JPS6345773Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6345773Y2 JPS6345773Y2 JP19444981U JP19444981U JPS6345773Y2 JP S6345773 Y2 JPS6345773 Y2 JP S6345773Y2 JP 19444981 U JP19444981 U JP 19444981U JP 19444981 U JP19444981 U JP 19444981U JP S6345773 Y2 JPS6345773 Y2 JP S6345773Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- outer shell
- shell container
- plate
- gas
- partition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 210000005069 ears Anatomy 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Gas-Insulated Switchgears (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本案はガス絶縁開閉装置の改良に関する。
近時、一つの外殻容器の中に内部機器を配置し
て２Kg／cm2・ｇ以下の低圧の絶縁性ガスを封入し
て絶縁したホールインワン形のガス絶縁開閉装置
が検討されている。この装置では内圧が低いこと
から、外殻容器の耐圧力強度を大きなものとする
必要がなく、これに付随する全ての面で好都合で
ある。
て２Kg／cm2・ｇ以下の低圧の絶縁性ガスを封入し
て絶縁したホールインワン形のガス絶縁開閉装置
が検討されている。この装置では内圧が低いこと
から、外殻容器の耐圧力強度を大きなものとする
必要がなく、これに付随する全ての面で好都合で
ある。
本案はこの様なガス絶縁開閉装置の実用化を便
ならしめるため案出されたもので、以下図面に示
す実施例に基づき説明する。
ならしめるため案出されたもので、以下図面に示
す実施例に基づき説明する。
第１図は本案の１実施例を示す簡略断面図で、
CHdはケーブルヘツド、DSは断路器、ESWは接
地装置、GCBはしや断器、LAはアレスタ、Ｂは
回線接続用の母線で、これらが箱形の外殻容器１
内に収納されている。前記容器１内にはSF6ガス
等の絶縁性ガスＧが２Kg／cm2・ｇ以下の圧力で封
入され各部の絶縁が図られている。
CHdはケーブルヘツド、DSは断路器、ESWは接
地装置、GCBはしや断器、LAはアレスタ、Ｂは
回線接続用の母線で、これらが箱形の外殻容器１
内に収納されている。前記容器１内にはSF6ガス
等の絶縁性ガスＧが２Kg／cm2・ｇ以下の圧力で封
入され各部の絶縁が図られている。
なお、C1は受電ケーブル、C2は送り出しケー
ブル、CTは変流器である。Ｋは操作器箱兼用の
架台で、この内部には前記しや断器、断路器、接
地装置等の操作器が配設されている。第１図のも
のの電気線図を示すと第２図の如くなる。ここで
Ｔは変圧器である。
ブル、CTは変流器である。Ｋは操作器箱兼用の
架台で、この内部には前記しや断器、断路器、接
地装置等の操作器が配設されている。第１図のも
のの電気線図を示すと第２図の如くなる。ここで
Ｔは変圧器である。
而して、前記外殻容器１は底板１ａとこれを囲
繞する４側板１ｂ〜１ｅと、天井板１ｆとで気密
の箱形に構成され、更に容器１内を第１室２、第
２室３、第３室４等に仕切るための仕切板５，６
が垂直に設けられている。仕切板５，６は底板１
ａに溶接７で接合されている。この仕切板５，６
には、例えば断路器、接地装置等が必要に応じて
取付けられ内部レイアウトの合理化が計られてい
る。
繞する４側板１ｂ〜１ｅと、天井板１ｆとで気密
の箱形に構成され、更に容器１内を第１室２、第
２室３、第３室４等に仕切るための仕切板５，６
が垂直に設けられている。仕切板５，６は底板１
ａに溶接７で接合されている。この仕切板５，６
には、例えば断路器、接地装置等が必要に応じて
取付けられ内部レイアウトの合理化が計られてい
る。
前記仕切板５，６は第３図に示す如く、天井板
１ｆから外部に突出せしめられており、この部分
に吊り耳８が設けられている。吊り耳８は装置全
体若しくは外殻容器１を吊り上げることが可能な
強度を有せしめられている。
１ｆから外部に突出せしめられており、この部分
に吊り耳８が設けられている。吊り耳８は装置全
体若しくは外殻容器１を吊り上げることが可能な
強度を有せしめられている。
又、前記仕切板５，６は必要に応じ、側板１ｂ
〜１ｅから外部に突出せしめられている。この場
合、仕切板５，６と側板１ｂ〜１ｅの間は気密に
溶接されている。
〜１ｅから外部に突出せしめられている。この場
合、仕切板５，６と側板１ｂ〜１ｅの間は気密に
溶接されている。
仕切板５，６を入れることにより、これが外殻
容器１の補強を兼ねるので、天井板１ｆ、側板１
ｂ〜１ｅの板厚を薄くでき、経済的とすることが
可能となる。又、仕切板５，６で必要に応じ、外
殻容器１内を第１〜３室２〜４の如く複数室に大
略区分することができ、更に絶縁スペーサＳを用
いて貫通孔を閉止し各室を完全にガス的に区分す
ることもでき、この様にすれば故障を特定室に区
分できる外、内部機器の点検等がガス絶縁装置全
体の停電を行なうことなく実施できる。
容器１の補強を兼ねるので、天井板１ｆ、側板１
ｂ〜１ｅの板厚を薄くでき、経済的とすることが
可能となる。又、仕切板５，６で必要に応じ、外
殻容器１内を第１〜３室２〜４の如く複数室に大
略区分することができ、更に絶縁スペーサＳを用
いて貫通孔を閉止し各室を完全にガス的に区分す
ることもでき、この様にすれば故障を特定室に区
分できる外、内部機器の点検等がガス絶縁装置全
体の停電を行なうことなく実施できる。
更に、側板５，６には、断路器、接地装置等の
取付けが可能となり内部機器の立体配置ができ、
レイアウトが容易となつてスペースフアクタが良
く、外殻容器１を小形化できる。
取付けが可能となり内部機器の立体配置ができ、
レイアウトが容易となつてスペースフアクタが良
く、外殻容器１を小形化できる。
仕切板５，６を境としてユニツト生産をするこ
とも可能となり、第２室３は共通のものを製作
し、第１室２と第４室は異なつた多種類のものを
製作しこれらの組合せにより多種類の電気結線の
