JPS634058A - 薄膜形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、照明器具の前面に取り付けられる立体格子
パネル等のパネル状基板の表面に、抵抗加熱法あるいは
スパッタリング法等によって薄膜を形成する方法に関す
る。

〔背景技術〕

プラスチック製品の付加価値を高めるため、その表面に
真空蒸着、あるいは、スパッタリング等の方法により、
銅、銀、金５クロム等の薄膜を形成することが、あらゆ
る分野で行われるようになってきた。たとえば、第４図
にみるような、照明器具のグレアカットを目的として照
明器具前面に取り付けられる立体格子パネル１もその一
つである。この立体格子パネル１は、単位板１ａ・・・
と単位板１ｂ・・・とが格子状に組み立てられたもので
あり、各単位板１ａ・・・、１ｂ・・・の側面に前記薄
膜が形成されるものである。

ところが、この立体格子パネル１等、その表面が立体的
であるパネル状基板においては、その表面に薄膜を形成
するにあたって、−方向から蒸着物質を供給したのでは
、つぎのような不都合が生じる恐れがある。すなわち、
前記蒸着物質の供給方法として、抵抗加熱蒸発源を利用
する抵抗加熱法を利用した場合には、格子状パネルに抵
抗加熱のための電極の陰になって蒸着されないところが
できる。また、前記薄着物質の供給方法として、この蒸
着物質からなるターゲットにイオンを衝突させて、その
衝撃によ゛って蒸着物質を前記ターゲットから飛び出さ
せる、いわゆる、スパッタリング法を利用した場合には
形成される薄膜の膜厚を均一にすることができな（なる
。このことを、前記立体格子パネル１を例にとって言う
ならば、この立体格子パネル１を構成する前記単位板１
ａ・・・、ｌｂ・・・の側面に薄膜が形成されない部分
や薄膜の膜厚が一定でない部分ができてしまうのである
そこで、第５図（ａ）、　（ｂ）にみるように、立体格
子パネル１等のパネル状基板を自公転させながら、自転
中心に置かれた供給源７より蒸着物質を供給して立体格
子パネル１表面に薄膜を形成することが行われている。

この方法によれば、蒸発物質の供給源７と立体格子パネ
ル１とは、薄膜形成処理中にあらゆる角度をとり得るた
め、立体形状の奥の方まで薄膜を均一に形成できるので
ある。

ところが、この方法では、個々の立体格子パネル１の回
転を妨げないため、隣り合う立体格子パネルト・・の自
転軌跡が互いに重なり合わないよう、立体格子パネル１
同士の間隔を離しておく必要がある。このため、１つの
真空槽２内に入れることのできる立体格子パネル１の数
量が制限されてしまう。

たとえば、縦１２００ｍｍ、横（＝回転半径）６００ｍ
の立体格子パネルを直径約１４０００．縦１３’００ｍ
ｍの真空槽中で自公転させようとすれば、１バツチで３
枚しか薄膜形成処理を行うことができない。これ以上の
枚数の立体格子パネル１を１バツチで薄膜形成処理する
には、真空槽２の直径を大きくすればよいが、その場合
には、真空槽２内を所定の真空度とするまでの時間（真
空排気時間）がその分だけ長（なってしまうため、その
分だけ１バフチの時間が長くなり、かえって生産性が悪
くなってしまう。

〔発明の目的〕

この発明は、以上の事情に鑑みてなされたちのであって
、真空槽の大きさを大きくすることなく、１バツチの薄
膜形成処理枚数を増加させることができ、生産性を向上
させることが可能な薄膜形成方法を提供することを目的
としている。

〔発明の開示〕

以上の目的を達成するため、この発明は、真空槽内で複
数のパネル状基板を自公転させな′がら、供給源より蒸
着物質を供給して前記複数のパネル状基板の表面に前記
蒸着物質からなる薄膜を形成する方法であって、隣り合
う前記パネル状基板同士の自転方向を互いに反対方向と
することで、このパネル状基板の自転軌跡を互いに重ね
合わせるようにすることを特徴とする薄膜形成方法を要
旨としている。

