JPS634616A - 蒸気処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、処理技術に適用して特に有効な技術に関する
もので、たとえば、半導体装置の製造における半導体ウ
ェハの蒸気処理に利用して有効な技術に関するものであ
る。

〔従来の技術〕

半導体ウェハの蒸気乾燥処理については、たとえば特開
昭５６−１６８０７号公報に記載されており、その概要
は有機溶剤の蒸気雰囲気中に半導体ウェハを浸漬させて
、該半導体ウェハの表面に付着した水滴等を除去するこ
とにより半導体ウェハの表面乾燥を達成しようとするも
のである。

本発明者は、前記のような蒸気処理技術について検討し
た。以下は、公知とされた技術ではないが、本発明者に
よって検討された技術であり、その概要は次の通りであ
る。

すなわち、前記のような構造の蒸気乾燥装置では、有機
溶剤等の溶液を底部に貯留して、その上方で蒸気処理を
行う、いわゆる蒸気発生部と処理部とが一体構造となっ
たものが知られている。しかし、このような−体構造の
処理装置では被処理物の導入の際等に処理槽内の蒸気量
が急速に減少し、所定値までの１気量の回復に長時間の
時間経過が必要となる。

そのため、蒸気発生部と処理部とを分離して、蒸気発生
部により生成された蒸気を搬送路を介して処理部に移送
し、短時間で大量の処理蒸気を処理部に供給する装置構
造が考えられる。

ところで、このように処理部と蒸気発生部とを分離した
装置構造では、処理部への処理蒸気の供給制御を行うた
めに、移送路の途中部分に処理蒸気の供給量を制御する
制御パルプを介設することが知られているが、この制御
パルプの開閉動作により発塵し、発塵物質が処理蒸気中
に混入されたまま処理部に移送されるおそれがある。こ
のような点から、移送路の途中部分にフィルターを介装
して、処理蒸気中の異物の除去を行うことが考えられる
。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、このように移送路の途中部分にフィルターを介
装した場合、移送されてきた処理蒸気が該フィルターの
部分で液化してしまい、蒸気の状態で処理部にまで到達
し得ない場合の多いことが本発明者によって明らかにさ
れた。

本発明は、上記問題点に着目してなされたものであり、
その目的は蒸気処理の信頼性を向上させることのできる
技術を提供することにある。

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。

〔問題点を解決するための手段〕

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を節単に説明すれば、次の通りである。

すなわち、蒸気発生部と処理部とを連通ずる蒸気移送路
にフィルターを介設し、少なくとも該フィルターに加熱
手段を設けたものである。

〔作用〕

上記した手段によれば、フィルター内を所定の加熱状態
で維持しておくことができるため、処理蒸気がフィルタ
ーを通過する際に液化されることを防止でき、処理部に
清浄かつ十分な蒸気量を供給することができる。

〔実施例１〕 第１図は本発明の一実施例である蒸気処理装置を示す概
略説明図である。

本実施例１の蒸気処理装置１は、たとえば半導体ウェハ
２（被処理物）の表面乾燥を行う蒸気乾燥装置であり、
蒸気発生部である蒸気発生槽３と処理部である処理槽４
とを有している。

蒸気発生槽３の内部には、たとえばイソプロピルアルコ
ール（ＩＰＡ）等の有Ｉａ溶剤等の処理液５が貯留され
、該蒸気発生槽３の下部に設けられたヒータ６によって
加熱されて処理蒸気７が発生される構造となっている。

一方、処理槽４はその内部に被処理物である半導体ウェ
ハ２が位置されるようになっており、この処理槽４の内
部は前記処理槽４の外側面近傍に設けられたヒータ８に
より常に所定温度、たとえば存機溶剤が蒸気状態を維持
できる８２℃以上の温度となるように制御されている。

半導体ウェハ２は図示しない治具等に収容された状態で
前記処理槽４の内外を移送される構造となっている。ま
た、処理槽４の内底部には廃液管９が接続されており、
半導体ウェハ２から処理槽４の底部に滴下された処理廃
液１０が外部に排出される構造となっている。