ガス絶縁開閉装置を得ることができる。この場
合、第１室２と第２室３とで装置を構成すること
もできる。
とも可能となり、第２室３は共通のものを製作
し、第１室２と第４室は異なつた多種類のものを
製作しこれらの組合せにより多種類の電気結線の
ガス絶縁開閉装置を得ることができる。この場
合、第１室２と第２室３とで装置を構成すること
もできる。
又、側板１ｃ，１ｅとして要求される原材料が
市場性のないもので特寸となる場合がある。又第
３図の如く側板１ｅを波形加工して強度増加を計
ることがあるが、これが加工機械の限界寸法を越
えることがある。この様に側板を１枚板で加工す
ることが不可能な場合には、側板１ｅの如く継ぎ
の側板で構成することとなるが、これが容易とな
る。特に波形加工側板を採用したときは山と谷の
寸法を合せなければ形状的に見苦しいが、仕切板
５，６を側板１ｅから突出させることによりこの
部分で側板を接合し波形の多少のずれをカバーし
視覚的に同一形状にすることができる。
市場性のないもので特寸となる場合がある。又第
３図の如く側板１ｅを波形加工して強度増加を計
ることがあるが、これが加工機械の限界寸法を越
えることがある。この様に側板を１枚板で加工す
ることが不可能な場合には、側板１ｅの如く継ぎ
の側板で構成することとなるが、これが容易とな
る。特に波形加工側板を採用したときは山と谷の
寸法を合せなければ形状的に見苦しいが、仕切板
５，６を側板１ｅから突出させることによりこの
部分で側板を接合し波形の多少のずれをカバーし
視覚的に同一形状にすることができる。
仕切板を使用することにより上述の如き便役が
得られる訳であるが、本案では仕切板を天井板か
ら突出せしめ、ここに吊り耳を構成することによ
り、ガス絶縁開閉装置若しくは外殻容器の吊り上
げを簡単に行なうことができる。又、吊り上げの
作業性が良くなり、ボス等を付加する必要がな
く、美観上秀れている。更に仕切板は外殻容器の
底板に溶接されているので強度上都合が良いとい
つた実用的な効果を奏する。
得られる訳であるが、本案では仕切板を天井板か
ら突出せしめ、ここに吊り耳を構成することによ
り、ガス絶縁開閉装置若しくは外殻容器の吊り上
げを簡単に行なうことができる。又、吊り上げの
作業性が良くなり、ボス等を付加する必要がな
く、美観上秀れている。更に仕切板は外殻容器の
底板に溶接されているので強度上都合が良いとい
つた実用的な効果を奏する。
なお、前記仕切板を１枚としてもよいことは云
うまでもない。
うまでもない。
第１図は本案の１実施例を示す簡略断面図、第
２図は第１図のものの単線図、第３図は第１図に
示す装置の斜視図である。 １：外殻容器、５，６：仕切板、８：吊り耳、
DS：断路器、ESW：接地装置、GCB：しや断
器、Ｂ：母線、Ｇ：絶縁性ガス。
２図は第１図のものの単線図、第３図は第１図に
示す装置の斜視図である。 １：外殻容器、５，６：仕切板、８：吊り耳、
DS：断路器、ESW：接地装置、GCB：しや断
器、Ｂ：母線、Ｇ：絶縁性ガス。
Claims (1)
- 箱形の外殻容器内に内部機器を配設して２Kg／
cm2・ｇ以下の絶縁性ガスを封入したものにおい
て、下部が前記外殻容器の底板に接合された仕切
板を前記外殻容器内に設けこの上部を前記外殻容
器の天井板より外部に突出させこの突出部に少く
とも前記外殻容器を吊り上げ可能な強度を有する
吊り耳を構成して成ることを特徴とするガス絶縁
開閉装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19444981U JPS5897917U (ja) | 1981-12-23 | 1981-12-23 | ガス絶縁開閉装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19444981U JPS5897917U (ja) | 1981-12-23 | 1981-12-23 | ガス絶縁開閉装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5897917U JPS5897917U (ja) | 1983-07-04 |
| JPS6345773Y2 true JPS6345773Y2 (ja) | 1988-11-29 |
Family
ID=30107766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19444981U Granted JPS5897917U (ja) | 1981-12-23 | 1981-12-23 | ガス絶縁開閉装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5897917U (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003065424A2 (en) | 2002-01-25 | 2003-08-07 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for cyclical deposition of thin films |
| US6998014B2 (en) | 2002-01-26 | 2006-02-14 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for plasma assisted deposition |
| US6911391B2 (en) | 2002-01-26 | 2005-06-28 | Applied Materials, Inc. | Integration of titanium and titanium nitride layers |
| WO2008033186A1 (en) | 2006-07-31 | 2008-03-20 | Applied Materials, Inc. | Methods of controlling morphology during epitaxial layer formation |
-
1981
- 1981-12-23 JP JP19444981U patent/JPS5897917U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5897917U (ja) | 1983-07-04 |
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