以下に、この発明を、その一実施例をあられす図面を参
照しつつ、詳しく説明する。なお、この実施例は、パネ
ル状基板として、第４図にみるような、立体格子パネル
１を使用し、その表面を薄膜形成処理する場合をあられ
している。

まず、第１図にみるように、複数の立体格子パネルト・
・を、真空槽２内の回転治具３ａ・・・に装着する。各
回転治具３ａ・・・の間隔は、第２図（ａ）にみるよう
に、隣り合う各立体格子パネルト・・の自転による回転
軌跡Ｒが互いに重なり合うような距離である。前記回転
軌跡Ｒの重なり合いの深さくどれだけ重なり合っている
か）は、この発明では特に限定されないが、この重なり
合いが浅すぎると、１バツチに入れられる立体格子パネ
ル１の数をあまり増やすことができない。また逆に、立
体格子パネル１の回転軌跡Ｒが隣り合う立体格子パネル
１の回転軸を超える程深く重なり合ったのでは、互いに
自転させることは不可能である。したがって、第２図ｆ
ａｔにみるような程度に２つの立体格子パネル１．１の
回転軌跡Ｒが重なり合っていることが好ましい。

つぎに、真空槽２を密閉したあと、図には示していない
排気系によって、この真空槽２内の空気を排気して、真
空状態とする。それとともに、前記回転治具３ａ・・・
を自公転させて立体格子パネルト・・の自公転を開始す
る。

このとき、この発明では、隣り合う各立体格子パネル１
の自転方向が、第２図（ａ）にみるように互いに反対方
向になっている。すなわち、図の例では、回転治具３ａ
、３ｃ、３ｅに取り付けられた立体格子パネルト・・が
時計方向に回転し、回転治具３ｂ、３ｄ、３ｆに取り付
けられた立体格子パネルト・・が反時計方向に回転する
。このため、この発明では、前述したように、各立体格
子パネルト・・が、その回転軌跡が重なり合うように配
置されていても、各立体格子パネルト・・自体は互いに
ぶつかりあうことなく、自転が可能となるのである。

このことは、第２図（ａ）〜（ｆ）にあられされている
。なお、これらの図においては、各回転治具３ａ〜の自
転の様子をはっきりさせるため、各自転治具３ａ・・・
の公転を止めてあられしているが、実際には、第２図（
ａ）の外側に記した矢印の方向に公転しながら自転する
ことは、言うまでもない。隣り合う各立体格子パネルト
・・の回転方向が互いに反対方向である場合には、第２
図（ａ）〜ｉｆ）のいずれの状態のときでも、あるいは
、各図の中間の状態のときにおいても、各立体格子パネ
ル１が互いにぶつかりあうことがないため、回転軌跡Ｒ
が互いに重なり合うような距離であっても立体格子パネ
ル個々の自転が可能となるのである。

