JPS634500Y2 - - Google Patents

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JPS634500Y2
JPS634500Y2 JP8709984U JP8709984U JPS634500Y2 JP S634500 Y2 JPS634500 Y2 JP S634500Y2 JP 8709984 U JP8709984 U JP 8709984U JP 8709984 U JP8709984 U JP 8709984U JP S634500 Y2 JPS634500 Y2 JP S634500Y2
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JP
Japan
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drum
powder
heat medium
medium circulation
stirring arm
Prior art date
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JP8709984U
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JPS614736U (ja
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Description

【考案の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本考案は、例えば粉体、粉体表面への皮膜の形
成或いは造粒処理等に使用する真空式粉体処理装
置に関する。
<従来の技術> 従来の真空式粉体処理装置は、通常、回転ドラ
ムに減圧手段および噴霧手段を連繋し、収容した
粉体を真空下でで混合撹拌させ乍ら溶媒液を噴射
して粉体表面に被膜を形成させた後、加熱手段に
て粒状化した粉体の乾燥処理を行なうものであ
る。
ところで、出願人は以前、この加熱手段を熱媒
循環方式となした「粉体の施皮装置」を提案した
(特開昭58年177167号公報)。この熱媒循環方式に
よる加熱手段は、回転ドラム本体と扉の壁体とを
夫々、二重構造となして各壁体に熱媒通路を形成
し、本体と扉との蝶着部に可撓管を設けて両通路
を連通させると共に両通路の流入口、流出口間に
ポンプおよび加熱器を接続した構造のもので、熱
媒通路に温水を循環させて粉体を加熱乾燥するも
のである。
ところが、この加熱手段の場合、熱放散による
エネルギーのロスが少なく熱風乾燥機に比しコス
トを低減化し得る利点を有する反面、ドラムの回
転によつて撹拌される粉体は、ドラム空間を常時
移動するためドラム周壁との接触時間が短かく従
つて熱効率が低い等の不利がある。
<考案の目的> 本考案は、粉体と加熱手段との接触面積を拡大
することによつて上記不利を解消し、熱効率の向
上と粉体乾燥の迅速化を図つた新規な真空式粉体
処理装置を提供することを目的とする。
<実施例の説明> 本考案の真空式粉体処理装置は、回転駆動装置
13を収納する基台1と、基台上に回転自在に軸
承された回転ドラム2と、回転ドラムの内部を減
圧する減圧手段5と、ドラム内の粉体に対し被膜
形成用の液体を噴射する噴霧手段6と、被膜が形
成された粉体を迅速に乾燥するための加熱手段4
とを備えている。
前記基台1の上面には、上端部に軸受11を有
す軸受架12およびその前方対称位置にローラ1
4,14を配備し、ドラム2の後部筒部23を軸
受架12に軸承し前部をローラ14,14に支承
して回転自由となしている。回転ドラム2は、前
面が開口した有底円筒状をなすドラム本体21の
前記開口面を扉22にて密閉し、後部筒部23を
基台1内部に備えた回転駆動装置13に連繋して
いる。前記ドラム本体21および扉22は、夫々
壁体を二重構造となして熱媒循環通路24,24
を形成し、蝶着部25の部分に可撓管28を設け
て連通させると共に、両通路24,24の流入口
25、流出口26間にボンプ41、ヒータ42を
接続して熱媒循環式加熱手段4を構成している。
また、ドラム2の適所には、粉体の投入取出口2
9を開設して開閉扉にて密閉し、ドラム内面に
は、ドラムの回転中心に対し旋回した一定高さ、
長さの中空バツフル30を取付けると共にドラム
内空間には、断面略L字状の撹拌アーム31を配
備し、粉体の撹拌効果を図つている。
前記減圧手段5は、ドラム2の後部(回転)筒
部23内へシール材51を介して固定管52を導
入し、その先端をフイルタ53を介してドラム2
内の空間に連通させると共に基端はコールドトラ
ツプ54を介して真空ポンプ55に接続して、減
圧により気化した溶媒(例えばアルコール)を冷
凍サイクルにて液化させ噴霧手段6の溶媒液槽6
4に回収して再利用に供する。噴霧手段6は、前
記固定管52中に流通管61を挿通させ、その先
端をドラム2中の空間に定位して口径可変ノズル
62を変向可能に取付けると共に基端をポンプ6
3を介して溶媒(アルコール)液槽64に接続し
てなるものである。
本考案の特徴は、前記ドラム本体21の内部に
配備したバツフル30および撹拌アーム31を、
夫々ドラム本体21、扉22の熱媒通路24に連
通させて熱媒循環系路の一部に組み込み構成した
点にある。
バツフル30は、断面V字状に形成し両端縁を
ドラム本体21の内面に固着して断面三角形の中
空部を形成し、両端部において本体21内壁に小
孔を開設して中空部を往路側の熱媒通路24に連
通させ、また、撹拌アーム31は、垂直部と水平
部とを断面L字状に連続形成し内部を中空となし
て、垂直部の上方中央部を前記固定管52に嵌着
して固定させ、中空内部には一端を帰路側の本体
21通路と連通し、他端を水平部端部で開口させ
たパイプ32を配備すると共に固定管52の上周
