JPS6345732Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6345732Y2 JPS6345732Y2 JP14152082U JP14152082U JPS6345732Y2 JP S6345732 Y2 JPS6345732 Y2 JP S6345732Y2 JP 14152082 U JP14152082 U JP 14152082U JP 14152082 U JP14152082 U JP 14152082U JP S6345732 Y2 JPS6345732 Y2 JP S6345732Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- container
- gas supply
- gas
- insulating
- emitter
- Prior art date
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- Expired
Links
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 29
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はガス相の電界放出型イオン源に関す
る。
る。
一般にガス相の電界放出型イオン源を用いた高
エネルギ加速装置（100KV〜200KV）において
は、真空鏡筒内の端部に設けられるエミツタ室内
にガスを供給する必要がある。このエミツタ室は
高電位に保たれており、その供給源をエミツタ室
近傍に設けるとその絶縁に要するスペースが大き
くなり現実的でない。そのため、ガス供給源は接
地電位に保たれ、更にガス供給源とエミツタ室と
は絶縁性のガス供給管で結ばれることになる。こ
の場合、ガス供給管の両端には高電圧が印加され
管内のガス圧は数十〜数百mTorrに保たれるの
で、放電に関してはパツシエンの法則が適用され
る領域となる。パツシエンの法則によれば放電開
始電圧Vs（Ｖ）と気体圧力Ｐ（mTorr）、電極間距
離（cm）の間にはつぎの関係式が成り立つ。
エネルギ加速装置（100KV〜200KV）において
は、真空鏡筒内の端部に設けられるエミツタ室内
にガスを供給する必要がある。このエミツタ室は
高電位に保たれており、その供給源をエミツタ室
近傍に設けるとその絶縁に要するスペースが大き
くなり現実的でない。そのため、ガス供給源は接
地電位に保たれ、更にガス供給源とエミツタ室と
は絶縁性のガス供給管で結ばれることになる。こ
の場合、ガス供給管の両端には高電圧が印加され
管内のガス圧は数十〜数百mTorrに保たれるの
で、放電に関してはパツシエンの法則が適用され
る領域となる。パツシエンの法則によれば放電開
始電圧Vs（Ｖ）と気体圧力Ｐ（mTorr）、電極間距
離（cm）の間にはつぎの関係式が成り立つ。
Vs＝ａＰ／ogP＋ｂ〔Ｖ〕
ここで、ａ，ｂは気体の種類と電極材料によつ
て与えられる定数である。例えば酸素ガスについ
て、供給する圧力が50mTorr、加速電圧が
100KVとするとガス供給管の長さ（）は60cm
以下では放電が発生することになる。
て与えられる定数である。例えば酸素ガスについ
て、供給する圧力が50mTorr、加速電圧が
100KVとするとガス供給管の長さ（）は60cm
以下では放電が発生することになる。
ところで、前述したように真空鏡筒内のエミツ
タ室は、高電位に保たれているので絶縁保護のた
めエミツタ室の周囲を接地電位の容器で覆い、そ
の内部を気密に保つて２気圧程度のフレオンガス
で充填することが多い。このようにした場合には
例えば100KVの加速電圧を有する装置の場合、
エミツタ室と接地電位の容器との間隙Ｌは、安全
係数を見んでも２〜３cm程度で充分となる。この
ため、イオン化すべきガスを送るガス供給源の長
さが間隙Ｌの長さの数倍となりガス供給管を間
隙Ｌ内で収納する方法が問題となる。
タ室は、高電位に保たれているので絶縁保護のた
めエミツタ室の周囲を接地電位の容器で覆い、そ
の内部を気密に保つて２気圧程度のフレオンガス
で充填することが多い。このようにした場合には
例えば100KVの加速電圧を有する装置の場合、
エミツタ室と接地電位の容器との間隙Ｌは、安全
係数を見んでも２〜３cm程度で充分となる。この
ため、イオン化すべきガスを送るガス供給源の長
さが間隙Ｌの長さの数倍となりガス供給管を間
隙Ｌ内で収納する方法が問題となる。
本考案は以上の点に鑑みなされたもので、接地
電位に保たれた容器と、該容器内に設けられたエ
ミツタ室と、前記容器外の高圧電源の出力を前記
エミツタ室へ印加するための導線が埋めこまれ、
