JPS6340784A - 高温に保たれたタイルに粒状物としての釉を塗布する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は粒状の釉を高温に保たれたタイルに塗布する装
置に関する。

〔従来技術とその問題点〕

熱処理によるタイルの焼成中、従ってタイルが高温であ
るときに、粒状釉をタイルに付着させるタイル製造方法
は知られている。

このような種類の方法は本出願人名義の出願中のイタリ
ア特許出願の主題をなしている。

粒状釉の白熱タイルへの塗布は多数の技術的、物理的お
よび化学的問題を伴なう。

というのは、この方法では、タイルの温度が好都合にも
釉の成分のうちの少なくとも一種の融点よりも高いとい
うことを考慮しなければならないからである。

タイルに面している釉ディスペンサは、白熱タイルが熱
を放射あるいは対流のいずれかにによりディスペンサに
生じた結果、加熱を受ける。

釉ディスペンサユニットをタイルから間隔をへだてて設
け、かくしてタイルにより生じた熱を減することにより
、この難点は解消することができると思われるかもしれ
ない。

しかしながら、本出願人は、このようにして生じる粒状
釉の高い落下高度が重大な欠点を生じることを見出した
。

というのは、もし落下高度が高すぎると、釉は、より低
い温度の環境に置かれた白熱タイルの存在で起る上昇気
流の作用を選択的に受けるようになり、小径の粒子は明
らかにこのような上昇気流により減速されやすく、これ
により流径の異なる粒子間の一種の分離を行うからであ
る。

また、大径の粒状物がもっと高い高度から落下すると、
これらの粒状物はこれらをタイルの表面からはね返す過
度の運動エネルギを受け、また上昇気流の結果、落下中
の小径の両分が分離して釉粒子の完全には一定でも均一
でもない落下により塗布のむらを引き起してしまう。

さらに、落下の早過ぎる粒状物がタイルをはね返る傾向
があることにより、特にタイルの縁部、とりわけ前縁部
の近くのタイルの表面の塗布にむらを引き起す。

当然、その結果、これらすべての要因により、粒状釉の
落下高度はできるだけ低いことを必要とする。

従って、白熱タイルに接近して設置されたディスペンサ
の自然加熱は受入れがたい。というのは、ディスペンサ
の温度がタイルの温度に近付けば近付くほど釉の融点の
最も低い両分がより多く融解され、その結果、その百分
はディスペンサ内で凝集し、実際、釉の適正な分配を妨
げるからである。

〔発明の概要〕

本発明は釉を白熱タイル、すなわち釉の融点よりも高い
温度のタイルに低い高度の落下で塗布するディスペンサ
を具体化することにより問題を解決することを目的とす
る。

この問題解決は、白熱タイルによってそのタイル上方の
ディスペンサに生じる最も多い熱量が放射熱であるとい
う所見に基づいている。

放射による熱交換は、これが起るボディの温度０４乗間
の差に比例することが知られている。

タイルの表面に落下する冷釉は熱放射を著しく減するこ
とが実験で実証された。

タイルの外面が釉自身より構成されるようになり、釉が
タイルの表面層から熱を吸収するから、釉の温度上昇（
この温度上昇に関しては、釉の比熱とその溶融成分の融
点を考慮しなければならない）が明らかに起るが、その
結果としてタイルの表面層の温度が低下する。またタイ
ルの支持体すなわち基質のようなセラミックボディの低
い伝熱係数も考慮される。

かくして、本発明によれば、釉を冷却された傾斜表面の
少なくともひとつの自由縁部から湾状すなわち幕状に原
書けし、傾斜表面に供給された粒状釉はその傾斜表面上
を流れることができる。

釉をこの傾斜表面に供給するが、この釉はこの表面に落
下すると、保有している運動エネルギを失う。

有利には、釉がタイルに落下する自由縁部はディスペン
サの周囲領域の近くに配置され、この領域はディスペン
サに近いタイルの接近径路に位置するような方向に配置
されており、タイルは粒状釉の少なくとも一部を受けて
からディスペンサのボディの下を通過するようになって
いる。

