JPS6341484A - チタノセン、それらの製造法およびそれらを含有する組成物 - Google Patents
チタノセン、それらの製造法およびそれらを含有する組成物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、弗素化芳香族基を含むチタノセン、このよう
なチタノセンを光重合開始剤として含有するエチレン性
不飽和化合物の光重合性組成物、このような組成物で被
覆された基体およびこのような基体を使用した写真レリ
ーフ画像に関するものである。
なチタノセンを光重合開始剤として含有するエチレン性
不飽和化合物の光重合性組成物、このような組成物で被
覆された基体およびこのような基体を使用した写真レリ
ーフ画像に関するものである。
〔従来の技術および発明が解決すべき問題点〕ヨーロッ
パ特許A−0,122,223で、フルオロアリール配
位子を持つチタノセンがすぐれた光重合開始剤であるこ
とが公知である。この種のチタノiンは結晶性であり、
これらは取扱い上に℃・くつかの困難がある。このよう
なチタノセン)てよって達成することのできる感光度は
感光性組成物中へのそれらの可溶性によって影響を受け
る。
パ特許A−0,122,223で、フルオロアリール配
位子を持つチタノセンがすぐれた光重合開始剤であるこ
とが公知である。この種のチタノiンは結晶性であり、
これらは取扱い上に℃・くつかの困難がある。このよう
なチタノセン)てよって達成することのできる感光度は
感光性組成物中へのそれらの可溶性によって影響を受け
る。
本発明は、式(I+
I
R−T1−R2(1)
R′3
〔式中、2つのR1基は各々独立して、シクロベ/タジ
エニルe、インデニル○または4 、5 。
エニルe、インデニル○または4 、5 。
R3,7−チトラヒドロインデニルづであって、これら
はC4〜C18−アルキル、C3〜c18−アルコキシ
、C2〜C18−アルケニル、C5〜C8−7クロアル
キル、C6〜C,6−7リール、c7〜c、6−アラル
キル、ンアノまたはハロゲンで]個以上置換されたまた
はされていないものであるが、2つのRは、連結して、
式(IIlの 〔式中、Xは−(CH,÷ (nは1,2また(ま3で
−口 ある。)、非置換またはフェニルで置換されて(・る2
〜12個の炭素原子を持つアルそリデン、5〜7の環炭
素を持つシクロアルキリデン、SiR:またはSnR;
(R’はC1〜c1□−アルキル、C5〜C1゜−7
クロアルキIし、C6〜C16−アリ−・しまたはC7
〜Cl6−アラルキルである。)〕の基であって、上記
の置換基で置換されていてもよいものであり、Rは、チ
タン−炭素結合にりけシて2つのオルIの少くとも1つ
の中に弗素原子によって置換されている、6員の炭素環
または5員またはtj員の複素環芳香族環であり、この
芳香族環:て対してさらに置換基を含有しているもので
あってよく、またはR2とR3は連結して、式(@ −Q −Y −Q −(@ (式中、Qは炭素環芳香族環であって、(・ずれの場合
もこの2つの結合が、Y基に対してオルト泣にあり、各
々Y基に対するメタ位が弗素原子によって置換されてお
り、Qはそれ以外にさらンこ置換基を含有していてもよ
い。YはCH2、Cっ〜C−のアルキリデン、5から7
の環炭素を有するシクロアルキリデン、直接結合、NR
”、0、s、so、so2、Co 、 5iR2fたは
5nR2< R4は上記の通りである。)である。〕で
示される基であり R3はR2と同一の意味であるか、
またはアルキニル、置換または非置換フェニルアルキニ
ル、N3、CN、5IR3、またはS n Raであり
、しかもチタノセン中でR2は二芳離のエーテル化され
たまたはエステル化された1個以上のポリオキサアルモ
レン基を含有しており、この基は芳香族基:て、直接ま
たは橋基を通じて結合されているものである。〕 で示されるチタノセンに関するものである。
はC4〜C18−アルキル、C3〜c18−アルコキシ
、C2〜C18−アルケニル、C5〜C8−7クロアル
キル、C6〜C,6−7リール、c7〜c、6−アラル
キル、ンアノまたはハロゲンで]個以上置換されたまた
はされていないものであるが、2つのRは、連結して、
式(IIlの 〔式中、Xは−(CH,÷ (nは1,2また(ま3で
−口 ある。)、非置換またはフェニルで置換されて(・る2
〜12個の炭素原子を持つアルそリデン、5〜7の環炭
素を持つシクロアルキリデン、SiR:またはSnR;
(R’はC1〜c1□−アルキル、C5〜C1゜−7
クロアルキIし、C6〜C16−アリ−・しまたはC7
〜Cl6−アラルキルである。)〕の基であって、上記
の置換基で置換されていてもよいものであり、Rは、チ
タン−炭素結合にりけシて2つのオルIの少くとも1つ
の中に弗素原子によって置換されている、6員の炭素環
または5員またはtj員の複素環芳香族環であり、この
芳香族環:て対してさらに置換基を含有しているもので
あってよく、またはR2とR3は連結して、式(@ −Q −Y −Q −(@ (式中、Qは炭素環芳香族環であって、(・ずれの場合
もこの2つの結合が、Y基に対してオルト泣にあり、各
々Y基に対するメタ位が弗素原子によって置換されてお
り、Qはそれ以外にさらンこ置換基を含有していてもよ
い。YはCH2、Cっ〜C−のアルキリデン、5から7
の環炭素を有するシクロアルキリデン、直接結合、NR
”、0、s、so、so2、Co 、 5iR2fたは
5nR2< R4は上記の通りである。)である。〕で
示される基であり R3はR2と同一の意味であるか、
またはアルキニル、置換または非置換フェニルアルキニ
ル、N3、CN、5IR3、またはS n Raであり
、しかもチタノセン中でR2は二芳離のエーテル化され
たまたはエステル化された1個以上のポリオキサアルモ
レン基を含有しており、この基は芳香族基:て、直接ま
たは橋基を通じて結合されているものである。〕 で示されるチタノセンに関するものである。
R1基は好ましくは同一の基である。R1として可能な
基は、1〜]、8個、好ましくは1〜12個、特に好ま
しくは1〜(3個の炭素原子の直鎖または枝分れアルキ
ルまたはアルコキシ、2〜18個、好ましくは2〜12
個、さらに好ましくは2〜6個の炭素原子のアルケニル
でア’)、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、
オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデ
シル、オクタデンパし寸6.よび対応するアルケニルお
よびアルキリデンでアリ;5〜8個の環炭素原子を有す
るシクロアルキルおよびシクロアルケニルであり、例え
ば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロペンチル
、メチルシクロペンチルおよびメチルシクロヘキシルで
あり;6〜16個の炭素原子のアリールおよび7〜16
個の炭素原子のアラルキルであり、例えばフェニル、ナ
フチル、ベンジルおよびフェネチルであり;ニトリルお
よびハロゲン特にF、CIおよびBrである。
基は、1〜]、8個、好ましくは1〜12個、特に好ま
しくは1〜(3個の炭素原子の直鎖または枝分れアルキ
ルまたはアルコキシ、2〜18個、好ましくは2〜12
個、さらに好ましくは2〜6個の炭素原子のアルケニル
でア’)、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、
オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデ
シル、オクタデンパし寸6.よび対応するアルケニルお
よびアルキリデンでアリ;5〜8個の環炭素原子を有す
るシクロアルキルおよびシクロアルケニルであり、例え
ば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロペンチル
、メチルシクロペンチルおよびメチルシクロヘキシルで
あり;6〜16個の炭素原子のアリールおよび7〜16
個の炭素原子のアラルキルであり、例えばフェニル、ナ
フチル、ベンジルおよびフェネチルであり;ニトリルお
よびハロゲン特にF、CIおよびBrである。
R1の基は、3個以下の、特に1個の置換基を含有する
ことができる。特に2つの基R1がシクロペンタジェニ
ルeまたはメチルシクロペンタジェニルe基である。
ことができる。特に2つの基R1がシクロペンタジェニ
ルeまたはメチルシクロペンタジェニルe基である。
式jlli)中のアルキリデン又は、好ましくは2〜6
の炭素原子を含有する。フェニル基で置換されていても
よいアルキリデンおよびシクロアルキリデンの例として
は、エチリデン、プロピリデン、ブチリテン、ヘキシリ
デン、フェニルメチレン、ジフェニルメチレン、シクロ
ペンチリデンおよびシクロへキシリデンである。X基中
のアルキルのRは、好ましくは1〜6の炭素原子を含有
するものであり、例えば、メチル、エチル、プロピル、
ブチルまたはヘキシルである、Rの7クロアルキルは、
好ましくはシクロペンチルまたはシクロヘキシルであり
、アリールのR4は好ましくはフェニルであり R4の
アラルキルは好ましくはベンジルである。Xは特に好ま
しくはメチレンである。
の炭素原子を含有する。フェニル基で置換されていても
よいアルキリデンおよびシクロアルキリデンの例として
は、エチリデン、プロピリデン、ブチリテン、ヘキシリ
デン、フェニルメチレン、ジフェニルメチレン、シクロ
ペンチリデンおよびシクロへキシリデンである。X基中
のアルキルのRは、好ましくは1〜6の炭素原子を含有
するものであり、例えば、メチル、エチル、プロピル、
ブチルまたはヘキシルである、Rの7クロアルキルは、
好ましくはシクロペンチルまたはシクロヘキシルであり
、アリールのR4は好ましくはフェニルであり R4の
アラルキルは好ましくはベンジルである。Xは特に好ま
しくはメチレンである。
6員の炭素環芳香族の、しかも弗素置換された環基のR
2は、例えば弗素置換されたインデン、インダン、フル
オレン、ナフタレンであり、特にフェニルである。好ま
しくは、2つのオルト位が弗素で置換されたものがよい
。複素環芳香族5員環基R2は好ましくは、1個のへテ
ロ原子を含有しており、6員環基R2は、好ましくは1
個または2個のへテロ原子を含有している。
2は、例えば弗素置換されたインデン、インダン、フル
オレン、ナフタレンであり、特にフェニルである。好ま
しくは、2つのオルト位が弗素で置換されたものがよい
。複素環芳香族5員環基R2は好ましくは、1個のへテ
ロ原子を含有しており、6員環基R2は、好ましくは1
個または2個のへテロ原子を含有している。
R2基は、遊離のエーテル化またはエステル化した、1
個以上の(ポリオキサアルキレン)基を含有するもので
あり、この基は芳香族環に直接に結合されているか、橋
基を介して結合されていでもよい。R2はさらに例えば
アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヒ
ドロキシル、アルコキシ、カルボキシル、アルコキシカ
ルボニル、ハロゲン、またはシアンのような環置換基を
含有していてもよい。これらの例としては、好ましくは
1〜18個の特に好ましくは1〜6個の炭素原子を持つ
もの例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペン
チル、ヘキシルおよびこれらの対応アルコキシ基であり
、特に、好ましし・のはメチルおよびメトキシであり;
好ましくは5または6個の環炭素原子をもったシクロア
ルキル、好ましくは6〜16個の炭素原子のアリールお
よび好ましくは7〜16個の炭素原子のアラルキル、例
えば、シクロヘンチル、シクロヘキシル、フェニルマタ
ハヘンシル−’(−アリ;ヒドロキシ、カルボキシル、
CN、例えばF、CIまたはBrのようなハロゲン、お
よびメチルクロライド、ブロマイドまたはアイオダイド
のようなアルキルハライドで4級化することのできる第
3級アミンである。アミノの例としては、ジメチルアミ
ノ、ピロリジル、ピペリジル、ピペラジル、モルホリル
およびN−メチルピペラジルであり;アルコキシ基中に
好ましくは1〜18個の、特に好ましくは1〜6個の炭
素原子を持つアミノアルコキシカルボニル、アミン基中
に1〜12個の炭素原子を持つ1個または2個のアルキ
ル基を持つアミノカルボニルまたは複素環アミンを含む
アミノカルボニル、例えばピロリジン、ピペリジン、ピ
ペラジン、N−メチルピペラジンおよびモルホリンであ
り;およびアルキルハライドで4級化することのできる
。好ましくは1〜6個の炭素原子を持つアルキルを含む
第3アミノアルキルがある。
個以上の(ポリオキサアルキレン)基を含有するもので
あり、この基は芳香族環に直接に結合されているか、橋
基を介して結合されていでもよい。R2はさらに例えば
アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヒ
ドロキシル、アルコキシ、カルボキシル、アルコキシカ
ルボニル、ハロゲン、またはシアンのような環置換基を
含有していてもよい。これらの例としては、好ましくは
1〜18個の特に好ましくは1〜6個の炭素原子を持つ
もの例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペン
チル、ヘキシルおよびこれらの対応アルコキシ基であり
、特に、好ましし・のはメチルおよびメトキシであり;
好ましくは5または6個の環炭素原子をもったシクロア
ルキル、好ましくは6〜16個の炭素原子のアリールお
よび好ましくは7〜16個の炭素原子のアラルキル、例
えば、シクロヘンチル、シクロヘキシル、フェニルマタ
ハヘンシル−’(−アリ;ヒドロキシ、カルボキシル、
CN、例えばF、CIまたはBrのようなハロゲン、お
よびメチルクロライド、ブロマイドまたはアイオダイド
のようなアルキルハライドで4級化することのできる第
3級アミンである。アミノの例としては、ジメチルアミ
ノ、ピロリジル、ピペリジル、ピペラジル、モルホリル
およびN−メチルピペラジルであり;アルコキシ基中に
好ましくは1〜18個の、特に好ましくは1〜6個の炭
素原子を持つアミノアルコキシカルボニル、アミン基中
に1〜12個の炭素原子を持つ1個または2個のアルキ
ル基を持つアミノカルボニルまたは複素環アミンを含む
アミノカルボニル、例えばピロリジン、ピペリジン、ピ
ペラジン、N−メチルピペラジンおよびモルホリンであ
り;およびアルキルハライドで4級化することのできる
。好ましくは1〜6個の炭素原子を持つアルキルを含む
第3アミノアルキルがある。
アルキニルR3は、好ましくは2〜6個の炭素原子を含
有している。例えばエチニルおよびプロハキルでアル。
有している。例えばエチニルおよびプロハキルでアル。
フェニルアルキニルRは、汗ましくはフェニルエチニル
である。フェニルアルキニルR3の置換基は、例えば、
F、CIまたはBrのようなハロゲン、第3級アミノ;
1〜6個の炭素原子を持つアルコキシ、カルボキシル、
OHおよびCNである。R3は、好ましくはR2と同じ
意味を持つものである。
である。フェニルアルキニルR3の置換基は、例えば、
F、CIまたはBrのようなハロゲン、第3級アミノ;
1〜6個の炭素原子を持つアルコキシ、カルボキシル、
OHおよびCNである。R3は、好ましくはR2と同じ
意味を持つものである。
好ましい具体例においては、式(I)中のRは、置換2
.6−ジフルオロノニン−1−イルであるか、R2とR
3が連結して、式 (式中、Yは上記の意味を持つものである。)の置換基
であって、遊離の、エーテル化またはエステル化(ポリ
オキサアルキレン)基の1個以上で置換されており、こ
のポリオキシアルキレン基はR2に直接結合しているも
のであっても喬基を介して結合しているものであっても
よい。
.6−ジフルオロノニン−1−イルであるか、R2とR
3が連結して、式 (式中、Yは上記の意味を持つものである。)の置換基
であって、遊離の、エーテル化またはエステル化(ポリ
オキサアルキレン)基の1個以上で置換されており、こ
のポリオキシアルキレン基はR2に直接結合しているも
のであっても喬基を介して結合しているものであっても
よい。
特に好まし℃・のはR2が、1へ一3個以上の置換基を
含有しており、その少くとも1つがR2に直接または橋
基を介して結合している、遊離の、またはエーテル化ま
たはエステル化(ポリオキサアルキレン)基でtl)
62 + ’3−ジフルオロフェンー1−イルであるも
のである。
含有しており、その少くとも1つがR2に直接または橋
基を介して結合している、遊離の、またはエーテル化ま
たはエステル化(ポリオキサアルキレン)基でtl)
62 + ’3−ジフルオロフェンー1−イルであるも
のである。
好まし〜・具体例にお見・て、R2およびRは、2.6
−ジフルオロノニン−1−イルであって、これに1種以
上の遊離の、またはエーテル化ポリオキサアルキレン基
が直接または橋基を介して結合して℃・るものであり、
このものはさらに1種または2種の同一または異なる置
換基を含有しているものであってもよい。
−ジフルオロノニン−1−イルであって、これに1種以
上の遊離の、またはエーテル化ポリオキサアルキレン基
が直接または橋基を介して結合して℃・るものであり、
このものはさらに1種または2種の同一または異なる置
換基を含有しているものであってもよい。
式(I)のメタロセンの好ましい基は、2つのR1基が
シクロペンタジェニルC゛またはC7〜C4−アルキル
で置換されているシクロペンタジェニル9であり、R、
,0よびRか、式 %式% (式中、R5およびR6は互に独立してH,F、C1,
またはBrであり R7は、遊離の、またはエーテル化
したまたはエステル化ポリオキサアルキレンであって、
フェニル環に直接または橋基を介して結合しているもの
である。R5およびR6は、好ましくはFである。) の基である。
シクロペンタジェニルC゛またはC7〜C4−アルキル
で置換されているシクロペンタジェニル9であり、R、
,0よびRか、式 %式% (式中、R5およびR6は互に独立してH,F、C1,
またはBrであり R7は、遊離の、またはエーテル化