前記容器の気密を保つて該容器を貫通する絶縁部
材と、前記エミツタ室と容器外のガス供給源とを
結ぶ絶縁性ガス供給管を備えた装置において、前
記絶縁部材に前記絶縁性ガス供給管を捲回するよ
う構成したことを特徴としている。
電位に保たれた容器と、該容器内に設けられたエ
ミツタ室と、前記容器外の高圧電源の出力を前記
エミツタ室へ印加するための導線が埋めこまれ、
前記容器の気密を保つて該容器を貫通する絶縁部
材と、前記エミツタ室と容器外のガス供給源とを
結ぶ絶縁性ガス供給管を備えた装置において、前
記絶縁部材に前記絶縁性ガス供給管を捲回するよ
う構成したことを特徴としている。
以下本考案の一実施例を添付図面に基ずき詳述
する。
する。
図面は本考案の一実施例を示す断面図である。
図において、１はガスをイオン化する為の細い針
端を有するエミツタで、該エミツタ１は導線２を
通じて図示しない加速電源に接続されている。３
はエミツタに強電界を与えガスをイオン化し、イ
オン化したイオンを加速部に引出す引出し電極
で、該引出し電極と一体になつてエミツタ室４が
形成されており室全体が例えば略100KVに保持
されている。エミツタ室の下方には、絶縁筒５を
介してイオンビーム収束用の第２電極６、更にそ
の下方には絶縁筒７を介して接地電位に保たれた
加速電極８が配置されており、該加速電極８は鏡
筒９に接続されており、その内部は１×10-5
Torr程度以下の真空に保たれる。但し、エミツ
タ室４内にはイオン化ガスが供給され、３枚の電
極の中心孔を通つて排気されるため、該室４内は
10-3Torr程度の真空度となる。１０は接地電位
に保たれた容器１１に対し高電圧部を覆い電界緩
和を行うシールド電極であり、該シールド電極１
０は第２電極６と同電位に保たれている。接地電
位に保たれた容器１１はエミツタ室４等を絶縁保
護するためのもので、その内部は気密に保たれて
フレオンガスが充填されている。容器１１を貫通
してエミツタ１、引出し電極３、第２電極６等へ
高電圧を供給するための高電圧導入碍子１２が設
けられており、該高電圧導入碍子１２の表面には
断面が半円形をなした螺旋状の溝が設けられ、こ
の溝にはガス供給管として例えば絶縁チユーブ１
３が捲回されて取付けられている。該絶縁チユー
ブ１３の一端はエミツタ室４に接続され、他端は
ガス供給源１４に接続されている。１５は高電圧
導入碍子１２を容器１１に固定する固定材で、１
６は内部に導線２を有し、高圧導入碍子１２を貫
通して各電極に高電圧を供給する高圧ケーブルで
ある。
図において、１はガスをイオン化する為の細い針
端を有するエミツタで、該エミツタ１は導線２を
通じて図示しない加速電源に接続されている。３
はエミツタに強電界を与えガスをイオン化し、イ
オン化したイオンを加速部に引出す引出し電極
で、該引出し電極と一体になつてエミツタ室４が
形成されており室全体が例えば略100KVに保持
されている。エミツタ室の下方には、絶縁筒５を
介してイオンビーム収束用の第２電極６、更にそ
の下方には絶縁筒７を介して接地電位に保たれた
加速電極８が配置されており、該加速電極８は鏡
筒９に接続されており、その内部は１×10-5
Torr程度以下の真空に保たれる。但し、エミツ
タ室４内にはイオン化ガスが供給され、３枚の電
極の中心孔を通つて排気されるため、該室４内は
10-3Torr程度の真空度となる。１０は接地電位
に保たれた容器１１に対し高電圧部を覆い電界緩
和を行うシールド電極であり、該シールド電極１
０は第２電極６と同電位に保たれている。接地電
位に保たれた容器１１はエミツタ室４等を絶縁保
護するためのもので、その内部は気密に保たれて
フレオンガスが充填されている。容器１１を貫通
してエミツタ１、引出し電極３、第２電極６等へ
高電圧を供給するための高電圧導入碍子１２が設
けられており、該高電圧導入碍子１２の表面には
断面が半円形をなした螺旋状の溝が設けられ、こ
の溝にはガス供給管として例えば絶縁チユーブ１
３が捲回されて取付けられている。該絶縁チユー
ブ１３の一端はエミツタ室４に接続され、他端は
ガス供給源１４に接続されている。１５は高電圧
導入碍子１２を容器１１に固定する固定材で、１
６は内部に導線２を有し、高圧導入碍子１２を貫
通して各電極に高電圧を供給する高圧ケーブルで
ある。
以上の様に構成された実施例装置においては絶
縁チユーブ１３の図中ＡとＢに示す管の距離を充
分に長く取ることが可能となるので、イオン化ガ
スの種類（酸素、窒素、アルゴン等）を変えた
り、エミツタ室４の印加電圧即ち加速電圧を高く
しても、絶縁チユヘブ１３内の放電は充分に防止
することが可能となる。又、絶縁チユーブ１３を
絶縁碍子に捲つけているため、ガス供給管を使用
しない他のタイプのイオン源装置と比較しても装