蒸気発生槽３と処理槽４とは蒸気移送路としての蒸気移
送管１１により連通されており、蒸気発生槽３からの処
理蒸気７が該蒸気移送管１１を経て処理槽４に供給され
る構造となっている。蒸気移送管１１の途中部分で蒸気
発生槽３寄りの部分には制御パルプ１２が介設されてお
り、処理蒸気７の供給制御が行われる構造となっている
。

蒸気移送管１１の処理槽４寄りの部分にはフィルター機
構１３が取付けられている。このフィルター機構１３は
、その中央部分に蒸気移送管１１を遮るように設けられ
た多孔質材からなるフィルター本体１４と、このフィル
ター本体１４を挟持するようにフィルター本体１４の周
囲に設けられたヒータ１５とが断熱材１６により外部と
遮断された構造を有しており、ヒーター１５の作用によ
り、フィルター本体１４内は少な（とも処理蒸気７が蒸
気の状態を維持できる温度、たとえば８２℃程度となる
ように制御されている。

次に、本実施例の作用について説明する。

まず、蒸気発生槽３の内部に貯留された有機溶剤等の処
理液５がヒーター６によって加熱され沸点、たとえば８
２℃程度に達すると蒸気発生槽３の内部が処理蒸気７の
雰囲気で満たされる。

次に、処理槽４の内部に図示しない治具に収容された状
態の半導体ウェハ２が移送されると’ｉｒｉｔｍバルブ
１２が開かれ、蒸気移送管１１′に処理蒸気７が供給さ
れていく、ここで、制御バルブ１２の作動による発塵に
ともない、微小異物が処理蒸気７内に混入される場合が
あるが、このような微小異物は、処理蒸気７がフィルタ
ー機構１３を通過する際に処理蒸気７中から除去される
。

ここで、フィルター機構１３を通過する際に処、理蒸気
７が凝縮して液化してしまうことも考えられるが、本実
施例１によればヒーター１５のはたらきにより、フィル
ター本体１４の内部は処理液５である有機溶剤の沸点よ
りも高い温度となるように維持されているため、このフ
ィルター本体１４を通過する際に有ｗ１溶剤の処理蒸気
７は液化することなく、清浄化された蒸気の状態で処理
槽４内に順次供給される。

処理槽４内において、有機溶剤の処理蒸気７は常温状態
の半導体ウェハ２と接触すると、半導体ウェハ２の表面
に凝縮して液化する。ここで、半導体ウェハ２の表面に
付着していた水滴等は、前記有ｍ溶剤の液滴に溶解・分
解されて処理槽４の底部に落下除去され、廃液管９を経
て外部に排出される。この現象が、半導体ウェハ２と周
囲の処理蒸気７の雰囲気とがほぼ等しい温度になるまで
繰り返されることによって、半導体ウェハ２の表面が所
定の乾燥状態となる。

このように、本実施例によれば以下の効果を得ることが
できる。

＋１１．＠気移送管１１に介設されたフィルター機構１
３にヒータ１５を備え、フィルター本体１４を常に所定
の加熱状態にしておくことにより、フィルター機構１３
を通過する際の処理蒸気７の液化を防止でき、処理槽４
内に大量の処理蒸気７を急速に供給することができる。

（２）、前記＋１１により、蒸気乾燥処理の効率を向上
させることができる。

（３）、蒸気移送管１１にフィルター機構１３を設ける
ことにより、処理蒸気７とともに異物が処理槽４内に混
入されることを防止でき、信頼性の高い蒸気乾燥処理を
実現できる。

〔実施例２〕 第２図は本発明の他の実施例である蒸気乾燥装置に適用
されるフィルター機構を示す概略斜視図である。

本実施例２のフィルター機構２１は、蒸気移送管１１に
対して垂直方向に設けられる一対の板状ヒータ２３ａ、
２３ｂと、この板状ヒータ２３ａ。

２３ｂにより挟持される薄板状のフィルター２４とから
なる。板状ヒータ２３ａにはそれぞれ複数個の孔２５が
開設されており、各孔２５はその途中部分でフィルター
２４により遮られる構造となっている。

したがって、本実施例２では、１気移送管１１の中を通
って送られてきた処理蒸気７は板状ヒータ２３ａ、２３
ｂの孔２５内を通過する際にフィルター２４の作用によ
り異物が除去されるようになっている。