したまたはエステル化ポリオキサアルキレンであって、
フェニル環に直接または橋基を介して結合しているもの
である。R5およびR6は、好ましくはFである。) の基である。
ポリオキサアルキレン基は、好ましくはC1〜C18−
’好ましくはC3〜C1□、さらに好ましくはC1〜6
−アシルでエステル化されているものがよい。アルキル
の例としては、メチル、エチル、n−および1−プロピ
ル、n−91−およびt−メチル、ペンチル、ヘキシル
、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、
ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシルおよびオクタデ
シルがある。デシルの例としては、ホルミル、アセチル
、プロピオニル、トリフルオロアセチル、ブチリル、ペ
ンタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ドデカノイ
ルおよびベンゾイルがある。エーテル化ポリオキシアル
キレン基も好まし℃・。
’好ましくはC3〜C1□、さらに好ましくはC1〜6
−アシルでエステル化されているものがよい。アルキル
の例としては、メチル、エチル、n−および1−プロピ
ル、n−91−およびt−メチル、ペンチル、ヘキシル
、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、
ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシルおよびオクタデ
シルがある。デシルの例としては、ホルミル、アセチル
、プロピオニル、トリフルオロアセチル、ブチリル、ペ
ンタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ドデカノイ
ルおよびベンゾイルがある。エーテル化ポリオキシアル
キレン基も好まし℃・。
ポリオキサアルキレン基は好ましくは1〜20個、さら
に好ましくは1〜12個、待て好ましくは2〜6個のオ
キサアルキレン単位を含有するものである。(ポリオキ
サアルキレン)基中のアルキレンは、好ましくは2〜6
個、特に2〜・[個の炭素原子を含有するものであり、
特にエチレンまたは1,2−プロピレンを含有スるもの
である。他の具体例は、1,3−プロピレン、1,2−
11.3−、および1,1−ブチレン、ベンチレンオヨ
ヒヘキンレンでアル。ポリオキサアルキレン基は、種々
のアルキレン基も含有することができる。
に好ましくは1〜12個、待て好ましくは2〜6個のオ
キサアルキレン単位を含有するものである。(ポリオキ
サアルキレン)基中のアルキレンは、好ましくは2〜6
個、特に2〜・[個の炭素原子を含有するものであり、
特にエチレンまたは1,2−プロピレンを含有スるもの
である。他の具体例は、1,3−プロピレン、1,2−
11.3−、および1,1−ブチレン、ベンチレンオヨ
ヒヘキンレンでアル。ポリオキサアルキレン基は、種々
のアルキレン基も含有することができる。
好ましい具体例において、ポリオキサアルキレン基は、
式 %式%) (式中、Zは2〜(3の数であり、0は1〜20の数で
あり R9は水素またはC7〜C18−アルキルL r
W)勺。ノ )こ相当する。
式 %式%) (式中、Zは2〜(3の数であり、0は1〜20の数で
あり R9は水素またはC7〜C18−アルキルL r
W)勺。ノ )こ相当する。
本発明のチタノセンの好ましい群は、橋基が式−8−5
−o−1−oso2−1CH0−1−CH(CH5)O
−1−NCH2CI■2(、−NRCH,、CH2<、
請CH2CH2−NR”−1「 +J −: /O NRCH2CH9NR,NCHCHNL 、 −CH
2N、2 2 + −CI NR1O−1−C)l(COO−) 2、−C
H2COO−1−C0NRl0−1CH(CONR”
0−)2、−CH2(Co〆)2、−CH2CH2R−
1−CH2CO<、−co<、−0C(0)O−1−N
(R” )−COO−1−CH2N(R” )−COO
−1N(R)−CONH−2−CH2N(R10)−C
ONH−または−CnN2nOC(0)CnN2n0C
(0)C,1または2であり、m−1〜6)、−c、H
2nsIR;1yOy−(n =1〕、1頂たは2、y
=l〜3)、または−OCH2CH20S i R3与
Oy (y−1〜3 )、〔R10はH,C,〜C18
−アルキルまたはC1〜C18−アシルであり、RI
lはC1〜C1゜−アルキルまた・はフェニルであ6゜
〕 のものである。
−o−1−oso2−1CH0−1−CH(CH5)O
−1−NCH2CI■2(、−NRCH,、CH2<、
請CH2CH2−NR”−1「 +J −: /O NRCH2CH9NR,NCHCHNL 、 −CH
2N、2 2 + −CI NR1O−1−C)l(COO−) 2、−C
H2COO−1−C0NRl0−1CH(CONR”
0−)2、−CH2(Co〆)2、−CH2CH2R−
1−CH2CO<、−co<、−0C(0)O−1−N
(R” )−COO−1−CH2N(R” )−COO
−1N(R)−CONH−2−CH2N(R10)−C
ONH−または−CnN2nOC(0)CnN2n0C
(0)C,1または2であり、m−1〜6)、−c、H
2nsIR;1yOy−(n =1〕、1頂たは2、y
=l〜3)、または−OCH2CH20S i R3与
Oy (y−1〜3 )、〔R10はH,C,〜C18
−アルキルまたはC1〜C18−アシルであり、RI
lはC1〜C1゜−アルキルまた・はフェニルであ6゜
〕 のものである。
好ましくはRは01〜C1□−アルキル、RはH、C,
<、8−アルキルまたはC1〜”l11−アシルであり
、RはC−C,□−アルキル、Zが2〜(の数で、かつ
0が2〜Gの数である。
<、8−アルキルまたはC1〜”l11−アシルであり
、RはC−C,□−アルキル、Zが2〜(の数で、かつ
0が2〜Gの数である。
本発明のチタノセンの特に好ましい群にお(・て、橋基
を介して結合したポリオキサアルキンン基は、式 %式% または−〇〇〇(CH2CH20寸R (式中、R9は01〜1□−アルキルであり、RI O
はHまたはC1〜C6−アルキルであり、0は2〜6の
数である。) に相当するものである。
を介して結合したポリオキサアルキンン基は、式 %式% または−〇〇〇(CH2CH20寸R (式中、R9は01〜1□−アルキルであり、RI O
はHまたはC1〜C6−アルキルであり、0は2〜6の
数である。) に相当するものである。
弐(I)の特に好ましいチタノセンは、Rかシクロペン
タジェニルまたはメチルシクロペンタジェニル、であり
、R2およびR3は、式(式中、R5およびR6は水素
または弗素であり、0は2〜6の数であり、RはC1〜
C12−アルキルである。) のものであって、特にR5とR6が弗素であるものであ
る。
タジェニルまたはメチルシクロペンタジェニル、であり
、R2およびR3は、式(式中、R5およびR6は水素
または弗素であり、0は2〜6の数であり、RはC1〜
C12−アルキルである。) のものであって、特にR5とR6が弗素であるものであ
る。
式(I)のチタノセンの具体例を示すと下記の通りであ
る。すなわち、′ビス(シクロペンタジェニル)−ビス
(4−(1’、 4’、、 7’−)リオキサウンデシ
ル)−2,3,5,6−チトラフルオコフエニル〕−チ
タニウム、ビス(メチルシクロペンタジェニル)−ビス
(4−(t’ 、 4’ 、 7’−トリオキサウンデ
シル) −2+ 3 、5 、6−テトラフルオロフェ
ニル〕−チタニウム、ビス(シクロペンタジェニル)−
ビスC−1−(1’。
る。すなわち、′ビス(シクロペンタジェニル)−ビス
(4−(1’、 4’、、 7’−)リオキサウンデシ
ル)−2,3,5,6−チトラフルオコフエニル〕−チ
タニウム、ビス(メチルシクロペンタジェニル)−ビス
(4−(t’ 、 4’ 、 7’−トリオキサウンデ
シル) −2+ 3 、5 、6−テトラフルオロフェ
ニル〕−チタニウム、ビス(シクロペンタジェニル)−
ビスC−1−(1’。
4/ 、 7/ 、 lo/−テトラオキサドデシル)
−2゜3.5.6−チトラフルオロフエニル〕−チタニ
ウム、ビス(メチルシクロペンタジェニル)−ビス〔二
3− (1’、 4’、 7’−トリ万キサヘンデシル
)−2,a−ジフルオロフェニルヨーチタニウム、ビス
(シクロペンタジェニル)−ビス(3−(1’、4’、
7’、10’−トリオキサドデシル) −2、6−)
tJフルオロフェニル)−チタニウムおよびビス(シク
ロペンタジェニル)−ビスC;3− (1’ 、 4’
−ジオキサペンチル)−2゜6−ジフルオロフェニル〕
−チタニウムテアル。
−2゜3.5.6−チトラフルオロフエニル〕−チタニ
ウム、ビス(メチルシクロペンタジェニル)−ビス〔二
3− (1’、 4’、 7’−トリ万キサヘンデシル
)−2,a−ジフルオロフェニルヨーチタニウム、ビス
(シクロペンタジェニル)−ビス(3−(1’、4’、
7’、10’−トリオキサドデシル) −2、6−)
tJフルオロフェニル)−チタニウムおよびビス(シク
ロペンタジェニル)−ビスC;3− (1’ 、 4’
−ジオキサペンチル)−2゜6−ジフルオロフェニル〕
−チタニウムテアル。
式(I)のチタノセンは、式(5)
(式中、R1は上記の通りであり、Zはハロゲンであり
、特にCI がよい。) の化合物の1モルをLiR2またはLiR301モルと
反応させ、さらにLiR2およびLiR3の1モルとそ
れぞれ反応させるか、または2モルのLiR2く式中R
2は上記の通りであり、Rはアルキニル、非置換または
置換フェニルアルキニル、凡、CN、5iR3またはS
nR;である)と反応させ、公知の方法で式(I)の化
合物を単離させることによって公知の製造法または類似
の製造法によって′M造することができる。
、特にCI がよい。) の化合物の1モルをLiR2またはLiR301モルと
反応させ、さらにLiR2およびLiR3の1モルとそ
れぞれ反応させるか、または2モルのLiR2く式中R
2は上記の通りであり、Rはアルキニル、非置換または
置換フェニルアルキニル、凡、CN、5iR3またはS
nR;である)と反応させ、公知の方法で式(I)の化
合物を単離させることによって公知の製造法または類似
の製造法によって′M造することができる。
公知方法は、例えばJ、 Organometal、
Chem、。
Chem、。
2 (1964年)206〜212頁、 J、 Org
anometal。
anometal。
Chem、、 4 (1965年)445〜446頁お
よびヨーロッパ特許A Q、12Q、QQ3中に記載さ
れている。
よびヨーロッパ特許A Q、12Q、QQ3中に記載さ
れている。
Zが特に塩素である式■の出発物質は公知であり、Ti
Cl4をナトリウム化合物のNaRと反応させる類似反
応によって得ることができる。
Cl4をナトリウム化合物のNaRと反応させる類似反
応によって得ることができる。
リチウム化合物のLiR3およびLiR2も同様に公知
であり、R2−またはR3−ノ・ライド、特にブロマイ
ドをブチルリチウムと反応させる類似反応によって製造
することがでざる。第3アミノエチル基によって置換さ
れる誘導体は、例えば、対応するジフルオロジブロモフ
ェニル化合物を、マスリチウムジフルオロブロモフェニ
ル化合物にし、次にこれをN、N−ジアルキルメチレン
アンモニウムクロライドと反応させ、得られたジアルキ
ルアミノメチル−ジフルオロブロモフェニルを、ブチル
リチウムと反応させることによって、対応すりリチウム
化合物にする類似方法によって製造することができる。
であり、R2−またはR3−ノ・ライド、特にブロマイ
ドをブチルリチウムと反応させる類似反応によって製造
することがでざる。第3アミノエチル基によって置換さ
れる誘導体は、例えば、対応するジフルオロジブロモフ
ェニル化合物を、マスリチウムジフルオロブロモフェニ
ル化合物にし、次にこれをN、N−ジアルキルメチレン
アンモニウムクロライドと反応させ、得られたジアルキ
ルアミノメチル−ジフルオロブロモフェニルを、ブチル
リチウムと反応させることによって、対応すりリチウム
化合物にする類似方法によって製造することができる。
遊離の、またはエーテル化またはエステル化ポリオキサ
アルキレン基は、公知の方法によってR2−ハライドの
中に導入する。橋基のために適した先駆体を含有する官
能性R−・・フィトは例えば、L、S、Kobrina
によって、Fl uor ineChemi s t
ry Rev i ews第7巻、 1〜L 14頁に
ューヨークのMarcel Dekker社から197
4年発行)中に記載されている。
アルキレン基は、公知の方法によってR2−ハライドの
中に導入する。橋基のために適した先駆体を含有する官
能性R−・・フィトは例えば、L、S、Kobrina
によって、Fl uor ineChemi s t
ry Rev i ews第7巻、 1〜L 14頁に
ューヨークのMarcel Dekker社から197
4年発行)中に記載されている。
式(Ilのメタロセンは、通常、不活性溶媒の存在下に
、例えば炭化水素またはエーテルの存在下に不活性ガス
雰囲気中で−30〜−100’C1好ましくは一60〜
90℃の温度で製造することができる。具体例を示せば
、LiRまたはLiR3はまずエーテル溶媒中で一78
°Cの温度で、対応するハライドをリチウムブチルと反
応させることによって製造する。冷却した反応混合物に
対応のチタノセンジ・・ライドを加え、冷却手段を除去
し、混合物を室温まで温める。必要に応じて、溶媒を添
加してから、反応混合物を濾過し、本発明のチタノセン
化合物を沈澱によるかまたは溶媒の蒸発によって単離さ
せる。
、例えば炭化水素またはエーテルの存在下に不活性ガス
雰囲気中で−30〜−100’C1好ましくは一60〜
90℃の温度で製造することができる。具体例を示せば
、LiRまたはLiR3はまずエーテル溶媒中で一78
°Cの温度で、対応するハライドをリチウムブチルと反
応させることによって製造する。冷却した反応混合物に
対応のチタノセンジ・・ライドを加え、冷却手段を除去
し、混合物を室温まで温める。必要に応じて、溶媒を添
加してから、反応混合物を濾過し、本発明のチタノセン
化合物を沈澱によるかまたは溶媒の蒸発によって単離さ
せる。
生成物は通常、液状、樹脂状に至るまでのシロップ状で
あって通常オレンジ色の化合物ですぐれた熱安定性を有
しており、高温下においてのみ分解する。空気の作用お
よび水の作用下では分解は認められない。本発明の化合
物は、かなりの多量でも硬化性組成物中に容易に溶解さ
せることができるか、またはこれらを7昆合させること
ができるので、使用の際に有利である。
あって通常オレンジ色の化合物ですぐれた熱安定性を有
しており、高温下においてのみ分解する。空気の作用お
よび水の作用下では分解は認められない。本発明の化合
物は、かなりの多量でも硬化性組成物中に容易に溶解さ
せることができるか、またはこれらを7昆合させること
ができるので、使用の際に有利である。
本発明の化合物は溶媒中にも非常にすみやかに溶解させ
ることができ、硬化性組成物中に溶媒のかたちで混入し
、その後、溶媒を必要に応じて除去してもよい。
ることができ、硬化性組成物中に溶媒のかたちで混入し
、その後、溶媒を必要に応じて除去してもよい。
本発明の化合物は暗所で貯蔵安定性を持ち、不活性ガス
なしでも取扱うことができる。本発明の化合物はそれ自
身で、エチレン性不飽和化合物の光誘発重合の極めて有
効な光重合開始剤としても非常にすぐれている。すなわ
ち、200nm(紫外線)〜GOOnmの広い波長範囲
にわたって非常にすぐれた感光性と有効性を有するもの
である。本発明のチタノセンはさらに熱の影響下に有効
に重合開始することができ、170°C〜240℃まで
に加熱するのがよい。光の作用および加熱も無論重合に
利用することができ、重合の際、露光後に加熱すれば、
さらに低い温度、例えば80〜150°Cの加熱ですむ
。
なしでも取扱うことができる。本発明の化合物はそれ自
身で、エチレン性不飽和化合物の光誘発重合の極めて有
効な光重合開始剤としても非常にすぐれている。すなわ
ち、200nm(紫外線)〜GOOnmの広い波長範囲
にわたって非常にすぐれた感光性と有効性を有するもの
である。本発明のチタノセンはさらに熱の影響下に有効
に重合開始することができ、170°C〜240℃まで
に加熱するのがよい。光の作用および加熱も無論重合に
利用することができ、重合の際、露光後に加熱すれば、
さらに低い温度、例えば80〜150°Cの加熱ですむ
。
このように、本発明は、放射mK−よって重合させるこ
とかでさる組成物であって、(a)1個以上の重合性エ
チレン性不飽和二重結合を有する。
とかでさる組成物であって、(a)1個以上の重合性エ
チレン性不飽和二重結合を有する。
1種以上の非揮発性モノマー、オリゴマーまたはポリマ
ー化合物と、(b)光重合開始剤としての1種以上の式
(I)のチタノセンを含有している組成物に関するもの
である。
ー化合物と、(b)光重合開始剤としての1種以上の式
(I)のチタノセンを含有している組成物に関するもの
である。
本発明の組成物は、さらに追加の光重合開始剤(C)を
含有していてもよく例えばベンジルケタール、4−アロ
イル−1,3−ジオキソラン、ジアルコキシアセトフェ
ノンまたはα−ヒドロキシ−またはα−アミノ−アセト
フェノン系またはこれらの混合物を使用できる。有利な
点は、本発明のチタノセンの量をさらに少くすることが
でき、それにもかかわらず同一または改良された感光度
が達成できる点である。成分(C):成分(DJの重量
比は例えばl:1〜30:1、好ましくは5:1〜15
:1にすることができる。
含有していてもよく例えばベンジルケタール、4−アロ
イル−1,3−ジオキソラン、ジアルコキシアセトフェ
ノンまたはα−ヒドロキシ−またはα−アミノ−アセト
フェノン系またはこれらの混合物を使用できる。有利な
点は、本発明のチタノセンの量をさらに少くすることが
でき、それにもかかわらず同一または改良された感光度
が達成できる点である。成分(C):成分(DJの重量
