JP JP61184416A patent/JPH0831565B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS5534500A (en) * | 1978-08-30 | 1980-03-11 | Siemens Ag | Integrated mos semiconductor memory and method of manufacturing same |
| JPS61152063A (en) * | 1984-12-25 | 1986-07-10 | Mitsubishi Electric Corp | semiconductor storage device |
| JPS61152064A (en) * | 1984-12-25 | 1986-07-10 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor memory device |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63108764A (en) * | 1986-10-24 | 1988-05-13 | Nec Corp | Semiconductor memory |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0831565B2 (en) | 1996-03-27 |
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