詳細には、ディスペンサは複数の縁部を備えており、釉
はこれらの縁部から落下する。これらの縁部は供給後の
タイルに対して横方向である。

〔実施例〕

第１図〜第３図を参照すると、炉１０の概略図が示され
ており、この炉には、全体として１２で示す本発明によ
るディスペンサ装置を収容する空所１１が形成されてい
る。

炉１０はローラ型の炉であり、この炉はそれ自身在来の
ものであり、従って詳細には述べない。

参照番号１３は動力駆動ローラを概略的に示しており、
このローラはタイル１４を炉内まで搬送し、この炉内で
これらのタイルは同一出願人の名義のイタリア特許出側
第１９５８９Ａ／８５号に詳細に説明されているように
適切な熱処理を受ける。

ディスペンサ１２はタイル搬送用のローラ２０を備えて
おり、これらのローラは炉のローラ列１３の延長である
。

ローラを回転させるのに用いられる装置はここでは詳細
には示していないが、これらの装置は例えば、この種の
設備には通常であるようなチェーン型またはギア型のも
のである。

好ましくは、図面に示すように、上記ローラ２０はタイ
ルを別々の箇所に載置することにより支持するように不
連続表面を有している。

この不連続性は中心管状部分２１が環状突出部２２を備
えたローラ２０を用いることにより有利に得ることがで
き、管状部分２１には冷却用液体、好ましくは水が通さ
れていて、この水はパイプ２３および回転継手２４を通
して両端部で夫々供給および排出される（第３図）。

ローラ２０のこの構成は、白熱タイルを支持するローラ
を停止したり、引き続き再び始動したりする場合にロー
ラの熱変形を防ぐのに有用であることがわかる。

というのは、炉から上記ローラ２０の上に達する白熱タ
イルが、動きを停止すると急速に冷却するローラと接触
してローラの長さ方向部分に触れると、これらのローラ
は変形を受け、最も高い温度を有する母線の近くに凸面
を形成する傾向がある。

かかる変形は、熱不均衡の結果であるが、自己補償の傾
向はなく、実際、操作の最初の数分で増大し、その後は
徐々に止まる傾向がある。

実際に、タイルを搬送するためにローラが転勤すると、
ローラの最も熱い凸状部分がタイルと接触し、これはロ
ーラの異なる長さ方向領域間の熱不均衡を維持する傾向
がある。

不連続の支持表面を備えるようにローラを設計すること
により、この熱不均衡が生じたり持続したりしないよう
にし、またタイルによりローラに与えられる熱量の限度
を設定し、タイルの温度をかなり下げることな（ローラ
を冷却することがより一層可能になる。環状リブより成
る外面がローラの熱均衡を維持するのに特に適している
ことがわかった。またこれらのリブは熱を円周方向に分
敗させる機能も果している。

釉ディスペンサは粒状の釉を受は入れるためのホッパ２
５を備えていて、このホッパの底部で、例えば素材を詰
まらないようにする種類の移動ホイール２６よりなる供
給機構により釉を振動ふるい２７に供給する。

粒状釉はこのふるいからローラ２０により運ばれるタイ
ルの表面のすぐ上方に配置された一組の回転ホイール３
０に落下する。

これらの回転ホイール３０もまたローラ２０の冷却と全
（同様の方法で、回転ホイール３０を通る流体の形態で
の冷却する手段を備えている。

尚ここで注目すべきこととしては、釉が回転ホイール３
０に落下すると、減速され、かくして衝撃によりその運
動エネルギを減する。

このことは、供給部材の高さはあまり決定的ではなく、
従って、かかる部材は危険な加熱を受けないようにタイ
ルから有利な距離をへだてて設けるのがよいことを意味
する。また、落下中の種々の釉の相間が分離する可能性
および微細な釉両分の不均一な堆積を最小にしなければ
ならない。