比は例えばl:1〜30:1、好ましくは5:1〜15
:1にすることができる。
添加させる本発明のチタンセンの量は本質的に経済性、
溶解度および目的とする感光度によって変化する。通常
は成分(a)を基準とし001〜20重量%、好ましく
は0.05〜10重量%、さらに好ましくは0.1〜5
重量%で使用される。
溶解度および目的とする感光度によって変化する。通常
は成分(a)を基準とし001〜20重量%、好ましく
は0.05〜10重量%、さらに好ましくは0.1〜5
重量%で使用される。
使用できる成分(alは、光重合によってさらに分子量
の高い製品にすることができ、重合することによりその
溶解度を変化させるエチレン性不飽和モノマー、オリゴ
マーおよびポリマー化合物である。
の高い製品にすることができ、重合することによりその
溶解度を変化させるエチレン性不飽和モノマー、オリゴ
マーおよびポリマー化合物である。
特に適した化合物は、例えばエチレン性不飽和カルボン
酸およびポリオールのエステルまたはポリエポキシド、
直鎖中または側鎖基中にエチレン性不飽和基を含むポリ
マー、例えば、不飽和ポリエステル、ポリアミドおよび
ポリやレタンおよびこれらのコポリマー、ポリブタジェ
ン、ブタジェンコポリマー、ポリイソプレンおよびイソ
プレンコポリマー、側鎖に(メタ)アクリル基を有する
ポリマーおよびコポリマー、および1種以上のこのよう
なポリマーの混合物である。
酸およびポリオールのエステルまたはポリエポキシド、
直鎖中または側鎖基中にエチレン性不飽和基を含むポリ
マー、例えば、不飽和ポリエステル、ポリアミドおよび
ポリやレタンおよびこれらのコポリマー、ポリブタジェ
ン、ブタジェンコポリマー、ポリイソプレンおよびイソ
プレンコポリマー、側鎖に(メタ)アクリル基を有する
ポリマーおよびコポリマー、および1種以上のこのよう
なポリマーの混合物である。
不飽和カルボン酸の例としては、アクリル酸、メタクリ
ル酸、クロトン酸、イタコン酸、桂皮酸、さらにはリル
イ/酸またはオレイン酸のような不飽和脂肪酸がある。
ル酸、クロトン酸、イタコン酸、桂皮酸、さらにはリル
イ/酸またはオレイン酸のような不飽和脂肪酸がある。
アクリル酸およびメタアクリル酸が好ましい。
適当なポリオールは、芳香族ポリオール、特に脂肪族ポ
リオールおよび脂環族ポリオールである。芳香族ポリオ
ールの例としては、ハイドロキノン、4 、4’−ジヒ
ドロキシジフェニル、2.2−ジ(4−ヒドロキシフェ
ニル)−プロパン、ノボラックおよびレゾールがある。
リオールおよび脂環族ポリオールである。芳香族ポリオ
ールの例としては、ハイドロキノン、4 、4’−ジヒ
ドロキシジフェニル、2.2−ジ(4−ヒドロキシフェ
ニル)−プロパン、ノボラックおよびレゾールがある。
ポリエポキシドの例は、上述のポリオールをペースとす
るものであり、特に芳香族ポリオールおよびエピクロロ
ヒドリンがある。さらに、ポリマ一連鎖または側鎖基に
ヒドロキシル基を含有するポリマーまたはコポリマー、
例えばポリビニルアルコールおよびそのコポリマー、ま
たはポリメタクリル酸ヒドロキシルアルキルエステルま
たはこれらのコポリマーも、ポリオールとして適してい
る。他の適切なポリオールは、ヒドロキシ末端基を持つ
オリゴマーである。
るものであり、特に芳香族ポリオールおよびエピクロロ
ヒドリンがある。さらに、ポリマ一連鎖または側鎖基に
ヒドロキシル基を含有するポリマーまたはコポリマー、
例えばポリビニルアルコールおよびそのコポリマー、ま
たはポリメタクリル酸ヒドロキシルアルキルエステルま
たはこれらのコポリマーも、ポリオールとして適してい
る。他の適切なポリオールは、ヒドロキシ末端基を持つ
オリゴマーである。
脂肪族および脂環族ポリオールの例としては、エチレン
グリコール、1.2−または1,3−プロパンジオール
、1,2−51,3−または1 、4− フタンシオー
ル、ベンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジ
オール、ドデカンジオール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、分子量200〜1,500のポ
リエチレングリコール、1.3−シクロベンタンジオー
ル、1.2−51.3−または1,4−シクロヘキサン
ジオール、1.4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン
、グリセロール、トリス−(β−ヒドロキシエチル)−
アミン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリトリトール、ジペンタエリトリトールお
よびソルビトールのような好ましくは炭素数2〜12の
アルキレンジオールを挙げることができる。
グリコール、1.2−または1,3−プロパンジオール
、1,2−51,3−または1 、4− フタンシオー
ル、ベンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジ
オール、ドデカンジオール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、分子量200〜1,500のポ
リエチレングリコール、1.3−シクロベンタンジオー
ル、1.2−51.3−または1,4−シクロヘキサン
ジオール、1.4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン
、グリセロール、トリス−(β−ヒドロキシエチル)−
アミン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリトリトール、ジペンタエリトリトールお
よびソルビトールのような好ましくは炭素数2〜12の
アルキレンジオールを挙げることができる。
ポリオールは、1種以上の不飽和カルボン酸で部分的に
または完全にエステル化されているものであってもよく
、また、部分エステル中の遊離のヒドロキシル基につい
て、例えハニーチル化するとか、他のカルボン酸でエス
テル化スることにより変性を行ってもよい。
または完全にエステル化されているものであってもよく
、また、部分エステル中の遊離のヒドロキシル基につい
て、例えハニーチル化するとか、他のカルボン酸でエス
テル化スることにより変性を行ってもよい。
エステルの例としては、トリメチロールプロパントリア
クリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、
トリメチコールプロパントリメタクリレート、トリメチ
ロールエタントリメタクリレート、テトラメチレングリ
コールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメ
タクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリトリトールジアクリレート、 ペ
ン タ エ リ ト リ ト − ル ト リ
ア り リ し − ト 、ペンタエリトリトールテト
ラアクリレート、ジペンタエリトリトールジアクリレー
ト、ジペンタエリトリトールトリアクリレート、ジペン
タエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリト
リトールペンタアクリレート、ジペンタエリトリトール
へキサアクリレート、トリペンタエリトリトールオクタ
アクリレート、ペンタエリトリトールジメチルアクリレ
ート、ペンタエリ[・リトールトリメタクリレート、ジ
ペンタエリトリトールジメタクリレート、ジペンタエリ
トリトールテトラメタクリレート、トリペンタエリトリ
トールオクタメタクリレート、ペンタエリトリi・−ル
ノイタコネート、ジペンタエリトリトールトリスイタコ
ネート、ジペンタエリトリ;・−ルペンタイタコ坏−ト
、ジペンタエリトリトールへキサイタコネート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオー
ルジアクリレート、1.3−ブタンジオールジメタクリ
レート、1.4−ブタンジオールシイタコネート、ソル
ビトールトリアクリレート、ノルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールテトラメタクリレート、ンルビト
ールペノタクリレート、ソルビトールへキサアクリレー
ト、オリゴエステルアクリレートおよびメタクリレート
、グリセロール、ジーおよびトリアクリレート、1,4
−シクロヘキサンジアクリレート、分子量200〜l、
500のポリエチレングリコールのビスアク1.)レ
ートおよびビスメタクリレートまたはこれらのン昆合物
がある。
クリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、
トリメチコールプロパントリメタクリレート、トリメチ
ロールエタントリメタクリレート、テトラメチレングリ
コールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメ
タクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリトリトールジアクリレート、 ペ
ン タ エ リ ト リ ト − ル ト リ
ア り リ し − ト 、ペンタエリトリトールテト
ラアクリレート、ジペンタエリトリトールジアクリレー
ト、ジペンタエリトリトールトリアクリレート、ジペン
タエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリト
リトールペンタアクリレート、ジペンタエリトリトール
へキサアクリレート、トリペンタエリトリトールオクタ
アクリレート、ペンタエリトリトールジメチルアクリレ
ート、ペンタエリ[・リトールトリメタクリレート、ジ
ペンタエリトリトールジメタクリレート、ジペンタエリ
トリトールテトラメタクリレート、トリペンタエリトリ
トールオクタメタクリレート、ペンタエリトリi・−ル
ノイタコネート、ジペンタエリトリトールトリスイタコ
ネート、ジペンタエリトリ;・−ルペンタイタコ坏−ト
、ジペンタエリトリトールへキサイタコネート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオー
ルジアクリレート、1.3−ブタンジオールジメタクリ
レート、1.4−ブタンジオールシイタコネート、ソル
ビトールトリアクリレート、ノルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールテトラメタクリレート、ンルビト
ールペノタクリレート、ソルビトールへキサアクリレー
ト、オリゴエステルアクリレートおよびメタクリレート
、グリセロール、ジーおよびトリアクリレート、1,4
−シクロヘキサンジアクリレート、分子量200〜l、
500のポリエチレングリコールのビスアク1.)レ
ートおよびビスメタクリレートまたはこれらのン昆合物
がある。
適当な成分(a)は、好ましくは2〜(3の、特に2〜
4のアミン基を持つ芳香族、指環族、脂肪族ポリアミン
の、同一または異なる不飽和カルボン酸のアミドでもあ
る。このようなポリアミンの例としては、エチレンジア
ミン、1.2〜または1.3−プロピレンジアミン、1
,2−11.3−または1.4−ブチレンジアミン、1
゜5−ペンチレンジアミン、1.6−ヘキジレンジアミ
ン、オクチレンジアミン、ドデシレンジア(ン、1,4
−ジアミノシクロヘキサン、イノホロンジアミン、フェ
ニレンジアミン、ビス−7二二レンジアミン、シーβ−
アミノエチルエーテル、ジエチレントリアミン、トリエ
チレ2デト而ミンおよびジー(β−アミノエトキシ)−
工たはジー(β−アミノプロポキン)−エタンがある。
4のアミン基を持つ芳香族、指環族、脂肪族ポリアミン
の、同一または異なる不飽和カルボン酸のアミドでもあ
る。このようなポリアミンの例としては、エチレンジア
ミン、1.2〜または1.3−プロピレンジアミン、1
,2−11.3−または1.4−ブチレンジアミン、1
゜5−ペンチレンジアミン、1.6−ヘキジレンジアミ
ン、オクチレンジアミン、ドデシレンジア(ン、1,4
−ジアミノシクロヘキサン、イノホロンジアミン、フェ
ニレンジアミン、ビス−7二二レンジアミン、シーβ−
アミノエチルエーテル、ジエチレントリアミン、トリエ
チレ2デト而ミンおよびジー(β−アミノエトキシ)−
工たはジー(β−アミノプロポキン)−エタンがある。
他の適当なポリアミンは側鎖にアミジ(のあるポリマー
およびコポリマー、および:’l 、’−y末端基を持
つオリゴアミドである。
およびコポリマー、および:’l 、’−y末端基を持
つオリゴアミドである。
このような不飽和アミドの例には、メチレンービスーー
アクリルアミド、1,6−へキサメチレノ−ビス−アク
リルアミド、ジエチレン−トリアミン−トリス−メチル
アクリルアミド、ビス(メタクリルアミド−プロポキシ
)エタン、β−メタクリルアミドエチルメタクリレート
およびN〔β−ヒドロキシエトキシ)エチル〕−アクリ
ルアミドがある。
アクリルアミド、1,6−へキサメチレノ−ビス−アク
リルアミド、ジエチレン−トリアミン−トリス−メチル
アクリルアミド、ビス(メタクリルアミド−プロポキシ
)エタン、β−メタクリルアミドエチルメタクリレート
およびN〔β−ヒドロキシエトキシ)エチル〕−アクリ
ルアミドがある。
不飽和ポリエステルおよびポリアミドとして適するもの
は、例えば、マレイン酸とジオールまたはジアミンから
導びかれるものである。マレイン酸はその一部を他のジ
カルボ/酸:・こ置キかえることもできる。エチレン性
不飽和二モノマー、例えばスチレンを一緒(て使用した
ものであってもよい。ポリエステルおよびポリアミドは
、ジカルボン酸とエチレン性不飽和ジオール頂たはジア
ミン、特に例えば6〜20個の大素原子を含む、長鎖化
合物から導ひかれたものであってもよい。ポリウレタン
の例としては、飽和または不飽和ジイソシアネートと不
飽和または飽和のジオールから製造されたものがある。
は、例えば、マレイン酸とジオールまたはジアミンから
導びかれるものである。マレイン酸はその一部を他のジ
カルボ/酸:・こ置キかえることもできる。エチレン性
不飽和二モノマー、例えばスチレンを一緒(て使用した
ものであってもよい。ポリエステルおよびポリアミドは
、ジカルボン酸とエチレン性不飽和ジオール頂たはジア
ミン、特に例えば6〜20個の大素原子を含む、長鎖化
合物から導ひかれたものであってもよい。ポリウレタン
の例としては、飽和または不飽和ジイソシアネートと不
飽和または飽和のジオールから製造されたものがある。
ボ・ノブタジエンおよびポリイソプレンおよびこれらの
コポリマーが公知である。コポリマーの例として適する
ものとしては、例えばエチレン、プロペン、ブテン、ヘ
ギセン、(メ、p )アクリレート、アクリロニトリル
、スチレンまたは塩化ビニルとのコポリマーである。
コポリマーが公知である。コポリマーの例として適する
ものとしては、例えばエチレン、プロペン、ブテン、ヘ
ギセン、(メ、p )アクリレート、アクリロニトリル
、スチレンまたは塩化ビニルとのコポリマーである。
側鎖中に(メタ)アクリレート基を持つポリマーも公知
である。これらのポリマーは例えばノボラック系エポキ
シ樹脂の(メタ)アクリル酸との反応生成物、(メタ)
アクリル酸でエステル化されたポリビニルアルコールま
たはそのアルキル誘導体のホモ−およびコポリマー、ヒ
ドロキシアルキル(メタ)アクリレートでエステル化さ
れた(メタ)アクリレートのホモ−およびコポリマーで
ある。
である。これらのポリマーは例えばノボラック系エポキ
シ樹脂の(メタ)アクリル酸との反応生成物、(メタ)
アクリル酸でエステル化されたポリビニルアルコールま
たはそのアルキル誘導体のホモ−およびコポリマー、ヒ
ドロキシアルキル(メタ)アクリレートでエステル化さ
れた(メタ)アクリレートのホモ−およびコポリマーで
ある。
光重合性化合物は、それら自体として使用してもよく、
所望の混合物として使用してもよい。
所望の混合物として使用してもよい。
ポリオール(メタ)アクリレートの混合物が好ましい。
本発明の組成物には結合剤を添加してもよく、特に光重
合性化合物が液状または粘着性物質である場合には添加
するとよい。結合剤の量は、全組成物を基準として、例
えば5〜95重量%特に好ましくは50〜90重量%で
ある。結合剤は用途分野および水性および有機溶媒系に
おける現象のしやすさ、基体への接着性、および酸素へ
の感受性といった、用途により必要とされる特性により
選択される。
合性化合物が液状または粘着性物質である場合には添加
するとよい。結合剤の量は、全組成物を基準として、例
えば5〜95重量%特に好ましくは50〜90重量%で
ある。結合剤は用途分野および水性および有機溶媒系に
おける現象のしやすさ、基体への接着性、および酸素へ
の感受性といった、用途により必要とされる特性により
選択される。
結合剤として適するものの例としては、5,000〜2
,000,000 、好ましくは10,000〜1,
000,000の分子量のポリマーである。例としては
、メチルメタクリレート/エチルアクリレート/メタク
リル酸のコポリマー、ポリ(メタクリル酸アルキルエス
テル)およびポリ(アクリッジ酸アルキルエステル)の
ようなアクリレートおよびメタクリレートのホモ−およ
びコポリマー;酢酸セルコース、セルロースアセトブチ
レート、メチルセルロースおよびエチルセルロースの、
ようなセルロースエステルおよびセルロースエーテル;
ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、環化ラ
バーおよび、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオ
キシドおよびポリテトラヒドロフランのようなポリエー
テル;ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリウレタン
、塩素化ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル
/塩化ビニリデンコポリマー、塩化ビニリデンと、アク