置の大型化を避けることができる。
縁チユーブ１３の図中ＡとＢに示す管の距離を充
分に長く取ることが可能となるので、イオン化ガ
スの種類（酸素、窒素、アルゴン等）を変えた
り、エミツタ室４の印加電圧即ち加速電圧を高く
しても、絶縁チユヘブ１３内の放電は充分に防止
することが可能となる。又、絶縁チユーブ１３を
絶縁碍子に捲つけているため、ガス供給管を使用
しない他のタイプのイオン源装置と比較しても装
置の大型化を避けることができる。
尚、本考案は以上の実施例に限定されるもので
はなく、本実施例においては容器１１の内部にフ
レオンガス等の絶縁ガスを使用したが、容器１１
の内部は10-6〜10-8Torrの真空としてもよく、
又高圧導入碍子１２は絶縁材であればよく、たと
えばプラスチツクでも同様な効果を得ることがで
きる。
はなく、本実施例においては容器１１の内部にフ
レオンガス等の絶縁ガスを使用したが、容器１１
の内部は10-6〜10-8Torrの真空としてもよく、
又高圧導入碍子１２は絶縁材であればよく、たと
えばプラスチツクでも同様な効果を得ることがで
きる。
以上の様に本考案はガス相の電界放出型イオン
源のガス供給管を絶縁容器内に収納する場合に有
効で、かつ装置を小形化することができる。
源のガス供給管を絶縁容器内に収納する場合に有
効で、かつ装置を小形化することができる。
図面は本考案の一実施例を示す断面図である。
１：エミツタ、２：導線、３：引出し電極、
４：エミツタ室、５：絶縁筒、６：第２電極、
７：絶縁筒、８：加速電極、９：真空鏡筒、１
０：シールド電極、１１：容器、１２：高圧導入
碍子、１３：絶縁チユーブ、１４：ガス供給源、
１５：固定材、１６：高圧ケーブル。
４：エミツタ室、５：絶縁筒、６：第２電極、
７：絶縁筒、８：加速電極、９：真空鏡筒、１
０：シールド電極、１１：容器、１２：高圧導入
碍子、１３：絶縁チユーブ、１４：ガス供給源、
１５：固定材、１６：高圧ケーブル。
Claims (1)
- 接地電位に保たれた容器と、該容器内に設けら
れたエミツタ室と、前記容器外の高圧電源の出力
を前記エミツタ室へ印加するための導線が埋めこ
まれ、前記容器の気密を保つて該容器を貫通する
絶縁部材と、前記エミツタ室と容器外のガス供給
源とを結ぶ絶縁性ガス供給管を備えた装置におい
て、前記絶縁部材に前記絶縁性ガス供給管を捲回
するよう構成したことを特徴とするイオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14152082U JPS5948738U (ja) | 1982-09-18 | 1982-09-18 | イオン源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14152082U JPS5948738U (ja) | 1982-09-18 | 1982-09-18 | イオン源 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5948738U JPS5948738U (ja) | 1984-03-31 |
| JPS6345732Y2 true JPS6345732Y2 (ja) | 1988-11-28 |
Family
ID=30316501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14152082U Granted JPS5948738U (ja) | 1982-09-18 | 1982-09-18 | イオン源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5948738U (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5809890B2 (ja) * | 2011-09-05 | 2015-11-11 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンビーム装置 |
| US12283452B2 (en) | 2021-04-15 | 2025-04-22 | Hitachi High-Tech Corporation | Charged particle beam apparatus |
-
1982
- 1982-09-18 JP JP14152082U patent/JPS5948738U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5948738U (ja) | 1984-03-31 |
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