また回転ホイール３０がタイルから来る放射熱を防ぐス
クリーンとして機能することも考慮しなければならない
。

回転ディストリビュータ３０の近くで、ローラ２０の下
方には、釉ディスペンサの近くに運ばれた並行タイルの
列を通るいずれの釉をも収集するためのホッパ３３が設
けられている。

このホッパは白熱タイルの存在による煙突作用の発生を
減するように構成すべきであり、この目的で、ホッパが
横断隔壁３４を有し、収集された釉の出口は排出部材で
密封されているのが有益である。

この種類のディスペンサ構造は本発明の目的を十分に達
成することがわかった。

回転ホイール３０の各々はその上向きの部分に傾斜二重
表面を構成し、釉はこの傾斜二重表面から湾状すなわち
幕状としてタイルに、より詳細には垂直平面に対し接線
方向の回転ホイールの母線により形成される縁部から落
下する。

回転ホイール３０の回転は、釉の分配に関しては不可欠
なものではなく、不動であっても釉を分配することがで
きる。

しかしながら、回転は白熱タイルから生じる放射熱にさ
らされるホイールの表面部分を連続的に変えるのにきわ
めて有用であり、かくしてホイールは容易に冷却され、
またこの回転により、ホイールのいかなる部分も釉成分
の融解現象をひき起してしまう温度に達することがなく
、ホイール３０を変形させてしまういずれの示差膨張を
も生じることがない。

本発明によれば、ローラ２０で（第１図で見て左から右
へ）運ばれるタイルが出会う初めのホイール３０は、タ
イルがディスペンサの下方領域に完全に入る前にホイー
ルがその一方の縁部により釉をタイルに供給するように
位置決めされる。

これまでに説明したように、この釉の最初の落下はタイ
ルの放射を著しく減少させる。これはタイルの表面層の
温度低下の結果としてであるが、タイルに亀裂を生じさ
せる著しい熱不均衡および内部応力を引き起すような素
材の冷却をタイル内部に生じることはない。

従って、ホィール３０集合体は、その下を移動するタイ
ルが釉の落下によって冷却されなければ受けるであろう
放射よりもはるかに低い放射を受ける。

さらに、ホイール３０はディスペンサの上部を放射から
も対流からも防禦するスクリーンを形成している。

ホイール３０が（ひとつだけではなく）複数存在すると
、放射および対流から遮蔽されるタイルの領域を拡大す
るが、ホイールの直径を比較的に小さく保ち、かくして
本発明の目的に従って釉の落下高度を制限する。

釉をいくつかの次々の縁部からの落下により分配するこ
と、またタイル上の分散を向上させることは有利である
ことがわかった。

ディスペンサの最初の縁部から発熱タイル上に落下する
釉はただちに軟化および融解現象を引き起こし、その結
果タイルの移動で引き続いてタイルが出会う縁部から落
下する釉ははね返りの傾向が低くなる。

炉からローラ１３で、次いでローラ２０で運ばれるタイ
ルは必然的にそれらの間に長さ方向および横方向に成る
間隔を有し、ホイール３０により分配され、タイルの間
のこれらの空間領域に面する釉は下方のホッパ３３によ
り集められ、これらの釉を任意にディスペンサに再循環
させることができる。

ホッパ３３はスクリーン３４を有し、これらのスクリー
ンは軸周のラビリンスを形成し、上昇する空気流を釉塗
布領域の外側へ片寄らせ、適切に冷却してタイルの下側
から受ける熱を下げることができる。

ローラ２０を冷却した結果、およびローラ２０とタイ、
ルとの接触帯域を小さくした結果、これらのローラ２０
を釉の融点の最も低い成分の融点よりも明らかに低い温
度に維持することができ、かくして釉をローラの表面に
粘着しないようにすることができる。

先に述べたように、釉をタイルに湾状すなわち幕状に流
掛けするための傾斜表面の回転ホイール形状はこれまで
に示した種々の理由できわめて有不ｊノであることがわ
力）っだ。