リロニトリル、メチルメタクリレートまたは酢酸ビニル
とのコポリマー、ポリ酢酸ビニル、エチレン/酢酸ビニ
ルコポリマー、ポリカプロラタムおよびポリ(ヘキサメ
チレンジアジパミド)のようなポリアミド、およびポリ
(エチレングリコールテレフタレート)およびポリ(ヘ
キサメチレングリコールスクシネート)のようなポリエ
ステルがある。
,000,000 、好ましくは10,000〜1,
000,000の分子量のポリマーである。例としては
、メチルメタクリレート/エチルアクリレート/メタク
リル酸のコポリマー、ポリ(メタクリル酸アルキルエス
テル)およびポリ(アクリッジ酸アルキルエステル)の
ようなアクリレートおよびメタクリレートのホモ−およ
びコポリマー;酢酸セルコース、セルロースアセトブチ
レート、メチルセルロースおよびエチルセルロースの、
ようなセルロースエステルおよびセルロースエーテル;
ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、環化ラ
バーおよび、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオ
キシドおよびポリテトラヒドロフランのようなポリエー
テル;ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリウレタン
、塩素化ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル
/塩化ビニリデンコポリマー、塩化ビニリデンと、アク
リロニトリル、メチルメタクリレートまたは酢酸ビニル
とのコポリマー、ポリ酢酸ビニル、エチレン/酢酸ビニ
ルコポリマー、ポリカプロラタムおよびポリ(ヘキサメ
チレンジアジパミド)のようなポリアミド、およびポリ
(エチレングリコールテレフタレート)およびポリ(ヘ
キサメチレングリコールスクシネート)のようなポリエ
ステルがある。
本発明の組成物は、羊毛、紙、ポリエステルおよび酢酸
セルロースフィルムのようなプラス−y−プラス、銅お
よびアルミニウムのような金属のようなすべてのタイプ
の基体へのコーティング剤として有用であり、これらの
場合保護層または写真画像は重合によって施される。本
発明はさらに、被覆された基体、および基体に光重合性
画像を施すための方法にも関するものである。
セルロースフィルムのようなプラス−y−プラス、銅お
よびアルミニウムのような金属のようなすべてのタイプ
の基体へのコーティング剤として有用であり、これらの
場合保護層または写真画像は重合によって施される。本
発明はさらに、被覆された基体、および基体に光重合性
画像を施すための方法にも関するものである。
基体は、基体に液状組成物、溶液または懸濁液を塗布す
ることによって被覆することができる。溶媒なしの液状
組成物が好ましい。本発明のチタノセンは、他の光重合
開始剤、例えばベンジルケタール、4−アロイル−1,
3−ジオキソラン、ジアルコキシアセトフェノン、α−
ヒドロキシ−またはα−アミノアセトフェノ/またはこ
れらの混合物を含有する液状光重合開始剤混合物の形態
で使用するのがよい。液体から固体状の光重合開始剤を
液体状チタノセンの混合物、または液体状の光重合開始
剤とシロップ状から固体状のチタノセンの混合物が特に
好ましい。このような混合物は、特に実用上有利であり
、暗所に貯蔵した場合、すぐれた安定性を示す。
ることによって被覆することができる。溶媒なしの液状
組成物が好ましい。本発明のチタノセンは、他の光重合
開始剤、例えばベンジルケタール、4−アロイル−1,
3−ジオキソラン、ジアルコキシアセトフェノン、α−
ヒドロキシ−またはα−アミノアセトフェノ/またはこ
れらの混合物を含有する液状光重合開始剤混合物の形態
で使用するのがよい。液体から固体状の光重合開始剤を
液体状チタノセンの混合物、または液体状の光重合開始
剤とシロップ状から固体状のチタノセンの混合物が特に
好ましい。このような混合物は、特に実用上有利であり
、暗所に貯蔵した場合、すぐれた安定性を示す。
ペンシリケタールの例としては1式
(式中、R13=R14=−CH3、−CH2CH3、
−(CH2)2CH3、−(CH2) 、CH3、−C
H2C)!2CH(CH3)2、−CH2−CH−C,
、Ho、−(CH2)9CH3、−C,oH21−is
o 。
−(CH2)2CH3、−(CH2) 、CH3、−C
H2C)!2CH(CH3)2、−CH2−CH−C,
、Ho、−(CH2)9CH3、−C,oH21−is
o 。
□
C2H,。
−C,2H,,5−n、−C9H19〜−011H23
混合物、C1□−R25=−C15丁(31混合物、−
CH2CH−CH2、−CH(CH3)CH−CH2、
−CH2CH2QC3H7−i so、−C)H2C)
(20C4H0、−CH2CH20CH2CH−CH2
、−CH(CH3)−CH2CH9、−CH2COOC
H3、−CM 2COOC4H9、−CH(CH3)C
OOCH3、−CH,、CH2C00C2H,、、−C
H(CH3)CH2COOCH3、−CH2CH20H
(CH3)OCH3、−(CH2CH20)2C2H5
、−(CH2CH20)2C4H9、−(CH2CH2
0) 3CH3、−(CH2CH20)3C2H5、−
(CH2CH20)3C2H5、−(CH2CH20)
3CI2H25、−(CHCHO) CH、−(CH2
CH20)8−C8馬、〜−C1lH2:l (混合物
)、 ありR13−C6H13であるか、 R” = CH3
であり、R−C1oH2□であるか、R14−CH3で
あり、R13=(−CH2CH20)3C1□H25〜
−CI5H31(混合物)であるか、R14−CH3で
あり、R13−(−CH2C)(20) 、、C8H,
、〜−C1□H23(混合物)であるか、またはR”
= CH3であり、で示されるものがある。
混合物、C1□−R25=−C15丁(31混合物、−
CH2CH−CH2、−CH(CH3)CH−CH2、
−CH2CH2QC3H7−i so、−C)H2C)
(20C4H0、−CH2CH20CH2CH−CH2
、−CH(CH3)−CH2CH9、−CH2COOC
H3、−CM 2COOC4H9、−CH(CH3)C
OOCH3、−CH,、CH2C00C2H,、、−C
H(CH3)CH2COOCH3、−CH2CH20H
(CH3)OCH3、−(CH2CH20)2C2H5
、−(CH2CH20)2C4H9、−(CH2CH2
0) 3CH3、−(CH2CH20)3C2H5、−
(CH2CH20)3C2H5、−(CH2CH20)
3CI2H25、−(CHCHO) CH、−(CH2
CH20)8−C8馬、〜−C1lH2:l (混合物
)、 ありR13−C6H13であるか、 R” = CH3
であり、R−C1oH2□であるか、R14−CH3で
あり、R13=(−CH2CH20)3C1□H25〜
−CI5H31(混合物)であるか、R14−CH3で
あり、R13−(−CH2C)(20) 、、C8H,
、〜−C1□H23(混合物)であるか、またはR”
= CH3であり、で示されるものがある。
■−アコイルー1.3−ジオキソランの例としては、4
−ベンゾイル−2,2,4−トリメチル−1,3−ジオ
キソラン、4−ベンゾイル−4−メチル−2,2−テト
ラメチレン−1゜3−ジオキソラン、4−ベンゾイル−
4−メチル−2,2−ペンタメチレン−1,3−ジオキ
ソラン、ジス−トランス−4−ベンゾイル−2゜4−ジ
メチル−2−メトキシメチル−1,3−ジオキソラン、
シス−トランス−4−ベンゾイル−4−メチル−2−フ
ェニル−1,3−ジオキソラン、4−(4−メトキシベ
ンゾイル)−2,2,4−トリメチル−1,3−ジオキ
ソラン、4−(4−メトキシベンゾイル)−4−メチル
−2,2−ペンタメチレン−1,a−ジオキソラ/、4
−(4−メチルベンゾイル)−2゜2.4−トリメチル
−1,3−ジオキソラン、シス−トランス−4−ベンゾ
イル−2−メチル−4−フェニル−1,3−ジオキソラ
ン、4−ベンゾイル−2,2,4,5,5−ペンタメチ
ル−1,3−ジオキソラン、シス−トランス−41−ベ
ンゾイル−2,2,4,5−テトラメチル−1,3−ジ
オキソラン、シス−トランス−4−ベンゾイル、−4−
メチル−2−フェニル−1,3−ジオキソラン、ンスー
トランスー4−ペンゾイルー2−ベンゾイル−21,1
−ジメチル−11,3−ジオキソラン、シス−トランス
−4−ベンゾイル−2−(2−フリル)−4−メチル−
1,3−ジオキソラン、シス−トランス−9■−ベンゾ
イル−5−フェニル−2+ 2 + 4−トリメチル−
1,3−ジオキソランおよび−1−(4−メトキシベン
ゾイル)−2+2+4+5.5−ペンタメチル−1,3
−ジオキソランがある。
−ベンゾイル−2,2,4−トリメチル−1,3−ジオ
キソラン、4−ベンゾイル−4−メチル−2,2−テト
ラメチレン−1゜3−ジオキソラン、4−ベンゾイル−
4−メチル−2,2−ペンタメチレン−1,3−ジオキ
ソラン、ジス−トランス−4−ベンゾイル−2゜4−ジ
メチル−2−メトキシメチル−1,3−ジオキソラン、
シス−トランス−4−ベンゾイル−4−メチル−2−フ
ェニル−1,3−ジオキソラン、4−(4−メトキシベ
ンゾイル)−2,2,4−トリメチル−1,3−ジオキ
ソラン、4−(4−メトキシベンゾイル)−4−メチル
−2,2−ペンタメチレン−1,a−ジオキソラ/、4
−(4−メチルベンゾイル)−2゜2.4−トリメチル
−1,3−ジオキソラン、シス−トランス−4−ベンゾ
イル−2−メチル−4−フェニル−1,3−ジオキソラ
ン、4−ベンゾイル−2,2,4,5,5−ペンタメチ
ル−1,3−ジオキソラン、シス−トランス−41−ベ
ンゾイル−2,2,4,5−テトラメチル−1,3−ジ
オキソラン、シス−トランス−4−ベンゾイル、−4−
メチル−2−フェニル−1,3−ジオキソラン、ンスー
トランスー4−ペンゾイルー2−ベンゾイル−21,1
−ジメチル−11,3−ジオキソラン、シス−トランス
−4−ベンゾイル−2−(2−フリル)−4−メチル−
1,3−ジオキソラン、シス−トランス−9■−ベンゾ
イル−5−フェニル−2+ 2 + 4−トリメチル−
1,3−ジオキソランおよび−1−(4−メトキシベン
ゾイル)−2+2+4+5.5−ペンタメチル−1,3
−ジオキソランがある。
ジアルコキシアセトフェノンの例としては、α、α−ジ
メトキシアセトフェノン、α、α−ジエトキシアセトフ
エノン、α、α−ジ−イソプロポキシアセトフェノン、
α、α−ジー(2−メトキシエトキシ)アでトフエノン
、α−ブトキシ−α−エトキシアセトフェノン、α、α
−ジブトキシ−4−クロロアセトフェノン、α。
メトキシアセトフェノン、α、α−ジエトキシアセトフ
エノン、α、α−ジ−イソプロポキシアセトフェノン、
α、α−ジー(2−メトキシエトキシ)アでトフエノン
、α−ブトキシ−α−エトキシアセトフェノン、α、α
−ジブトキシ−4−クロロアセトフェノン、α。
α−ンエトキシー4−フルオロアセトフェノン、α、α
−ジメトキシー4−メチルアセトフェノン、α、α−ジ
メトキシ−4−メチルアセトフエノン、α、α−ジメト
キシプロピオフェノン、α、α−ジェトキシプロピオフ
ェノン、α、α−ジェトキシブチロフェノン、α、α−
ジメトキシイソバレロフエノン、α、α−ジェトキシー
α−シクロへキシルアセトフェノンおよびα。
−ジメトキシー4−メチルアセトフェノン、α、α−ジ
メトキシ−4−メチルアセトフエノン、α、α−ジメト
キシプロピオフェノン、α、α−ジェトキシプロピオフ
ェノン、α、α−ジェトキシブチロフェノン、α、α−
ジメトキシイソバレロフエノン、α、α−ジェトキシー
α−シクロへキシルアセトフェノンおよびα。
α−ジプロポキシ−4−クロロプロピオフェノンがある
。
。
α−ヒドロキシ−およびα−アミノアセトフェノンの例
としては、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル
−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−エチル−
1−フェニルヘキサン−1−オン、1−(4−ドデシル
フェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1
−オン、1−(2,4−ジメチルフェニル)−2−ヒド
ロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキ
シ−1−(4−メトキシフェニル)−2−メチルプロパ
ン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェ
ニルブタン−1−オン、2−ジメチルアミン−2−メチ
ル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ブチルアミ
ノ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1
−(4−フルオロフェニル)−2−メチル−2−モルホ
リノペンタン−1−オン、2−メチル−1−(4−メチ
ルチオフェニル)−2−モルホリノブタン−1−オン、
2−ジメチルアミノ−1−(4−メトキシフェニル)−
2−メチルプロパン−1−オンおよび2−ジエチルアミ
ノ−1−(4−ジエチルアミノフェニル)−2−メチル
プロパン−1−オンがある。
としては、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル
−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−エチル−
1−フェニルヘキサン−1−オン、1−(4−ドデシル
フェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1
−オン、1−(2,4−ジメチルフェニル)−2−ヒド
ロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキ
シ−1−(4−メトキシフェニル)−2−メチルプロパ
ン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェ
ニルブタン−1−オン、2−ジメチルアミン−2−メチ
ル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ブチルアミ
ノ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1
−(4−フルオロフェニル)−2−メチル−2−モルホ
リノペンタン−1−オン、2−メチル−1−(4−メチ
ルチオフェニル)−2−モルホリノブタン−1−オン、
2−ジメチルアミノ−1−(4−メトキシフェニル)−
2−メチルプロパン−1−オンおよび2−ジエチルアミ
ノ−1−(4−ジエチルアミノフェニル)−2−メチル
プロパン−1−オンがある。
光重合開始剤混合物(b) + (C1を、成分(al
を基準として、0.5〜20重量%、好ましくは1〜1
0重量%の量で添加する。
を基準として、0.5〜20重量%、好ましくは1〜1
0重量%の量で添加する。
溶媒およびその濃度の選択は主として組成物の特性およ
びその塗布方法によって選択することができる。本発明
の組成は、公知手段例えば浸漬法、ナイフコーティング
法、カーテンコーティング法、電着法、ブラシ法、スプ
レー法または逆ロールコーティング法によって基体上に
均一に塗布することができる。塗布する厚さく塗膜厚さ
)および基体(担持層)の特性は、目的とする利用分野
によって決まる。
びその塗布方法によって選択することができる。本発明
の組成は、公知手段例えば浸漬法、ナイフコーティング
法、カーテンコーティング法、電着法、ブラシ法、スプ
レー法または逆ロールコーティング法によって基体上に
均一に塗布することができる。塗布する厚さく塗膜厚さ
)および基体(担持層)の特性は、目的とする利用分野
によって決まる。
例えば、情報の写真記録用の場合には、担持層としては
、ポリエステルフィルム、酢酸セルロースフィルムまた
はプラスチックで被覆された紙が使用される。オフセッ
ト印刷版用の場合には、特殊処理したアルミニウムが使
用され、プリント回路の場合には銅を張った積層物が使
用される。写真材料およびオフセット印刷版の場合の層
の厚さは通常05〜10μmであり、プリント回路の場
合は通常、1〜100μmである。
、ポリエステルフィルム、酢酸セルロースフィルムまた
はプラスチックで被覆された紙が使用される。オフセッ
ト印刷版用の場合には、特殊処理したアルミニウムが使
用され、プリント回路の場合には銅を張った積層物が使
用される。写真材料およびオフセット印刷版の場合の層
の厚さは通常05〜10μmであり、プリント回路の場
合は通常、1〜100μmである。
溶媒を使用することもできるが、この場合塗布後に除去
される。
される。
種々の目的に使用されるような光重合組成物は、通常、
光重合性化合物を光重合開始剤に加えて、他の添加剤も
含有している。成分を混合して組成物を製造する間の早
期重合を防止する目的で熱安定剤を添加することが慣用
的に行われて℃・る。このような目的に使用される熱安
定剤としては、例えばハイドロキノン、ハイドロキノン
誘導体、p−メトキシフェノール、β−ナフトールまた
は例えば2.6−ジ(第:3−ブチル)p−クレゾール
のような立体障害のあるフェノールがある。少量の紫外
線吸収剤、例えばベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン
またはオキサルアニリドタイプのものを、さらに添加し
てもよい。立体障碍アミンタイプ(HALS)の光安定
剤を添加してもよい。
光重合性化合物を光重合開始剤に加えて、他の添加剤も
含有している。成分を混合して組成物を製造する間の早
期重合を防止する目的で熱安定剤を添加することが慣用
的に行われて℃・る。このような目的に使用される熱安
定剤としては、例えばハイドロキノン、ハイドロキノン
誘導体、p−メトキシフェノール、β−ナフトールまた
は例えば2.6−ジ(第:3−ブチル)p−クレゾール
のような立体障害のあるフェノールがある。少量の紫外