壁には、中空部と流出口26とを連通させる小孔
33が開設されている。
しかして、粉体処理(粉体施皮)に際しては、
回転ドラム2へその投入口29より吸引その他の
方法により主原料をなす一種乃至複数種の粉体お
よび必要に応じて任意のバインダを収容して密閉
し、一方液槽64には、被膜形成用の液体を収容
した後、回転駆動装置13を作動するとき、ドラ
ム2は設定された速度で定速回転し、このときド
ラム2中の粉体の一部は、バツフル30の搬送作
用を受けて強制移動し、ドラム下部では撹拌アー
ム31に戻されて落下し、混合、撹拌、乱流状況
を呈している。次いで減圧手段5を作動してドラ
ム2の内部を粉体の施皮に適した圧力に減圧した
後、噴霧手段6を作動する。ポンプ63の作動に
より、液槽64中の液は流通管61を経てノズル
62より噴射し、乱流動中の各粉体の全面に附着
し、粉体表面にに適当厚さの被膜が形成され、或
いは造粒がなされる。
そして、噴霧終了後、ドラム2内の圧力を乾燥
に適した圧力に設定し加熱手段4を作動させる
と、温水は固定管52の流入口25からドラム本
体21の往路側通路24を流れ、次にバツフル3
0の中空部へ流入してバツフルを加熱し、バツフ
ル30と接面する粉体に加温作用を与える。更
に、温水は扉22側から帰路側通路24を流れ、
ドラム本体21の通路から撹拌アーム31のパイ
プ32に流入し、更に、アーム31の中空部から
固定管52の小孔33を経て流出口26へ導かれ
循環を繰り返す。従つて、撹拌アーム31に接触
する粉体はバツフル30の場合と同様に直接加温
作用を受け、迅速な乾燥処理が行なわれる。
また、バツフル30および撹拌アーム31は、
加熱構造をなす回転ドラムの内部に配備されてい
るため、それぞれの表面温度を短時間にて設定で
き、以て粉体成分に適した温度制御を実現でき
る。
<構成および効果> 本考案は以上の如く、回転ドラムの壁面を二重
構造となして熱媒循環通路24を形成し、ドラム
内に配備した中空状バツフル30および撹拌アー
ム31を、前記熱媒通路に連通させ熱媒循環系路
の一部を構成させたから、回転ドラム2内の粉体
はドラム周壁の加熱作用に加えてドラム内部空間
に位置するバツフルおよび撹拌アームによつても
直接加熱作用を受ける。従つて、粉体の加熱面に
対する接触面積が拡大され熱効率が一層向上する
等、考案目的を達成した優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案にかかる真空式粉体処理装置の
縦断面図、第2図は第1図A−A線に沿う断面図
である。 2…回転ドラム、21…ドラム本体、22…
扉、24…熱媒循環通路、25…流入口、26…
流出口、30…バツフル、31…撹拌アーム、3
2…パイプ、4…加熱手段。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 回転ドラムと、該ドラムに連繋した回転駆動手
    段と、ドラム内を減圧する減圧手段と、ドラム内
    の粉体に液を噴射し粉体施皮を行なう噴霧手段
    と、粒状化した粉体を乾燥する加熱手段とからな
    る粉体処理装置において、前記加熱手段は、回転
    ドラムの壁体に熱媒循環通路を形成し該通路の流
    入口、流出口間にポンプおよびヒータを接続する
    と共にドラム内に配備する中空バツフルおよび撹
    拌アームを前記熱媒循環通路に連通させてバツフ
    ルおよび撹拌アームを熱媒循環系路の一部となし
    たことを特徴とする真空式粉体処理装置。
JP8709984U 1984-06-11 1984-06-11 真空式粉体処理装置 Granted JPS614736U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8709984U JPS614736U (ja) 1984-06-11 1984-06-11 真空式粉体処理装置

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JP8709984U JPS614736U (ja) 1984-06-11 1984-06-11 真空式粉体処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS614736U JPS614736U (ja) 1986-01-13
JPS634500Y2 true JPS634500Y2 (ja) 1988-02-05

Family

ID=30639006

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JP8709984U Granted JPS614736U (ja) 1984-06-11 1984-06-11 真空式粉体処理装置

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63264130A (ja) * 1987-04-20 1988-11-01 Taisho Pharmaceut Co Ltd 真空造粒装置
JP2007152224A (ja) * 2005-12-05 2007-06-21 Freunt Ind Co Ltd 粉粒体処理装置及びバッフル装置
JP6523652B2 (ja) * 2013-10-21 2019-06-05 剛太郎 石川 連続減圧固液分離装置
JP6683909B2 (ja) * 2016-01-27 2020-04-22 住友金属鉱山株式会社 被覆処理装置及び被覆処理方法

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JPS614736U (ja) 1986-01-13

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