しかしながら、これらのホイールは釉をタイルに落下さ
せる縁部４１を有する表面４０と取り換えることができ
る。

表面４０には、好ましくは、ホイール３０と同様に、冷
却液を強制循環する中空の空間４２が形成されている。

表面４０は必ずしも静止状態にある必要はないが、釉の
充分な分散とより自由な流れのためには、表面４０は、
例えばふるい２７を固定した振動形態として具体化する
のがよい。

また、表面４０の場合、釉がタイル上に徐々に、漸次分
散するためにおよび層の良好な均一性を得るためには、
これらの表面がより多い数に達するのが有利である。

特に、第５図は上で説明したことに従って、タイルがす
でに釉に被覆されてディスペンサの下に達するように最
初の表面４０がタイル供給側に向いていることを示して
いる。

しかしながら、その他の表面４０は反対方向を向いて示
されており、その際前方および後方側のより均一な被覆
に関しては、釉粒状物のタイルの供給と並行かつ同方向
の釉の落下軌道に水平成分を有するのが有利であること
がわかった。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による装置の好適な形態の実施例の概略
斜視図、第２図および第３図はそれぞれ第１図の装置の
側面図および平面図、第４図および第５図は装置の異な
る形態の実施例を示す第２図と同様の部分側面図である
。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）タイル搬送装置を備え、該装置上方に釉ディスペン
   サユニットを設けた、粒状の釉を高温に保たれたタイル
   に塗布する装置において、上記ディスペンサユニットは
   少なくともひとつの細長い釉流掛け縁部を有し、該流掛
   け縁部はタイルの径路に近接しかつこの経路を実質的に
   横断して延びていて、傾斜表面の末端縁部を構成してお
   り、上記表面に釉を付着させる手段が構じられており、
   上記ディスペンサユニットは強制循環冷却回路と関連し
   ていることを特徴とする装置。 ２）上記釉流掛け縁部はディスペンサの周囲まで実質的
   に近接して延びており、この周囲はタイルの接近方向に
   向いていることを特徴とする特許請求の範囲１項に記載
   の装置。 ３）上記ディスペンサユニットは夫々傾斜表面の複数の
   平行な末端縁部を有することを特徴とする特許請求の範
   囲１項に記載の装置。 ４）上記傾斜表面は冷却液を循環させる中空体を有する
   ことを特徴とする特許請求の範囲１項に記載の装置。 ５）上記傾斜表面は水平軸線を有するホイールの上向き
   の部分より成り、上記釉流掛け縁部は垂直平面に対して
   接線方向の母線に隣接するディスペンサ円筒体の領域よ
   りなることを特徴とする特許請求の範囲３項に記載の装
   置。 ６）上記ホイールを回転状態に保つ手段が構じられてい
   ることを特徴とする特許請求の範囲５項に記載の装置。 ７）上記ホイールは中空であって、内部に冷却液が通さ
   れていることを特徴とする特許請求の範囲５項に記載の
   装置。 ８）上記タイル搬送装置はローラ装置であり、各ローラ
   はタイルを多数の不連続箇所で支持するための不連続の
   突出部を持つ外面を有することを特徴とする特許請求の
   範囲１項に記載の装置。 ９）上記不連続部はシャフト上に同軸に設けられた環状
   ボディよりなることを特徴とする特許請求の範囲８項に
   記載の装置。 １０）上記シャフトは冷却液が通されるように中空であ
   ることを特徴とする特許請求の範囲９項に記載の装置。 １１）タイル搬送装置の下には、タイルの縁部を通り越
   す粒状釉を集めるための装置が設けられていることを特
   徴とする特許請求の範囲１項に記載の装置。 １２）上記釉収集装置は釉片寄り隔壁を有するホッパよ
   りなることを特徴とする特許請求の範囲１１項に記載の
   装置。 １３）釉を上記傾斜表面に付着させるための上記装置は
   振動ふるいより成ることを特徴とする特許請求の範囲１
   項に記載の装置。