線吸収剤、例えばベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン
またはオキサルアニリドタイプのものを、さらに添加し
てもよい。立体障碍アミンタイプ(HALS)の光安定
剤を添加してもよい。
ナフテン酸銅、ステアリン酸銅、万りタン酸銅のような
銅化合物;トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフ
ィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスファイ
トまたはトリベンシイ゛ルホスファイトのようなリン化
合物;テトラメチルアンモニウムクロライド、またはト
リメチルベンゾイルアンモニウムクロライドのような第
4級アンモニウム化合物;またはN−ジエチルヒドロキ
シアミンのようなヒドロキシアミン誘導体も暗所貯蔵安
定性を増すために添加することができる。
銅化合物;トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフ
ィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスファイ
トまたはトリベンシイ゛ルホスファイトのようなリン化
合物;テトラメチルアンモニウムクロライド、またはト
リメチルベンゾイルアンモニウムクロライドのような第
4級アンモニウム化合物;またはN−ジエチルヒドロキ
シアミンのようなヒドロキシアミン誘導体も暗所貯蔵安
定性を増すために添加することができる。
空中酸素の悪影響を排除するために交硬化性混合物にパ
ラフィンや同様のワックス状物質を添加することもしば
しば行われている。重合が開始すると、これらの物質は
ポリマー中への溶解性がないために浮き出て、全党の出
入りを防止する透明な表面層を形成する。
ラフィンや同様のワックス状物質を添加することもしば
しば行われている。重合が開始すると、これらの物質は
ポリマー中への溶解性がないために浮き出て、全党の出
入りを防止する透明な表面層を形成する。
その句の慣用添加剤としては、特定の波長において吸収
し、吸収したエネルギーを重合開始★りに放出するか、
それ自身で補助重合開始剤として作用する光増1寡剤が
ある。これらの例としてはチ丁キサントン、アントラセ
ン、アントラキノンおよびクマリン誘導体がある。
し、吸収したエネルギーを重合開始★りに放出するか、
それ自身で補助重合開始剤として作用する光増1寡剤が
ある。これらの例としてはチ丁キサントン、アントラセ
ン、アントラキノンおよびクマリン誘導体がある。
他の慣用の添加剤としてはアミンタイプの促進剤がSっ
つ、これは連鎖移動剤として作用するので着色配合9勿
中:てだ−・て特;C重要である。これらのflとして
は、N−メチルジェタノールアミン、トリエチルアミン
、エチルp−ジメチルアミ、ノベンゾエートまたはミヒ
ラーのケトンがある。二のようなアミンのf夕月は、ベ
ンツ°フェノンタイプの芳香族ケトンの添加によって強
化されることかでごる。
つ、これは連鎖移動剤として作用するので着色配合9勿
中:てだ−・て特;C重要である。これらのflとして
は、N−メチルジェタノールアミン、トリエチルアミン
、エチルp−ジメチルアミ、ノベンゾエートまたはミヒ
ラーのケトンがある。二のようなアミンのf夕月は、ベ
ンツ°フェノンタイプの芳香族ケトンの添加によって強
化されることかでごる。
その他の慣用添加剤としては、充填剤、顔料。
染料、攪着剤、保湿剤、流れ調整剤がある。
印徂jインクの場合、光硬化に非常1て重要であり、接
着剤の乾燥時閘は、写真製造の製造速度;てとって決定
的要素であり、秒凰位でな(てはならない。紫外線硬化
性印刷インクはスクリーン印刷用としては特に有用であ
る。
着剤の乾燥時閘は、写真製造の製造速度;てとって決定
的要素であり、秒凰位でな(てはならない。紫外線硬化
性印刷インクはスクリーン印刷用としては特に有用であ
る。
本発明の光硬化性組成物は印刷版、特i・こ可撓性印刷
版の製造に適しており、この用途には、例えば可溶性線
状ポリアミドまたはスチレン−ブタジェンゴムと、例え
ばアクリルアミドまたはアクリレートのような光重合性
モノマーとの混合物と、光重合開始剤が、使用される。
版の製造に適しており、この用途には、例えば可溶性線
状ポリアミドまたはスチレン−ブタジェンゴムと、例え
ばアクリルアミドまたはアクリレートのような光重合性
モノマーとの混合物と、光重合開始剤が、使用される。
このような系のフィルムと、ネガ(またはポジ)のプリ
ントマスターを介して露光され、非硬化部分を溶媒で流
去させろ。
ントマスターを介して露光され、非硬化部分を溶媒で流
去させろ。
光硬化を利用する他の分野としては、例えば管用、がん
用、びんキャップ用のシート金箋用のワニスかげといっ
たような、金属の被覆、およびポリ塩化ビニルベースの
床および藍被瓜のような、プラスチックの被覆の光硬化
がある。
用、びんキャップ用のシート金箋用のワニスかげといっ
たような、金属の被覆、およびポリ塩化ビニルベースの
床および藍被瓜のような、プラスチックの被覆の光硬化
がある。
紙上のコーティングの九硬イヒの例は、ラベルの無色ワ
ニス、レコードの袋および本のジャケットである。
ニス、レコードの袋および本のジャケットである。
画像製造用および情@担体の光学製品用の光硬化l屍組
放物の利用も重要である。この場合担体1;塗布したD
(湿ったまたは乾燥1−た)ンて。
放物の利用も重要である。この場合担体1;塗布したD
(湿ったまたは乾燥1−た)ンて。
短波長光なフォト7724通して照射し、塗膜の露光さ
!1なかった帯域を溶媒(現]液)で沈下1!シて除去
する。露光帯域は架橋ポリマーであるので不溶性であり
、担体上:て残留する。担体が金属層である場合、露光
?よび現r3後、金属?エツチング除去し、非露光帯域
上で電気メツ午する二とによって厚くさせろ。プ11ン
ト回路およびフォトレジストはこのようK シて製造さ
れろ。
!1なかった帯域を溶媒(現]液)で沈下1!シて除去
する。露光帯域は架橋ポリマーであるので不溶性であり
、担体上:て残留する。担体が金属層である場合、露光
?よび現r3後、金属?エツチング除去し、非露光帯域
上で電気メツ午する二とによって厚くさせろ。プ11ン
ト回路およびフォトレジストはこのようK シて製造さ
れろ。
露光のために適した光源は、短波長光を高含有事で含む
ものがよい。適当な技術装置および種々のタイプのラン
プは入手可能である。′yIjえばカーボンアークラン
プ、キ七ノンアークランプ、水銀蒸気ランプ、金属−・
・コゲノランブ、宙光ランプ、アルゴンランプまたは写
真用投光照射ランプがある。レーザー光線源も最近では
使用されている。レーザー光線の=9合シては、フ万ト
マスクを必要としない点で有利であり、調整されたレー
ザー光線で光硬化性層上シて亘担写字する。
ものがよい。適当な技術装置および種々のタイプのラン
プは入手可能である。′yIjえばカーボンアークラン
プ、キ七ノンアークランプ、水銀蒸気ランプ、金属−・
・コゲノランブ、宙光ランプ、アルゴンランプまたは写
真用投光照射ランプがある。レーザー光線源も最近では
使用されている。レーザー光線の=9合シては、フ万ト
マスクを必要としない点で有利であり、調整されたレー
ザー光線で光硬化性層上シて亘担写字する。
本発明のチタノセンシま光硬化性組成物の成分を容易(
て混合できるか、組成物中に容易;(、@解でご、従っ
てすぐれた感光性を達成することかでごるつ 〔実施例〕 以下の実施例にお(・て、不発明をさらンζ具体的:ζ
説明する。
て混合できるか、組成物中に容易;(、@解でご、従っ
てすぐれた感光性を達成することかでごるつ 〔実施例〕 以下の実施例にお(・て、不発明をさらンζ具体的:ζ
説明する。
2 、3 、5 、13−テトラフルオロ−4−り=口
)−フェニルニーチルの製造 s oO:yiのジエチレングリコールモノプチルニー
テルの中1?: 2 ;3 Fの細かく切ったナトリウ
ム全屈(1モル)を入れ、混合物のA皮を、外側を冷却
することによって約45°Cに保持1−1こ。
)−フェニルニーチルの製造 s oO:yiのジエチレングリコールモノプチルニー
テルの中1?: 2 ;3 Fの細かく切ったナトリウ
ム全屈(1モル)を入れ、混合物のA皮を、外側を冷却
することによって約45°Cに保持1−1こ。
反応がおさまってから、混合物をナトリウムが完全に溶
解するヱで50°Cまでに温めた。この茶色の溶液を1
時間かけて、40〜45°Cで2:33S’のクロロペ
ンタフルオロベンゼン(1,16モル)中に注入した。
解するヱで50°Cまでに温めた。この茶色の溶液を1
時間かけて、40〜45°Cで2:33S’のクロロペ
ンタフルオロベンゼン(1,16モル)中に注入した。
反応混合物を70°Cまで加熱し、この温度で約7時間
保った。冷却後、11の水の中に注ぎ込み、11のメチ
レンクロライドで抽出した。有機1を分離し、Na2S
O4を乾燥し、溶媒を水流ポンプ真空下に蒸留した。
保った。冷却後、11の水の中に注ぎ込み、11のメチ
レンクロライドで抽出した。有機1を分離し、Na2S
O4を乾燥し、溶媒を水流ポンプ真空下に蒸留した。
残留物を高真空下に精留し、3ミリバール下に11)
0〜104°Cで沸騰する留分を集めた。
0〜104°Cで沸騰する留分を集めた。
280 ?の透明無色の油が得られた。
b)ビス(シクロペンタジェニル)−ビス〔4−(]、
’、 4’、 7’−トリオキサ−n−ウンデク−1−
イル−(2,3,5,6−テトラフルオロフエニル)〕
チタノセンの製造 アルゴン不活性ガス雰囲気下に、517?のジエチレン
グリコールモノ−ブチルモノ(2゜:3 、5 、6−
テトラフルオロ−4−クロロ)−フェニルエーテル(0
,15モル)を、1QO5虹の無水ジエチルエーテル:
で溶解ニー、この溶液を−75’C4で冷却した。1
;1 :3 mtのリチウムブチル−ヘモサン、@液(
16mε)を1商下添加後、混合物を15分間−75°
Cで攪拌した。
’、 4’、 7’−トリオキサ−n−ウンデク−1−
イル−(2,3,5,6−テトラフルオロフエニル)〕
チタノセンの製造 アルゴン不活性ガス雰囲気下に、517?のジエチレン
グリコールモノ−ブチルモノ(2゜:3 、5 、6−
テトラフルオロ−4−クロロ)−フェニルエーテル(0
,15モル)を、1QO5虹の無水ジエチルエーテル:
で溶解ニー、この溶液を−75’C4で冷却した。1
;1 :3 mtのリチウムブチル−ヘモサン、@液(
16mε)を1商下添加後、混合物を15分間−75°
Cで攪拌した。
次K、187Pのビスンクロペンタジエニルチタニウム
ジクロライドCO,f) 7 aモル)を、粉末の形態
で添加し、冷却を解除した。混合物を約9時間かげて室
温まで温めるとだいだい赤の不透明溶液になった。反応
混合物を、11の水中に注入し、総景で600.71t
の酢酸エチルで何回にも分けて抽出3行った。有機相を
Na 2 SO4で乾顕させ、水流ポンプ真空下;て蒸
発させた。
ジクロライドCO,f) 7 aモル)を、粉末の形態
で添加し、冷却を解除した。混合物を約9時間かげて室
温まで温めるとだいだい赤の不透明溶液になった。反応
混合物を、11の水中に注入し、総景で600.71t
の酢酸エチルで何回にも分けて抽出3行った。有機相を
Na 2 SO4で乾顕させ、水流ポンプ真空下;て蒸
発させた。
残留物は50.8 ?で豊明なだ(・だい赤の油であつ
7二。この油を移動相二して、ソリカゲル上で2:1ヘ
キサン−エーテル、昆合物を使用したクロマトグラフィ
ーで精製した。溶媒を蒸発させた後に残る透明粘着性だ
いだ(・色の油は、長時間放置後も液状の票−であった
。
7二。この油を移動相二して、ソリカゲル上で2:1ヘ
キサン−エーテル、昆合物を使用したクロマトグラフィ
ーで精製した。溶媒を蒸発させた後に残る透明粘着性だ
いだ(・色の油は、長時間放置後も液状の票−であった
。
実施例9
チタン化合物として、1当量のビス(メチルシクロペン
タジェニル)チタニウムシクロライドを使用し、それ以
外に実施例1と同様の手順に従って同様の特性を持つ類
似化合物を製造した。ビス(メチルシクロペンタジェニ
ル)−ビス−〔4−(L’、 4.’、 7’−トリオ
キサ−n−ウンデカ−1−イル) (2、+3 、5
、6−テトラフルオロフエニル)〕−チタノ七ンカ透明
すたいた(・色の油として得られ、かなり長期間放置し
た後も液状のま\であった。
タジェニル)チタニウムシクロライドを使用し、それ以
外に実施例1と同様の手順に従って同様の特性を持つ類
似化合物を製造した。ビス(メチルシクロペンタジェニ
ル)−ビス−〔4−(L’、 4.’、 7’−トリオ
キサ−n−ウンデカ−1−イル) (2、+3 、5
、6−テトラフルオロフエニル)〕−チタノ七ンカ透明
すたいた(・色の油として得られ、かなり長期間放置し
た後も液状のま\であった。
実施例;3
ビス(シクロペンタジェニル)−ビス〔4−(1’、
4’、 ?’、 10’−テトラオキサドデシル)−=
、 :3 、5 、6−チトラフルオロフエニル〕−
チタニウム トリエチレングリコールモノエチルエーテルを、実施例
1 iCおけるのと同様に、ナトリウムおよびクロロペ
ンタフルオロベンゼンと反応させた。得られたトリエチ
レングリコールモノエチルモノ(2、:3 、5 、6
−チトラフル万ロー4−クロコフェニル)エーテルは8
ミリバールで124〜128°Cの沸点を持つものであ
る。
4’、 ?’、 10’−テトラオキサドデシル)−=
、 :3 、5 、6−チトラフルオロフエニル〕−
チタニウム トリエチレングリコールモノエチルエーテルを、実施例
1 iCおけるのと同様に、ナトリウムおよびクロロペ
ンタフルオロベンゼンと反応させた。得られたトリエチ
レングリコールモノエチルモノ(2、:3 、5 、6
−チトラフル万ロー4−クロコフェニル)エーテルは8
ミリバールで124〜128°Cの沸点を持つものであ
る。
このエーテルの5417を、実施例1におけると同様に
、10 :3 、’nlのリチウムブチル−ヘキサン溶
液および1872のビス(シクロペンタジェニル)チタ
ニウムジクロライドと反応させた。
、10 :3 、’nlのリチウムブチル−ヘキサン溶
液および1872のビス(シクロペンタジェニル)チタ
ニウムジクロライドと反応させた。
クロマトグラフィーで精製後、表題の化合物が透明な粘
着性だ(・だい色の油として得られ、かなり長時間放置
しても液状を保って℃・た。
着性だ(・だい色の油として得られ、かなり長時間放置
しても液状を保って℃・た。
実施例−■
アクリレート混合物の光硬化につ(・て検討した。
下記の成分を混合して光硬化性組成物を製造した。
オリゴウレタン−アクリレート(Ac t i l a
rt”5+) 部AJ20) トリエチロールプロパントリアクリレート 20
部トリプロピレングリコールジアクリレート 15
部N−ビニルピコリドン 1
5 部7:)コーン−ベースの流れ功整削(BYK困”
300. 0.5部Byk−Mallinckrodt
、FRG)この組成物の一部を以下の表に示す光重合開
始剤またはその混合物と混合した。開始剤混合物は、式
(A) のケタールタイプの液状開始剤中のチタノセン溶液を使
用した。
rt”5+) 部AJ20) トリエチロールプロパントリアクリレート 20
部トリプロピレングリコールジアクリレート 15
部N−ビニルピコリドン 1
5 部7:)コーン−ベースの流れ功整削(BYK困”
300. 0.5部Byk−Mallinckrodt
、FRG)この組成物の一部を以下の表に示す光重合開
始剤またはその混合物と混合した。開始剤混合物は、式
(A) のケタールタイプの液状開始剤中のチタノセン溶液を使
用した。
すべての乾燥を赤色光または黄色光下に行った。
開始剤が添加されたサンプルをアルミニウム仮(lUX
15ぼ)に100μmの厚さに塗布した。この液体層上
に76μmの厚さのポリエステルフィルムをのせ、21
段階の異なる光学密度(5touffer wedge
)を持つ標準化テストネガをこの上にのせた。さらに第
2のポリエステルフィルムをこの上にのせ、このように
して得られたラミネートを金属フレート上に固定した。
15ぼ)に100μmの厚さに塗布した。この液体層上
に76μmの厚さのポリエステルフィルムをのせ、21
段階の異なる光学密度(5touffer wedge
)を持つ標準化テストネガをこの上にのせた。さらに第
2のポリエステルフィルムをこの上にのせ、このように
して得られたラミネートを金属フレート上に固定した。
このサンプルを、30crrLの距離から5 kWの金
属ハライドランプで露光した。第1テストシリーズにお
いては5秒間、第2シリーズにお℃・では10秒間、そ
して第:3シリーズ;ζおいては15秒貫露光した。露
光後、フィルムとマスクを除去し、露光層を15秒間エ
タノール浴中で現像し、60℃で5分間乾燥させた。使
用した開始剤系の感度は粘着性なしに画像が形成された
最終ウェッジステップを定めることによって示すことが
できる。ウェッジステップの数が多(なればなるほど、
その系は感度がそれだけすぐれているということになる
。ここで2ステツプの増加はほぼ硬化程度が2倍である
ことを意味する。結果は表1に示す通りである。
属ハライドランプで露光した。第1テストシリーズにお
いては5秒間、第2シリーズにお℃・では10秒間、そ
して第:3シリーズ;ζおいては15秒貫露光した。露
光後、フィルムとマスクを除去し、露光層を15秒間エ
タノール浴中で現像し、60℃で5分間乾燥させた。使
用した開始剤系の感度は粘着性なしに画像が形成された
最終ウェッジステップを定めることによって示すことが
できる。ウェッジステップの数が多(なればなるほど、
その系は感度がそれだけすぐれているということになる
。ここで2ステツプの増加はほぼ硬化程度が2倍である
ことを意味する。結果は表1に示す通りである。
表 1
実施例5
下記の成分を混合することによって光硬化性組成物を製
造した。
造した。
アセトン中の30%溶液としたスチレン/150.3
部マレイン酸モノメチル トリメチロールプロパントリアクリレート 483
部ポリエチレングリコールジアクリレート 6.