以上のように、隣り合う各立体格子パネルの回転方向を
互いに逆とするための機構は、この発明では、特に限定
されないが、図の実施例では、第３図の機構によって、
それを実現している。この機構は第１図の下方にも見え
ているように、真空槽２の底部に設けられるものである
。この機構は、真空槽２の底面中央に固定された大歯車
４と、それと噛み合う３つの小歯車５ａ、５ｃ、５ｅお
よび６ｂ、６ｄ、６ｆと、前記３つの小歯車６ｂ、６ｄ
、６ｆと噛み合う３つの小歯車５ｂ、３ｄ、５ｆとを備
えたものである。各小歯車５ａ、５ｃ、５ｅ、６ｂ、６
ｄ、６ｆは、互いに隣り合うよう交互に並べられている
。そして、これら小歯車のうち５ａ〜５ｆまでの小歯車
には、前記立体格子パネル１を回転させるための回転治
具３ａ〜３ｆが取りつけられている。また各小歯車５ａ
〜５ｆ、６ｂ〜６ｆは、たとえば、−枚の円盤上に軸支
されて、互いの相対位置、すなわち、各歯車間の距離が
変化しないようになっている。そして、この−枚の円盤
を回転させることにより、各小歯車５ａ〜５ｆ、５ｂ〜
６ｆを公転させる。そうすると、真空槽２の底面中央に
固定された大歯車４と直接噛み合っている小歯車５ａ、
５ｃ、５ｅおよび６ｂ、６ｄ、６ｆはそれによって自転
する。また、この小歯車６ｂ、６ｄ、６ｆと噛み合って
いる小歯車５ｂ、５ｄ、５ｆは、大歯車４と直接噛み合
っている前記各小歯車とは反対方向に自転する。したが
って、各小歯車５ａ〜５ｆの自転方向は、５ａ、５ｃ、
５ｅと５ｂ、５ｄ、５ｆとで反対方向となる。このため
、各小歯車５ａ〜５ｆ上に固定された回転治具３ａ〜３
ｆも同様な自転方向（３ａ、３ｃ、３ｅと３ｂ、３ｄ、
３ｆと４　　で反対方向）をもって自転し、それに固定
された隣り合う立体格子パネルト・・同士の自転方向を
互いに反対方向とすることが可能となるのである。

つぎに、複数の立体格子バネルト・・の公転中心に置か
れた蒸着物質の供給源７を作動させて前記蒸着物質を供
給して前記複数の立体格子バネルト・・表面に前記蒸着
物質からなる薄膜を形成する。

なお、この実施例では、蒸着物質の供給源７として、−
対の電極棒７ａ、？ａと、その間に架は渡された複数の
タングステンフィラメント７ｂ・・・とからなる抵抗加
熱方式が採用されている。この方式は、前記複数のタン
グステンフィラメント７ｂ・・・にアルミニウム、銅等
の蒸着物質のワイヤーを巻きつけておいて、前記−対の
電極棒７ａ、７ａ間に電流を流し、その電流によって前
記複数のタングステンフィラメント７ｂ・・・を加熱し
て蒸着物質を溶融蒸発させるものである。このような供
給源７は、必ずしも複数の立体格子バネルト・・の公転
中心に置かれている必要はないが、このように複数の立
体格子パネルト・・の公転中心に供給源７を配置してお
けば、公転する立体格子パネル１は、常にこの供給源７
と等距離にあることになるので、薄膜形成をより効率よ
く行うことができるようになる。

このあと、リーク弁より外気をリークして真空槽２内の
真空を破壊し、真空槽２内を大気圧にもどせば、表面に
薄膜が形成された立体格子パネル１が得られる。

以上のように、この発明の薄膜形成方法では、隣り合う
立体格子パネル等のパネル状基板同士の自転方向を互い
に反対方向とすることで、このパネル状基板を自公転可
能としながら、かつ、自転軌跡を互いに重ね合わせるよ
うにすることができるため、たとえば、以上の図の実施
例では、従来、パネル状基板を３枚しか薄膜形成処理で
きなかったのと同じ真空槽を用いて、その２倍にあたる
６枚ものパネル状基板を処理することが可能となってい
る。

なお、これまでは、この発明の薄膜形成方法について、
以上の実施例にもとづいてのみ、説明してきたが、この
発明が以上の実施例に限定されないことは、言うまでも
ない。

たとえば、以上の実施例では、照明器具の前面に取り付
けられる立体格子パネル（ルーバー）の表面に薄膜を形
成する場合を示しているが、この発明を、それ以外のパ
ネル状基板について適用することも、もちろん可能であ
る。