このように、本実施例２によれば簡易なフィルター構造
で処理蒸気７の液化を防止できる。またフィルター２４
の交換も容易に行うことが可能となる。

〔実施例３〕 第３図は本発明の他の実施例である蒸気乾燥装置に適用
されるフィルター機構を示す概略断面図である。

本実施例３では、フィルター機構３１は蒸気移送管１１
の所定内部に充填された多孔質材からなるフィルター本
体１４と、該フィルター本体１４を貫通して配管される
加熱管３２とからなる。

加熱管３２には、たとえば加熱水蒸気あるいは高温水等
の加熱流体３３が循環される構造となっており、これに
よりフィルター本体１４が有機溶剤の沸点以上の温度を
維持できる構造となっている。

このように、本実施例３では電気的なヒータを用いずに
、加熱管３２内に加熱流体３３を循環させる構造である
ため、有ａ溶剤への引火の危険性がなく、安全性の高い
処理蒸気７の加熱を実現できる。また、その結果として
、フィルター本体１４の内部に直接加熱管３２を配管す
ることが可能となり、フィルター本体１４内での処理蒸
気７の液化をより完全に防止できる。

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない、たとえば、加熱手段につ
いては電気ヒータあるいは加熱管を用いるものについて
のみ説明したが、これに限らず、たとえばランプヒータ
等地の加熱手段を用いてもよい、また、実施例３に示し
た加熱管はフィルターの内設された蒸気移送管の外周に
巻回されるような構造のものであってもよい。

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその利用分野である、いわゆる蒸気乾燥装置に適用し
た場合について説明したが、これに限定されるものでは
なく、たとえば蒸気エツチング装置等にも適用できる。

〔発明の効果〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。

すなわち、処理蒸気中に被処理物を位置させることによ
って前記被処理物、に所定の処理を施す処理装置であっ
て、処理蒸気を発生させる蒸気発生部と、被処理物が位
置される処理部と、前記蒸気発生部と該処理部とを連通
しフィルターの介設された蒸気移送路とを有しており、
少なくとも当該フィルターが加熱手段を備えた蒸気処理
装置構造とすることにより、処理蒸気がフィルターを通
過する際に異物の除去が可能であるとともに、処理蒸気
の液化を防止でき、処理部における信鯨性の高い蒸気処
理を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例である蒸気処理装置を示す概
略説明図、 第２図は本発明の他の実施例２である蒸気処理装置のフ
ィルター構造を示す概略斜視図、第３図は本発明の実施
例３である蒸気処理装置のフィルター構造を示す概略断
面図である。 ｌ・・・蒸気処理装置、２・・・半導体ウェハ、３・・
・蒸気発生槽、４・・・処理槽、５・・・処理液、６・
・・ヒータ、７・・・処理蒸気、８・・・ヒータ、９・
・・廃液管、１０・・・処理廃液、１１・・・蒸気移送
管、１２・・・ｆ、Ｉｆ御バルブ、１３・・・フィルタ
ー機構、１４・・・フィルター本体、１５・・・ヒータ
、１６・・・断熱材、２１・・・フィルター機構、２３
ａ、２３ｂ・・・板状ヒータ、２４・・・フィルター、
２５・・・孔、３１・・・フィルター機構、３２・・・
加熱管、３３・・・加熱流体。 代理人　弁理士　小　川　勝　男・：、！ζ”ＷＣ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、処理蒸気中に被処理物を位置させることによって前
   記被処理物に所定の処理を施す処理装置であって、処理
   蒸気を発生させる蒸気発生部と、被処理物が位置される
   処理部と、前記蒸気発生部と該処理部とを連通しフィル
   ターの介設された蒸気移送路とを有しており、少なくと
   も前記フィルターが加熱手段を備えてなることを特徴と
   する蒸気処理装置。 ２、加熱手段が電気ヒータであることを特徴とする特許
   請求の範囲第１項記載の蒸気処理装置。 ３、加熱手段が内部に高温流体を循環させる加熱管であ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の蒸気処
   理装置。 ４、被処理物が半導体ウェハであり、処理蒸気が有機溶
   剤蒸気であることを特徴とする特許請求の範囲第１項、
   第２項、又は第３項記載の蒸気処理装置。