4 部クリスタルバイオレット
o16部手頃は実施例4におけると同様に行った。現像
は、下記の組成からなる水性−アルカリ溶液で行った。
部マレイン酸モノメチル トリメチロールプロパントリアクリレート 483
部ポリエチレングリコールジアクリレート 6.
4 部クリスタルバイオレット
o16部手頃は実施例4におけると同様に行った。現像
は、下記の組成からなる水性−アルカリ溶液で行った。
水 10
00 rメタケイ酸ナトリウム
15 F水酸化カリウム
0.16Fポリエチレングリコール60
00 :3 ?レブリン酸
0.5f拮果は、表2に
示す。
00 rメタケイ酸ナトリウム
15 F水酸化カリウム
0.16Fポリエチレングリコール60
00 :3 ?レブリン酸
0.5f拮果は、表2に
示す。
表 2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、2つのR^1基は各々独立して、シクロペンタ
ジエニル^■、インデニル^■または4,5,6,7−
テトラヒドロインデニル^■であつて非置換のものであ
つてもC_1−C_1_8−アルキルまたはC_1〜C
_1_8−アルコキシ、C_2〜C_1_8−アルケニ
ル、C_5〜C_8−シクロアルキル、C_6〜C_1
_6−アリール、C_7〜C_1_6−アラルキル、シ
アノまたはハロゲンの1個以上で置換されたものであつ
てもよく、または2つのR^1基は、連結して、非置換
または上記のように置換された式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、Xは(−CH−_2)_n(nは1,2または
3である。)、フェニルで置換されているか、されてい
ない2〜12個の炭素原子を持つアルキリデン、さらに
は5〜7の環炭素原子を持つシクロアルキリデン、Si
R^4_2、またはSnR^4_2(R^4はC_1〜
C_1_2−アルキル、C_5〜C_1_2−シクロア
ルキル、C_6〜C_1_6−アリールまたはC_7〜
C_1_6−アラルキルである。)である。〕の基であ
つて、R^2は、金属−炭素結合に対しての2つのオル
ト位の少くとも一方が弗素で置換されている6員の炭素
環または5員または6員の複素環であつて芳香族環につ
いてはさらに置換基を含むものであつてもよく、または
R^2とR^3は連結して、式(III)の基−Q−Y−
Q−(III) 〔式中、Qは、炭素環芳香族環であつて、この二つの結
合はY基に対してo−位にあり、Y基に対してm−位が
弗素原子で置換されており、Qについては、さらに置換
基を含有していてもよい。Yは、CH_2、2〜12個
の炭素原子を持つアルキリデン、環炭素原子5−7のシ
クロアルキリデン、直接結合、NR^4、O、S、SO
、SO_2、CO、SiR_2^4または−SnR_2
^4(R^4は上記の通りである。)であり、R^3は
R^2と同一の意味のもの、またはアルキニル、非置換
のものまたは置換のフエニルアルキニル、N_3、CN
、SiR_3^4またはSiR_3^4であり、しかも
チタノセン中でR^2は1個以上の遊離のエステル化ま
たはエーテル化されたポリオキサアルキレン基を含有し
ており、この基は、芳香族環に直接または橋基を介して
結合しているものである。〕 で示されるチタノセン。 2、R^1は、シクロペンタジエニル^■またはメチル
シクロペンタジエニル^■である、特許請求の範囲第1
項記載のチタノセン。 3、R^2およびR^3が同一のものである、特許請求
の範囲第1項記載のチタノセン。 4、R^2およびR^3が、2,6−ジフルオロフエン
−1−イルであり、これに対して、1個以上の遊離の、
またはエーテル化したポリオキサアルキレン基が直接に
または橋基を介して結合していて、さらに1個または2
個の同一または異なる置換基を含有することもできるも
のである、特許請求の範囲第1項記載のチタノセン。 5、式( I )において、2つの基R^1が、シクロペ
ンタジエニル^■またはC_1〜C_4−アルキルで置
換されたシクロペンタジエニル^■であり、R^2およ
びR^3が、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (R^5およびR^6は各々独立して、H、F、Clま
たはBrであり、R^7は遊離の、エーテル化またはエ
ステル化したポリオキサアルキレンであつて、フェニル
環に対して、直接または橋基に結合しているものである
。) の基である、特許請求の範囲第4項記載のチタノセン。 6、ポリオキサアルキレン基がC_1〜C_1_8−ア
ルキルでエーテル化したものであるか、C_1〜C_1
_8−アシルでエステル化したものである特許請求の範
囲第1項記載のチタノセン。 7、ポリオキサアルキレン基が、1〜20個のオキサア
ルキレン単位を含有しているものである、特許請求の範
囲第1項記載のチタノセン。 8、ポリオキサアルキレン基中のアルキレンが2〜6個
の炭素原子を含有している、特許請求の範囲第1項記載
のチタノセン。 9、アルキレンが、エチレンまたは1,2−プロピレン
である、特許請求の範囲第8項記載のチタノセン。 10、橋基が、式−S−、−O−、−OSO_2−、−
CH_2O−、−CH(CH_3)O−、−SO_2−
、−C(O)O−、▲数式、化学式、表等があります▼
、▲数式、化学式、表等があります▼、−NR^1^0
−、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
す▼、−NR^1^0CH_2CH_2NR^1^0−
、▲数式、化学式、表等があります▼、−CH_2NR
^1^0−、−CH(COO−)_2、−CH_2CO
O−、−CONR^1^0−、−CH(CONR^1^
0−)_2、−CH_2CONR^1^0−、▲数式、
化学式、表等があります▼、−OC(O)O、−N(R
^1^0)−COO−、−CH_2N(R^1^0)−
COOH−、−N(R^1^0)−CONH−、−CH
_2N(R^1^0)−CONH−または−C_nN_
2_nOC(O)C_mH_2_mO−(n=0、1ま
たは2であり、m=1〜6)、−C_nH_2_nOS
iR^1^1_3_−_yO_y−(n=0、1または
2であり、y=1〜3)、または−OCH_2CH_2
OSiR^1^1_3_−_yO_y−(y=1〜3) 〔式中、R^1^0はH、C_1〜C_1_2−アルキ
ルまたはフェニルである。〕 の群のものである、特許請求の範囲第1項記載のチタノ
セン。 11、ポリオキサアルキレン基が式 −(C_zH_2_zO)−_oR^9 (式中、zが2〜6の数であり、oが1〜20の数であ
り、かつR^9がHまたはC_1〜C_1_8−アルキ
ルである。) に相当するものである、特許請求の範囲第1項記載のチ
タノセン。 12、R^9がC_1〜C_1_2−アルキルであり、
R^1^0がHまたはC_1〜C_1_2−アルキルで
あり、R^1^1がC_1〜C_6−アルキルであり、
zが2〜4の数であり、oが2〜6の数である、特許請
求の範囲第10項または第11項記載のチタノセン。 13、ポリオキサアルキレン基がエーテル化されており
、しかも橋基が、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^9がC_1〜C_1_2−アルキルであり
、R^1^0がC_1〜C_6−アルキルであり、かつ
oが2〜6の数である。) の一つに相当するものである、特許請求の範囲第12項
記載のチタノセン。 14、R^1がシクロペンタジエニル^■またはメチル
シクロペンタジエニル^■であり、R^2およびR^3
が、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^5およびR^6は水素または弗素であり、
oは2〜6の数であり、R^9はC_1〜C_1_2−
アルキルである。) の基である、特許請求の範囲第1項記載のチタノセン。 15、R^5およびR^6は弗素である、特許請求の範
囲第14項記載のチタノセン。 16、式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (R^1は特許請求の範囲第1項記載の通りであり、Z
はハロゲンであり、特に塩素である。)の化合物の1モ
ルと、LiR^2またはLiR^3の1モルと反応させ
てから、LiR^3およびLiR^2の各々の1モルと
反応させるか、またはLiR^2の2モル(R^2は特
許請求の範囲第1項記載の通りであり、R^3はアルキ
ニル、非置換または置換のフエニルアルキニル、N_3
、CN、SiR_3^4またはSnR_3^4である)
と反応させ、次に式( I )の化合物を公知方法で単離
することからなる、特許請求の範囲第1項記載の式(
I )のチタノセンの製造法。 17、(a)1個以上の重合性エチレン性不飽和二重結
合を持つ、1種以上の非揮発性モノマー、オリゴマーま
たはポリマー化合物と、 (b)光重合開始剤としての、1種以上の特許請求の範
囲第1項の式( I )のチタノセンとを含有する、放射
線重合可能な組成物。 18、さらに1種以上の追加の光重合開始剤(c)を含
有している、特許請求の範囲第17項記載の組成物。 19、追加の光重合開始剤としてベンジルケタール、4
−アロイル−1,3−ジオキソラン、ジアルコキシアセ
トフェノン、α−ヒドロキシまたはα−アミノアセトフ
エノンまたはこれらの化合物を含有している特許請求の
範囲第18項記載の組成物。 20、ベンジルケタール、4−アロイル−1,3−ジオ
キソラン、ジアルコキシアセトフェノン、α−ヒドロキ
シアセトフエノン、α−アミノアセトフエノンタイプま
たはこれらの混合物および特許請求の範囲第1項記載の
チタノセンを含有している、液状光重合開始剤混合物。
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Cited By (141)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0726498A1 (en) | 1995-02-10 | 1996-08-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable composition |
| EP0780731A2 (en) | 1995-12-22 | 1997-06-25 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photopolymerizable composition for a color filter, color filter and liquid crystal display device |
| US6171759B1 (en) | 1992-05-14 | 2001-01-09 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
| EP1615073A1 (en) | 2004-07-06 | 2006-01-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition and image recording method using the same |
| EP1614537A1 (en) | 2004-07-07 | 2006-01-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1619023A2 (en) | 2004-07-20 | 2006-01-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
| EP1621338A1 (en) | 2004-07-27 | 2006-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1621341A2 (en) | 2004-07-30 | 2006-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1630602A2 (en) | 2004-08-31 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Polymerizable composition, hydrophilic film formed by curing said composition and planographic printing plate precursor |
| EP1630618A2 (en) | 2004-08-24 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1637324A2 (en) | 2004-08-26 | 2006-03-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Color image-forming material and lithographic printing plate precursor |
| EP1662318A1 (en) | 1999-03-09 | 2006-05-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | 1,3-dihydro-1-oxo-2H-indene derivative |
| EP1669195A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-06-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing method |
| EP1685957A2 (en) | 2005-01-26 | 2006-08-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor, lithographic printing method and packaged body of lithographic printing plate precursors |
| EP1707352A1 (en) | 2005-03-31 | 2006-10-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of producing a planographic printing plate |
| EP1728838A1 (en) | 2005-05-31 | 2006-12-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Ink composition for ink jet-recording and method for preparing lithographic printing plate using the same |
| EP1754597A2 (en) | 2005-08-19 | 2007-02-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing process |
| EP1755002A2 (en) | 2005-08-18 | 2007-02-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Manufacturing method of lithographic printing plate and manufacturing apparatus of lithographic printing plate |
| WO2007105404A1 (ja) | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Fujifilm Corporation | 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置 |
| WO2007108367A1 (ja) | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Fujifilm Corporation | 高分子化合物およびその製造方法、顔料分散剤、顔料分散組成物、光硬化性組成物、並びにカラーフィルタおよびその製造方法 |
| WO2007116565A1 (ja) | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Fujifilm Corporation | 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置 |
| EP1930770A2 (en) | 2006-12-07 | 2008-06-11 | FUJIFILM Corporation | Imaging recording material and novel compound |
| EP1939687A2 (en) | 2006-12-26 | 2008-07-02 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1939244A2 (en) | 2006-12-27 | 2008-07-02 | FUJIFILM Corporation | Laser-decomposable resin composition, and pattern-forming material and laser-engravable flexographic printing plate precursor using the same |
| EP1955858A1 (en) | 2007-02-06 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device |
| EP1955850A2 (en) | 2007-02-07 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method |
| EP1956428A2 (en) | 2007-02-06 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and cyanine dyes |
| EP1964893A1 (en) | 2007-02-26 | 2008-09-03 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and ink set |
| EP1973000A2 (en) | 2007-03-22 | 2008-09-24 | FUJIFILM Corporation | Dipping-type automatic developing apparatus and method for lithographic printing plates |
| EP1972440A2 (en) | 2007-03-23 | 2008-09-24 | FUJIFILM Corporation | Negative lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
| EP1975702A2 (en) | 2007-03-29 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device |
| EP1975160A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Polymerizable compound, polymer, ink composition, printed articles and inkjet recording method |
| EP1975710A2 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Plate-making method of lithographic printing plate precursor |
| EP1975213A1 (en) | 2006-07-03 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, injet recording method, printed material, and process for producing lithographic printing plate |
| EP1974914A2 (en) | 2007-03-29 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
| EP1975706A2 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| EP1975701A2 (en) | 2007-03-29 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Color filter and method for producing the same |
| EP1975211A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition and image recording method and image recorded matter using same |
| EP1975707A1 (en) | 2007-03-27 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Curable composition and planographic printing plate precursor |
| EP1988136A1 (en) | 2007-03-01 | 2008-11-05 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, method for producing planographic printing plate, and planographic printing plate |
| EP1992989A1 (en) | 2004-12-27 | 2008-11-19 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| EP1992482A2 (en) | 2007-05-18 | 2008-11-19 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor and printing method using the same |
| WO2008146685A1 (ja) | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Showa Denko K.K. | エーテル結合を有する反応性ウレタン化合物、硬化性組成物および硬化物 |
| EP2006091A2 (en) | 2007-06-22 | 2008-12-24 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method |
| EP2006738A2 (en) | 2007-06-21 | 2008-12-24 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP2011643A2 (en) | 2007-07-02 | 2009-01-07 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor and printing method using the same |
| EP2036957A2 (en) | 2007-07-13 | 2009-03-18 | FUJIFILM Corporation | Pigment dispersion liquid, curable composition, color filter, produced using the same, and solid state imaging device |
| EP2039509A1 (en) | 2007-09-18 | 2009-03-25 | FUJIFILM Corporation | Curable composition, image forming material, and planographic printing plate precursor |
| EP2042532A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound |
| EP2042311A1 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method |
| EP2042243A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Coater and ink-jet recording device using the same |
| EP2042928A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor |
| EP2042924A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Method for preparing lithographic printing plate |
| EP2042572A1 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material |
| EP2042923A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Image-forming method and lithographic printing plate precursor |
| EP2042335A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Inkjet recording method |
| EP2042312A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Processing method of lithographic printing plate precursor |
| EP2045662A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-08 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
| EP2048000A2 (en) | 2007-09-18 | 2009-04-15 | FUJIFILM Corporation | Plate making method of lithographic printing plate precursor |
| EP2055476A2 (en) | 2007-10-29 | 2009-05-06 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| EP2058123A2 (en) | 2007-11-08 | 2009-05-13 | FUJIFILM Corporation | Resin composition for laser engraving, resin printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method for production of relief printing plate |
| EP2070696A1 (en) | 2007-12-10 | 2009-06-17 | FUJIFILM Corporation | Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
| US7556911B2 (en) | 2006-03-03 | 2009-07-07 | Fujifilm Corporation | Titanocene based compound, photosensitive composition, photosensitive transfer sheet and pattern forming method |
| EP2078984A1 (en) | 2008-01-11 | 2009-07-15 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method |
| EP2078985A1 (en) | 2008-01-09 | 2009-07-15 | Fujifilm Corporation | Method for developing lithographic printing plate |
| EP2082875A1 (en) | 2008-01-22 | 2009-07-29 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
| EP2082874A1 (en) | 2008-01-25 | 2009-07-29 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing relief printing plate and printing plate precursor for laser engraving |
| EP2085220A2 (en) | 2008-01-29 | 2009-08-05 | FUJIFILM Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method of producing the same |
| WO2009096452A1 (ja) | 2008-01-31 | 2009-08-06 | Fujifilm Corporation | 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いて製造されたカラーフィルタ及びその製造方法 |
| EP2088176A1 (en) | 2008-02-07 | 2009-08-12 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and molded printed material |
| EP2088468A1 (en) | 2008-02-06 | 2009-08-12 | FUJIFILM Corporation | Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
| EP2090933A1 (en) | 2008-02-05 | 2009-08-19 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and printing method |
| EP2093265A1 (en) | 2008-02-25 | 2009-08-26 | FUJIFILM Corporation | Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same |
| EP2095970A1 (en) | 2008-02-29 | 2009-09-02 | Fujifilm Corporation | Resin composition for laser engraving, resin printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method for production of relief printing plate |
| EP2095947A1 (en) | 2008-02-28 | 2009-09-02 | FUJIFILM Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate |
| EP2100925A2 (en) | 2008-03-11 | 2009-09-16 | FUJIFILM Corporation | Pigment composition, ink composition, printed article, inkjet recording method and polyallylamine derivative |
| EP2100731A2 (en) | 2008-03-11 | 2009-09-16 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing |
| EP2101218A1 (en) | 2008-03-10 | 2009-09-16 | FUJIFILM Corporation | Method for preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
| WO2009113447A1 (ja) | 2008-03-10 | 2009-09-17 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子 |
| EP2103993A1 (en) | 2008-03-21 | 2009-09-23 | FUJIFILM Corporation | Automatic processing for making lithographic printing plate |
| EP2103994A1 (en) | 2008-03-21 | 2009-09-23 | FUJIFILM Corporation | Automatic processing apparatus for making lithographic printing plate |
| WO2009116434A1 (ja) | 2008-03-17 | 2009-09-24 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
| EP2105795A1 (en) | 2008-03-28 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Resin composition for laser engraving, image forming material, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate |
| EP2105297A1 (en) | 2008-03-25 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor and plate making method using the same |
| EP2105478A1 (en) | 2008-03-26 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Inkjet recording method and inkjet recording system |
| EP2105793A2 (en) | 2008-03-28 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Green curable composition, color filter and method of producing same |
| EP2105298A1 (en) | 2008-03-28 | 2009-09-30 | Fujifilm Corporation | Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same |
| EP2105800A2 (en) | 2008-03-25 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Processing solution for preparing lithographic printing plate and processing method of lithographic printing plate precursor |
| WO2009119430A1 (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
| WO2009119687A1 (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 浸漬型平版印刷版用自動現像装置および自動現像方法 |
| EP2106906A1 (en) | 2008-03-31 | 2009-10-07 | FUJIFILM Corporation | Relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate |
| WO2009123050A1 (ja) | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
| WO2009122789A1 (ja) | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタおよび固体撮像素子 |