以上の実施例では、蒸着物質を供給するための供給源７
が抵抗加熱によるものであったが、これは、蒸着物質か
らなるターゲットにイオンを衝突させて、その衝撃によ
って蒸着物質を前記ターゲットから飛び出させる、いわ
ゆる、スパンタリング法によってもよく、また、それ以
外の方法によって行うようであってもよい。

また、以上の実施例では、ｌバッチで６枚のパネル状基
板に対して薄膜形成処理を行っていたが、これは、６枚
以上であっても、また、以下であってもよい。この発明
においては、従来、その装置で処理可能であった枚数の
２倍の枚数、すなわち、従来が３枚であれば６枚の、ま
た、従来が４枚であれば８枚のパネル状基板に対する薄
膜形成処理が可能となる。

要するに、真空槽内で複数のパネル状基板を自公転させ
ながら、供給源より蒸着物質を供給して前記複数のパネ
ル状基板の表面に前記蒸着物質か′らなる薄膜を形成す
るにあたり、隣り合う前記パネル状基板同士の自転方向
を互いに反対方向とすることで、このパネル状基板の自
転軌跡を互いに重ね合わせるようになっていれば、その
他の構成は特に限定されないのである。

〔発明の効果〕

この発明の薄膜形成方法は、以上のようであり、真空槽
内で複数のパネル状基板を自公転させながら、供給源よ
り蒸着物質を供給して前記複数のパネル状基板の表面に
前記蒸着物質からなる薄膜を形成する方法であって、隣
り合う前記パネル状基板同士の自転方向を互いに反対方
向とすることで、このパネル状基板の自転軌跡を互いに
重ね合わせるようにしているため、真空槽の大きさを太
き（することな（，１バツチの薄膜形成処理枚数を増加
させることができ、生産性を向上させることが可能とな
っている。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の実施に用いられる装置の一例をあら
れす斜視図、第２図（ａｌ〜ｉｆ）はこの例におけるパ
ネル状基板の回転の状態を説明する説明図、第３図はこ
の実施例におけるパネル状基板を自公転させるための機
構をあられす平面図、第４図はパネル状基板の一例であ
る立体格子パネルをあられす斜視図、第５図（ａ）、　
（ｂｌは従来における装置の一例をあられす平面図なら
びに側面図である。 １・・・パネル状基板　２・・・真空槽　７・・・供給
源Ｒ・・・自転軌跡 代理人　弁理士　　松　本　武　彦 第１図 第２図 （ａ）　　　　　　　　　　（ｂ） （（）　　　　　　　　　　（ｄ） 第２図 （ｅ）（ｆ） 第３図 馴 第４図 １＾ 第５図 （ａ） 手続補正書（陪 昭和６２年　５月２３日 ３、補正をする者 事件との関係　　　　特許出願人 住　　　所　　　　大阪府門真市大字門真１０４８番地
名　称　（５８３）松下電工株式会社 代表者　　（１ｍ役　藤井貞夫（ばか１名）４、代理人 な　　　し ６、補正の対象　　　別紙のとおり 明細書 ７、　　？ｉｌｉ正の内容 （１）明細書第２頁第４行ないし同頁第６行に１スパツ
タリング等の方法により、・・・形成すべことが、」と
あるを、下記のごとくに訂正する。 −記一 「スパッタリング等の方法により、アルミニラＪ、銅、
銀、金、クロム等の薄膜を形成すること力、」

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）真空槽内で複数のパネル状基板を自公転させなが
   ら、供給源より蒸着物質を供給して前記複数のパネル状
   基板の表面に前記蒸着物質からなる薄膜を形成する方法
   であって、隣り合う前記パネル状基板同士の自転方向を
   互いに反対方向とすることで、このパネル状基板の自転
   軌跡を互いに重ね合わせるようにすることを特徴とする
   薄膜形成方法。
2. （２）蒸着物質の供給源が複数のパネル状基板の公転中
   心に位置している特許請求の範囲第１項記載の薄膜形成
   方法。