| EP2109000A1 (en) | 2004-09-10 | 2009-10-14 | FUJIFILM Corporation | Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same |
| EP2110261A2 (en) | 2008-04-18 | 2009-10-21 | FUJIFILM Corporation | Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support |
| EP2112182A1 (en) | 2008-04-25 | 2009-10-28 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition, light-shielding color filter, black curable composition, light-shielding color filter for solid-state image pickup device and method of producing the same, and solid-state image pickup device |
| EP2130881A1 (en) | 2008-06-02 | 2009-12-09 | FUJIFILM Corporation | Pigment dispersion and ink composition using the same |
| EP2145772A2 (en) | 2008-07-16 | 2010-01-20 | FUJIFILM Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support and presensitized plate |
| EP2157130A1 (en) | 2008-08-21 | 2010-02-24 | Fujifilm Corporation | Photosensitive resin composition, color filter and method of producing the same, and solid-state imaging device |
| EP2166049A1 (en) | 2008-09-19 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method and method for producing printed formed article |
| EP2165829A1 (en) | 2008-09-22 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
| EP2165830A1 (en) | 2008-09-22 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and printing method using the same |
| EP2168767A1 (en) | 2008-09-24 | 2010-03-31 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
| EP2169463A2 (en) | 2008-09-29 | 2010-03-31 | FUJIFILM Corporation | Colored curable composition, color filter and method for producing the same |
| EP2169021A1 (en) | 2008-09-25 | 2010-03-31 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method, and printed material |
| EP2168989A1 (en) | 2008-09-29 | 2010-03-31 | Fujifilm Corporation | Colored curable composition, color filter and production method thereof, and solid-state imaging device |
| WO2010038795A1 (ja) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー |
| WO2010038625A1 (ja) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
| DE112008000778T5 (de) | 2007-03-23 | 2010-04-08 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Wasserentwickelbares photoempfindliches Lithographiedruckplattenmaterial |
| WO2010038836A1 (ja) | 2008-10-03 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフイルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウエハレベルレンズ、および撮像ユニツト |
| EP2177357A2 (en) | 2008-08-29 | 2010-04-21 | Fujifilm Corporation | Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same |
| EP2216378A1 (en) | 2009-02-05 | 2010-08-11 | Fujifilm Corporation | Nonaqueous ink, image-recording method, image-recording apparatus and recorded article |
| EP2216377A1 (en) | 2009-02-09 | 2010-08-11 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
| EP2230285A1 (en) | 2009-03-19 | 2010-09-22 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material |
| EP2230284A1 (en) | 2009-03-17 | 2010-09-22 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method |
| EP2236570A2 (en) | 2009-03-31 | 2010-10-06 | Fujifilm Corporation | Ink composition, ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed article obtained by inkjet recording method |
| EP2246741A1 (en) | 2004-05-19 | 2010-11-03 | Fujifilm Corporation | Image recording method |
| EP2298841A1 (en) | 2009-09-18 | 2011-03-23 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
| EP2311918A1 (en) | 2009-09-29 | 2011-04-20 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
| EP2366748A2 (en) | 2010-03-16 | 2011-09-21 | Seiko Epson Corporation | Ink composition and recording method |
| WO2011122707A1 (en) | 2010-03-31 | 2011-10-06 | Fujifilm Corporation | Colored composition, inkjet ink, color filter and method of producing the same, solid-state image sensor and display device |
| EP2388146A2 (en) | 2010-05-19 | 2011-11-23 | Fujifilm Corporation | Printing method, method for preparing overprint, method for processing laminate, light-emitting diode curable coating composition, and light-emitting diode curable ink composition |
| DE112010000772T5 (de) | 2009-02-13 | 2012-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Lichtempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
| DE112011101165T5 (de) | 2010-03-29 | 2013-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
| WO2013099948A1 (ja) | 2011-12-28 | 2013-07-04 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
| WO2013099945A1 (ja) | 2011-12-28 | 2013-07-04 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
| EP2618215A1 (en) | 2004-05-31 | 2013-07-24 | Fujifilm Corporation | Method for producing a lithographic printing plate |
| EP2644664A1 (en) | 2012-03-29 | 2013-10-02 | Fujifilm Corporation | Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article |
| WO2014104136A1 (ja) | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線反射膜形成用の硬化性樹脂組成物、赤外線反射膜及びその製造方法、並びに赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子 |
| WO2014104137A1 (ja) | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子 |
| WO2014136923A1 (ja) | 2013-03-07 | 2014-09-12 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成型印刷物の製造方法 |
| EP2842763A2 (en) | 2013-08-30 | 2015-03-04 | Fujifilm Corporation | Image formation method, decorative sheet, decorative sheet molding, process for producing in-mold molded product, in-mold molded product, and ink set |
| EP3051349A1 (en) | 2003-07-29 | 2016-08-03 | FUJIFILM Corporation | Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof |
| EP3086176A1 (en) | 2005-02-28 | 2016-10-26 | Fujifilm Corporation | A lithographic printing method |
| EP3284599A1 (en) | 2004-01-09 | 2018-02-21 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
| WO2018141644A1 (de) | 2017-01-31 | 2018-08-09 | Flint Group Germany Gmbh | Strahlungshärtbares gemisch enthaltend niedrig funktionalisiertes teilverseiftes polyvinylacetat |
| WO2018177500A1 (de) | 2017-03-27 | 2018-10-04 | Flint Group Germany Gmbh | Verfahren zur herstellung von bildhaften reliefstrukturen |
| EP3431544A1 (en) | 2017-07-21 | 2019-01-23 | TSRC Corporation | Composition for preparing a foam, foam, and shoe employing the same |
| EP3629089A1 (en) | 2018-09-26 | 2020-04-01 | Flint Group Germany GmbH | Method for thermally developing relief precursors |
| US11822246B2 (en) | 2017-10-10 | 2023-11-21 | Flint Group Germany Gmbh | Relief precursor having low cupping and fluting |
| US12076974B2 (en) | 2017-12-08 | 2024-09-03 | Flint Group Germany Gmbh | Method for identifying a relief precursor for producing a relief structure |
Families Citing this family (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR910000199B1 (ko) * | 1986-04-15 | 1991-01-23 | 시바-가이기 코오포레이숀 | 액체 광개시제 혼합물 |
| AU599400B2 (en) * | 1986-08-01 | 1990-07-19 | Ciba-Geigy Ag | Titanocenes and their use |
| US5026625A (en) * | 1987-12-01 | 1991-06-25 | Ciba-Geigy Corporation | Titanocenes, the use thereof, and n-substituted fluoroanilines |
| JP2653458B2 (ja) * | 1988-03-26 | 1997-09-17 | 旭化成工業株式会社 | 凸版印刷版用感光性樹脂組成物 |
| US4959284A (en) * | 1988-12-29 | 1990-09-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Holographic photopolymer compositions and elements containing a ring-opening monomer |
| US5075467A (en) * | 1989-06-01 | 1991-12-24 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the preparation of titanocenes containing o,o'-difluoroaryl ligands |
| DE59007807D1 (de) * | 1989-06-01 | 1995-01-12 | Ciba Geigy Ag | Neue sauerstoffhaltige Titanocene und deren Verwendung. |
| EP0401166B1 (de) * | 1989-06-01 | 1995-02-22 | Ciba-Geigy Ag | Neue, stickstoffhaltige Titanocene und deren Verwendung |
| EP0425440B1 (de) * | 1989-10-27 | 1994-11-17 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Abstimmung der Strahlungsempfindlichkeit von photopolymerisierbaren Zusammensetzungen |
| DE4007428A1 (de) * | 1990-03-09 | 1991-09-12 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
| US5011762A (en) * | 1990-08-14 | 1991-04-30 | Industrial Technology Research Institute | Photosensitive compositions having enhanced photopolymerization rate |
| US5514521A (en) * | 1990-08-22 | 1996-05-07 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
| EP0497552B1 (en) * | 1991-01-29 | 1996-05-22 | National Starch and Chemical Investment Holding Corporation | Photopolymerisable compositions |
| AU3141193A (en) * | 1991-11-12 | 1993-06-15 | University Of Georgia Research Foundation, Inc., The | Anionic photoinitiation |
| US5652280A (en) * | 1991-11-12 | 1997-07-29 | University Of Georgia Research Foundation, Inc. | Anionic photoinitiation |
| JP3426699B2 (ja) * | 1994-04-27 | 2003-07-14 | 住友化学工業株式会社 | 不飽和カルボン酸及びその誘導体からなる重合体の製造方法 |
| DE4418645C1 (de) * | 1994-05-27 | 1995-12-14 | Sun Chemical Corp | Lichtempfindliches Gemisch und daraus herstellbares Aufzeichnungsmaterial |
| ES2142426T3 (es) | 1994-06-13 | 2000-04-16 | Targor Gmbh | Compuestos de metales de transicion. |
| US5837422A (en) * | 1995-07-25 | 1998-11-17 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate employing it |
| US5773194A (en) * | 1995-09-08 | 1998-06-30 | Konica Corporation | Light sensitive composition, presensitized lithographic printing plate and image forming method employing the printing plate |
| US6114092A (en) * | 1997-09-29 | 2000-09-05 | Kansai Paint Co., Ltd. | Photosensitive resin compositions for photoresist |
| DE19961355A1 (de) | 1999-12-17 | 2001-06-21 | S & C Polymer Silicon & Compos | Photoinitiatorsystem mit Titanocen-Initiatoren |
| US6936384B2 (en) | 2002-08-01 | 2005-08-30 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Infrared-sensitive composition containing a metallocene derivative |
| DE10255667B4 (de) | 2002-11-28 | 2006-05-11 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Strahlungsempfindliche Elemente mit ausgezeichneter Lagerbeständigkeit |
| CN115521344B (zh) * | 2021-06-25 | 2025-01-28 | 中国科学院化学研究所 | 一种金属位取代的二茂金属衍生物及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4199420A (en) * | 1978-04-06 | 1980-04-22 | Stauffer Chemical Company | Alkoxymethylbenzophenones as photoinitiators for photopolymerizable compositions and process based thereon |
| US4548891A (en) * | 1983-02-11 | 1985-10-22 | Ciba Geigy Corporation | Photopolymerizable compositions containing prepolymers with olefin double bonds and titanium metallocene photoinitiators |
| US4590287A (en) * | 1983-02-11 | 1986-05-20 | Ciba-Geigy Corporation | Fluorinated titanocenes and photopolymerizable composition containing same |
| US4713401A (en) * | 1984-12-20 | 1987-12-15 | Martin Riediker | Titanocenes and a radiation-polymerizable composition containing these titanocenes |
| GB8515475D0 (en) * | 1985-06-19 | 1985-07-24 | Ciba Geigy Ag | Forming images |
| DE3784199D1 (de) * | 1986-08-01 | 1993-03-25 | Ciba Geigy Ag | Titanocene und deren verwendung. |
| AU599400B2 (en) * | 1986-08-01 | 1990-07-19 | Ciba-Geigy Ag | Titanocenes and their use |
| US5026625A (en) * | 1987-12-01 | 1991-06-25 | Ciba-Geigy Corporation | Titanocenes, the use thereof, and n-substituted fluoroanilines |
| US5008302A (en) * | 1987-12-01 | 1991-04-16 | Ciba-Geigy Corporation | Titanocenes, the use thereof, and N-substituted pyrroles |
-
1987
- 1987-07-24 AU AU76169/87A patent/AU599400B2/en not_active Ceased
- 1987-07-24 US US07/077,261 patent/US4857654A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-27 EP EP87810430A patent/EP0255486B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-27 DE DE8787810430T patent/DE3786205D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-30 CA CA000543475A patent/CA1332950C/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-07-31 SU SU874203074A patent/SU1597105A3/ru active
- 1987-07-31 BR BR8703936A patent/BR8703936A/pt unknown
- 1987-07-31 ZA ZA875671A patent/ZA875671B/xx unknown
- 1987-08-01 JP JP62191529A patent/JP2582792B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-08-01 KR KR1019870008512A patent/KR950008287B1/ko not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-06-05 US US07/361,194 patent/US4970136A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-08-21 US US07/570,497 patent/US5034307A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (155)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6171759B1 (en) | 1992-05-14 | 2001-01-09 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
| EP0726498A1 (en) | 1995-02-10 | 1996-08-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable composition |
| EP0780731A2 (en) | 1995-12-22 | 1997-06-25 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photopolymerizable composition for a color filter, color filter and liquid crystal display device |
| EP1662318A1 (en) | 1999-03-09 | 2006-05-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | 1,3-dihydro-1-oxo-2H-indene derivative |
| EP3051349A1 (en) | 2003-07-29 | 2016-08-03 | FUJIFILM Corporation | Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof |
| EP3284599A1 (en) | 2004-01-09 | 2018-02-21 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
| EP2246741A1 (en) | 2004-05-19 | 2010-11-03 | Fujifilm Corporation | Image recording method |
| EP2618215A1 (en) | 2004-05-31 | 2013-07-24 | Fujifilm Corporation | Method for producing a lithographic printing plate |
| EP1615073A1 (en) | 2004-07-06 | 2006-01-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition and image recording method using the same |
| EP1614537A1 (en) | 2004-07-07 | 2006-01-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1619023A2 (en) | 2004-07-20 | 2006-01-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
| EP1621338A1 (en) | 2004-07-27 | 2006-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1621341A2 (en) | 2004-07-30 | 2006-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1630618A2 (en) | 2004-08-24 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1637324A2 (en) | 2004-08-26 | 2006-03-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Color image-forming material and lithographic printing plate precursor |
| EP1630602A2 (en) | 2004-08-31 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Polymerizable composition, hydrophilic film formed by curing said composition and planographic printing plate precursor |
| EP3182204A1 (en) | 2004-09-10 | 2017-06-21 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor using a polymerizable composition |
| EP2109000A1 (en) | 2004-09-10 | 2009-10-14 | FUJIFILM Corporation | Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same |
| EP1669195A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-06-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing method |
| EP1992989A1 (en) | 2004-12-27 | 2008-11-19 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| EP1685957A2 (en) | 2005-01-26 | 2006-08-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor, lithographic printing method and packaged body of lithographic printing plate precursors |
| EP3086176A1 (en) | 2005-02-28 | 2016-10-26 | Fujifilm Corporation | A lithographic printing method |
| EP3086177A1 (en) | 2005-02-28 | 2016-10-26 | Fujifilm Corporation | Method for preparing a lithographic printing place precursor |
| EP1707352A1 (en) | 2005-03-31 | 2006-10-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of producing a planographic printing plate |
| EP1728838A1 (en) | 2005-05-31 | 2006-12-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Ink composition for ink jet-recording and method for preparing lithographic printing plate using the same |
| EP2306246A1 (en) | 2005-08-18 | 2011-04-06 | Fujifilm Corporation | Manufacturing method of lithographic printing plate |
| EP1755002A2 (en) | 2005-08-18 | 2007-02-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Manufacturing method of lithographic printing plate and manufacturing apparatus of lithographic printing plate |
| EP1754597A2 (en) | 2005-08-19 | 2007-02-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing process |
| US7556911B2 (en) | 2006-03-03 | 2009-07-07 | Fujifilm Corporation | Titanocene based compound, photosensitive composition, photosensitive transfer sheet and pattern forming method |
| WO2007105404A1 (ja) | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Fujifilm Corporation | 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置 |
| WO2007108367A1 (ja) | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Fujifilm Corporation | 高分子化合物およびその製造方法、顔料分散剤、顔料分散組成物、光硬化性組成物、並びにカラーフィルタおよびその製造方法 |
| WO2007116565A1 (ja) | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Fujifilm Corporation | 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置 |
| EP1975213A1 (en) | 2006-07-03 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, injet recording method, printed material, and process for producing lithographic printing plate |
| EP1930770A2 (en) | 2006-12-07 | 2008-06-11 | FUJIFILM Corporation | Imaging recording material and novel compound |
| EP1939687A2 (en) | 2006-12-26 | 2008-07-02 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1939244A2 (en) | 2006-12-27 | 2008-07-02 | FUJIFILM Corporation | Laser-decomposable resin composition, and pattern-forming material and laser-engravable flexographic printing plate precursor using the same |
| EP1956428A2 (en) | 2007-02-06 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and cyanine dyes |
| EP2592475A1 (en) | 2007-02-06 | 2013-05-15 | Fujifilm Corporation | Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and novel cyanine dyes |
| EP1955858A1 (en) | 2007-02-06 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device |
| EP1955850A2 (en) | 2007-02-07 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method |
| EP1964893A1 (en) | 2007-02-26 | 2008-09-03 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and ink set |
| EP1988136A1 (en) | 2007-03-01 | 2008-11-05 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, method for producing planographic printing plate, and planographic printing plate |
| EP1973000A2 (en) | 2007-03-22 | 2008-09-24 | FUJIFILM Corporation | Dipping-type automatic developing apparatus and method for lithographic printing plates |
| EP1972440A2 (en) | 2007-03-23 | 2008-09-24 | FUJIFILM Corporation | Negative lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
| DE112008000778T5 (de) | 2007-03-23 | 2010-04-08 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Wasserentwickelbares photoempfindliches Lithographiedruckplattenmaterial |
| EP1975707A1 (en) | 2007-03-27 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Curable composition and planographic printing plate precursor |
| EP1975701A2 (en) | 2007-03-29 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Color filter and method for producing the same |
| EP1975702A2 (en) | 2007-03-29 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device |
| EP1974914A2 (en) | 2007-03-29 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
| EP1975710A2 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Plate-making method of lithographic printing plate precursor |
| EP1975706A2 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| EP1975211A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition and image recording method and image recorded matter using same |
| EP1975160A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Polymerizable compound, polymer, ink composition, printed articles and inkjet recording method |
| EP1992482A2 (en) | 2007-05-18 | 2008-11-19 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor and printing method using the same |
| WO2008146685A1 (ja) | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Showa Denko K.K. | エーテル結合を有する反応性ウレタン化合物、硬化性組成物および硬化物 |
| EP2006738A2 (en) | 2007-06-21 | 2008-12-24 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP2006091A2 (en) | 2007-06-22 | 2008-12-24 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method |
| EP2011643A2 (en) | 2007-07-02 | 2009-01-07 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor and printing method using the same |
| EP2036957A2 (en) | 2007-07-13 | 2009-03-18 | FUJIFILM Corporation | Pigment dispersion liquid, curable composition, color filter, produced using the same, and solid state imaging device |
| EP2048000A2 (en) | 2007-09-18 | 2009-04-15 | FUJIFILM Corporation | Plate making method of lithographic printing plate precursor |
| EP2039509A1 (en) | 2007-09-18 | 2009-03-25 | FUJIFILM Corporation | Curable composition, image forming material, and planographic printing plate precursor |
| EP2042312A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Processing method of lithographic printing plate precursor |
| EP2042928A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor |
| EP2042924A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Method for preparing lithographic printing plate |
| EP2042923A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Image-forming method and lithographic printing plate precursor |
| EP2045662A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-08 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
| EP2042335A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Inkjet recording method |
| EP2042572A1 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material |
| EP2042243A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Coater and ink-jet recording device using the same |
| EP3021167A1 (en) | 2007-09-28 | 2016-05-18 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
| EP2042532A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound |
| EP2042311A1 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method |
| EP2380737A1 (en) | 2007-10-29 | 2011-10-26 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| EP2055476A2 (en) | 2007-10-29 | 2009-05-06 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| EP2058123A2 (en) | 2007-11-08 | 2009-05-13 | FUJIFILM Corporation | Resin composition for laser engraving, resin printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method for production of relief printing plate |
| EP2070696A1 (en) | 2007-12-10 | 2009-06-17 | FUJIFILM Corporation | Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
| EP2078985A1 (en) | 2008-01-09 | 2009-07-15 | Fujifilm Corporation | Method for developing lithographic printing plate |
| EP2078984A1 (en) | 2008-01-11 | 2009-07-15 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method |
| EP2082875A1 (en) | 2008-01-22 | 2009-07-29 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
| EP2082874A1 (en) | 2008-01-25 | 2009-07-29 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing relief printing plate and printing plate precursor for laser engraving |
| EP2085220A2 (en) | 2008-01-29 | 2009-08-05 | FUJIFILM Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method of producing the same |
| WO2009096452A1 (ja) | 2008-01-31 | 2009-08-06 | Fujifilm Corporation | 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いて製造されたカラーフィルタ及びその製造方法 |
| EP2090933A1 (en) | 2008-02-05 | 2009-08-19 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and printing method |
| EP2088468A1 (en) | 2008-02-06 | 2009-08-12 | FUJIFILM Corporation | Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
| EP2088176A1 (en) | 2008-02-07 | 2009-08-12 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and molded printed material |
| EP2093265A1 (en) | 2008-02-25 | 2009-08-26 | FUJIFILM Corporation | Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same |
| EP2095947A1 (en) | 2008-02-28 | 2009-09-02 | FUJIFILM Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate |
| EP2095970A1 (en) | 2008-02-29 | 2009-09-02 | Fujifilm Corporation | Resin composition for laser engraving, resin printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method for production of relief printing plate |
| WO2009113447A1 (ja) | 2008-03-10 | 2009-09-17 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子 |
| EP2101218A1 (en) | 2008-03-10 | 2009-09-16 | FUJIFILM Corporation | Method for preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
| EP2100925A2 (en) | 2008-03-11 | 2009-09-16 | FUJIFILM Corporation | Pigment composition, ink composition, printed article, inkjet recording method and polyallylamine derivative |
| EP2100731A2 (en) | 2008-03-11 | 2009-09-16 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing |
| WO2009116434A1 (ja) | 2008-03-17 | 2009-09-24 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
| EP2103994A1 (en) | 2008-03-21 | 2009-09-23 | FUJIFILM Corporation | Automatic processing apparatus for making lithographic printing plate |
| EP2103993A1 (en) | 2008-03-21 | 2009-09-23 | FUJIFILM Corporation | Automatic processing for making lithographic printing plate |
| EP2105297A1 (en) | 2008-03-25 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor and plate making method using the same |
| EP2105800A2 (en) | 2008-03-25 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Processing solution for preparing lithographic printing plate and processing method of lithographic printing plate precursor |
| WO2009119687A1 (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 浸漬型平版印刷版用自動現像装置および自動現像方法 |
| WO2009119430A1 (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
| EP2105478A1 (en) | 2008-03-26 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Inkjet recording method and inkjet recording system |
| EP2105793A2 (en) | 2008-03-28 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Green curable composition, color filter and method of producing same |
| EP2105298A1 (en) | 2008-03-28 | 2009-09-30 | Fujifilm Corporation | Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same |
| EP2105795A1 (en) | 2008-03-28 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Resin composition for laser engraving, image forming material, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate |
| WO2009123050A1 (ja) | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
| EP2106906A1 (en) | 2008-03-31 | 2009-10-07 | FUJIFILM Corporation | Relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate |
| WO2009122789A1 (ja) | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタおよび固体撮像素子 |
| EP2110261A2 (en) | 2008-04-18 | 2009-10-21 | FUJIFILM Corporation | Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support |
| EP2112182A1 (en) | 2008-04-25 | 2009-10-28 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition, light-shielding color filter, black curable composition, light-shielding color filter for solid-state image pickup device and method of producing the same, and solid-state image pickup device |
| EP2130881A1 (en) | 2008-06-02 | 2009-12-09 | FUJIFILM Corporation | Pigment dispersion and ink composition using the same |
| EP2145772A2 (en) | 2008-07-16 | 2010-01-20 | FUJIFILM Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support and presensitized plate |
| EP2157130A1 (en) | 2008-08-21 | 2010-02-24 | Fujifilm Corporation | Photosensitive resin composition, color filter and method of producing the same, and solid-state imaging device |
| EP2177357A2 (en) | 2008-08-29 | 2010-04-21 | Fujifilm Corporation | Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same |
| EP2166049A1 (en) | 2008-09-19 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method and method for producing printed formed article |
| EP2165830A1 (en) | 2008-09-22 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and printing method using the same |
| EP2165829A1 (en) | 2008-09-22 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
| EP2168767A1 (en) | 2008-09-24 | 2010-03-31 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
| EP2169021A1 (en) | 2008-09-25 | 2010-03-31 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method, and printed material |
| EP2168989A1 (en) | 2008-09-29 | 2010-03-31 | Fujifilm Corporation | Colored curable composition, color filter and production method thereof, and solid-state imaging device |
| EP2169463A2 (en) | 2008-09-29 | 2010-03-31 | FUJIFILM Corporation | Colored curable composition, color filter and method for producing the same |
| WO2010038795A1 (ja) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー |
| WO2010038625A1 (ja) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
| WO2010038836A1 (ja) | 2008-10-03 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフイルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウエハレベルレンズ、および撮像ユニツト |
| EP2216378A1 (en) | 2009-02-05 | 2010-08-11 | Fujifilm Corporation | Nonaqueous ink, image-recording method, image-recording apparatus and recorded article |
| EP2216377A1 (en) | 2009-02-09 | 2010-08-11 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
| DE112010000772T5 (de) | 2009-02-13 | 2012-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Lichtempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
| EP2230284A1 (en) | 2009-03-17 | 2010-09-22 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method |
| EP2230285A1 (en) | 2009-03-19 | 2010-09-22 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material |
| EP2236570A2 (en) | 2009-03-31 | 2010-10-06 | Fujifilm Corporation | Ink composition, ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed article obtained by inkjet recording method |
| EP2298841A1 (en) | 2009-09-18 | 2011-03-23 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
| EP2311918A1 (en) | 2009-09-29 | 2011-04-20 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
| US9120309B2 (en) | 2010-03-16 | 2015-09-01 | Seiko Epson Corporation | Ink composition and recording method |
| US9855742B2 (en) | 2010-03-16 | 2018-01-02 | Seiko Epson Corporation | Ink composition and recording method |
| US9321267B2 (en) | 2010-03-16 | 2016-04-26 | Seiko Epson Corporation | Ink composition and recording method |
| US8820906B2 (en) | 2010-03-16 | 2014-09-02 | Seiko Epson Corporation | Ink composition and recording method |
| EP2366748A2 (en) | 2010-03-16 | 2011-09-21 | Seiko Epson Corporation | Ink composition and recording method |
| DE112011101165T5 (de) | 2010-03-29 | 2013-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
| WO2011122707A1 (en) | 2010-03-31 | 2011-10-06 | Fujifilm Corporation | Colored composition, inkjet ink, color filter and method of producing the same, solid-state image sensor and display device |
| EP2388146A2 (en) | 2010-05-19 | 2011-11-23 | Fujifilm Corporation | Printing method, method for preparing overprint, method for processing laminate, light-emitting diode curable coating composition, and light-emitting diode curable ink composition |
| WO2013099945A1 (ja) | 2011-12-28 | 2013-07-04 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
| WO2013099948A1 (ja) | 2011-12-28 | 2013-07-04 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
| EP2644664A1 (en) | 2012-03-29 | 2013-10-02 | Fujifilm Corporation | Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article |
| WO2014104137A1 (ja) | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子 |
| WO2014104136A1 (ja) | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線反射膜形成用の硬化性樹脂組成物、赤外線反射膜及びその製造方法、並びに赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子 |
| WO2014136923A1 (ja) | 2013-03-07 | 2014-09-12 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成型印刷物の製造方法 |
| EP2842763A2 (en) | 2013-08-30 | 2015-03-04 | Fujifilm Corporation | Image formation method, decorative sheet, decorative sheet molding, process for producing in-mold molded product, in-mold molded product, and ink set |
| WO2018141644A1 (de) | 2017-01-31 | 2018-08-09 | Flint Group Germany Gmbh | Strahlungshärtbares gemisch enthaltend niedrig funktionalisiertes teilverseiftes polyvinylacetat |
| US11914293B2 (en) | 2017-01-31 | 2024-02-27 | Flint Group Germany Gmbh | Radiatioin-curable mixture containing low-functionalised, partially saponified polyvinyl acetate |
| WO2018177500A1 (de) | 2017-03-27 | 2018-10-04 | Flint Group Germany Gmbh | Verfahren zur herstellung von bildhaften reliefstrukturen |
| US11325368B2 (en) | 2017-03-27 | 2022-05-10 | Flint Group Germany Gmbh | Method for producing pictorial relief structures |
| EP3431544A1 (en) | 2017-07-21 | 2019-01-23 | TSRC Corporation | Composition for preparing a foam, foam, and shoe employing the same |
| US11939456B2 (en) | 2017-07-21 | 2024-03-26 | Tsrc Corporation | Composition for preparing a foam, foam, and shoe employing the same |
| US11822246B2 (en) | 2017-10-10 | 2023-11-21 | Flint Group Germany Gmbh | Relief precursor having low cupping and fluting |
| US12076974B2 (en) | 2017-12-08 | 2024-09-03 | Flint Group Germany Gmbh | Method for identifying a relief precursor for producing a relief structure |
| EP3629089A1 (en) | 2018-09-26 | 2020-04-01 | Flint Group Germany GmbH | Method for thermally developing relief precursors |
| US11718085B2 (en) | 2018-09-26 | 2023-08-08 | Flint Group Germany Gmbh | Method for thermally developing relief precursors |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR950008287B1 (ko) | 1995-07-27 |
| EP0255486B1 (de) | 1993-06-16 |
| ZA875671B (en) | 1988-02-01 |
| JP2582792B2 (ja) | 1997-02-19 |
| US5034307A (en) | 1991-07-23 |
| AU7616987A (en) | 1988-02-04 |
| BR8703936A (pt) | 1988-04-05 |
| EP0255486A3 (en) | 1990-06-06 |
| AU599400B2 (en) | 1990-07-19 |
| KR880002882A (ko) | 1988-05-12 |
| US4857654A (en) | 1989-08-15 |
| DE3786205D1 (de) | 1993-07-22 |
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