JPS6348633A - 情報記録再生装置 - Google Patents
情報記録再生装置Info
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- JPS6348633A JPS6348633A JP61191858A JP19185886A JPS6348633A JP S6348633 A JPS6348633 A JP S6348633A JP 61191858 A JP61191858 A JP 61191858A JP 19185886 A JP19185886 A JP 19185886A JP S6348633 A JPS6348633 A JP S6348633A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、電子ビームを情報信号によって変調し、記憶
媒体上に照射して情報を記録し、或いは記録された情報
を再生成いは消去し、情報の記録・再生令消去時の安定
なトラッキング制御を行うように構成し、複数の電子ビ
ーム発生源を有する情報記録再生装置に関するものであ
る。
媒体上に照射して情報を記録し、或いは記録された情報
を再生成いは消去し、情報の記録・再生令消去時の安定
なトラッキング制御を行うように構成し、複数の電子ビ
ーム発生源を有する情報記録再生装置に関するものであ
る。
［従来の技術］
上述のような情報記録装置として、どデオデイスクに代
表される光デイスク装置や、最近では光カード装置が挙
げられる。以下に、光デイスク装置に用いられる基本的
なトラッキングエラー検出方式について第４図の従来例
を２．（に説明する。第４図において、ｌｌ５Ｋはビッ
トが記録されている光ディスクであり、半導体レーザー
光源ＣＤＩから出射されたレーザービームの光路に沿っ
て、光ディスクＤＳＫからの反射光を二分割フォトディ
テクタＴＤＰＤに導くためのビームスプリフタＢＳ、
コリメータレンズＣＬ、レーザービームを光ディスクＤ
ＳＫ上で約１ｇｍφのスポット光に集光するための対物
レンズＳＬが配置されている。また、ビームスプリッタ
ＢＳの、反射方向には二分割フォトディテクタＴｎＰＤ
が設けられ、その出力信号は差動増幅器ＯＡに入力する
ようになっている。差動増幅器ＤＡの出力は、対物レン
ズＳＬを矢印ａ方向に移動させるためのアクチュエータ
ＴＡＣＴを駆動する位相補償駆動増幅器ＰＲＤＡに入力
されている。
表される光デイスク装置や、最近では光カード装置が挙
げられる。以下に、光デイスク装置に用いられる基本的
なトラッキングエラー検出方式について第４図の従来例
を２．（に説明する。第４図において、ｌｌ５Ｋはビッ
トが記録されている光ディスクであり、半導体レーザー
光源ＣＤＩから出射されたレーザービームの光路に沿っ
て、光ディスクＤＳＫからの反射光を二分割フォトディ
テクタＴＤＰＤに導くためのビームスプリフタＢＳ、
コリメータレンズＣＬ、レーザービームを光ディスクＤ
ＳＫ上で約１ｇｍφのスポット光に集光するための対物
レンズＳＬが配置されている。また、ビームスプリッタ
ＢＳの、反射方向には二分割フォトディテクタＴｎＰＤ
が設けられ、その出力信号は差動増幅器ＯＡに入力する
ようになっている。差動増幅器ＤＡの出力は、対物レン
ズＳＬを矢印ａ方向に移動させるためのアクチュエータ
ＴＡＣＴを駆動する位相補償駆動増幅器ＰＲＤＡに入力
されている。
このような構成において、第５図（ａ）に示すように光
ディスクＤＳＫ上のピッ）ＰＩＴが、レーザーど−ムス
ポットＬＢＳに対して右に寄っていると。
ディスクＤＳＫ上のピッ）ＰＩＴが、レーザーど−ムス
ポットＬＢＳに対して右に寄っていると。
二分割フォトディテクタＴＤＰＤでは左の部分のフォト
ディテクタＴＤＰＤＬの受光量が増加し、逆に（ｂ）に
示すようにビットＰＩＴがスポラ） ＬＢＳに対して左
方に寄っているときには、右部分のフォトディテクタＴ
ＤＰＤＲの受光量が増加する。（Ｃ）に示すように、ビ
ットＰＩＴがスポットＬＢＳに対して正しく中央部にあ
るときには、左右のフォトディテクタＴＤＰＤＬ 、
ＴＤＰＤＲの受光量は等しくなる。そこで、二分割フォ
トディテクタＴＤＰＤの左右２つの出力を比較すること
によって、ピッ１＝ＰｒＴとスポットＬＢＳの位置ずれ
量とずれ方向を検出することができ、差動増幅器ＯＡに
より差動Ｐｊ幅された信号が位相補償駆動増幅器ＰＲＤ
Ａに入力し、その出力によってトラッキング用アクチュ
エータＴＡＣＴが動作し。
ディテクタＴＤＰＤＬの受光量が増加し、逆に（ｂ）に
示すようにビットＰＩＴがスポラ） ＬＢＳに対して左
方に寄っているときには、右部分のフォトディテクタＴ
ＤＰＤＲの受光量が増加する。（Ｃ）に示すように、ビ
ットＰＩＴがスポットＬＢＳに対して正しく中央部にあ
るときには、左右のフォトディテクタＴＤＰＤＬ 、
ＴＤＰＤＲの受光量は等しくなる。そこで、二分割フォ
トディテクタＴＤＰＤの左右２つの出力を比較すること
によって、ピッ１＝ＰｒＴとスポットＬＢＳの位置ずれ
量とずれ方向を検出することができ、差動増幅器ＯＡに
より差動Ｐｊ幅された信号が位相補償駆動増幅器ＰＲＤ
Ａに入力し、その出力によってトラッキング用アクチュ
エータＴＡＣＴが動作し。
レーザービームスポットＬＢＳがビットＰＩＴに対して
適正な位置になるように対物レンズＳＬを制御すること
になる。
適正な位置になるように対物レンズＳＬを制御すること
になる。
しかしながら、この従来例に代表されるレーザービーム
を用いてトラッキングエラー信号を得る方法では、スポ
ラ） ＬＢＳの径を１ルｍφ以下に絞ることは難しいた
め、将来的に更に高精度なトラッキングエラー信号ＴＥ
Ｓを得ることは期待できず、そのためにトラックピッチ
を現在の２ｇ、ｍ程度から更に縮少した高密度な記録を
行うことは難しい。
を用いてトラッキングエラー信号を得る方法では、スポ
ラ） ＬＢＳの径を１ルｍφ以下に絞ることは難しいた
め、将来的に更に高精度なトラッキングエラー信号ＴＥ
Ｓを得ることは期待できず、そのためにトラックピッチ
を現在の２ｇ、ｍ程度から更に縮少した高密度な記録を
行うことは難しい。
また、このようなレーザービームと対物レンズＳしを７
クチユエータＴＡＣＴによって移動し、ビームスボッ）
ＬＢＳの位置ずれを補正する方法では、質量の大きい
対物レンズＳＬを７クチユエータＴＡＣＴで動かすため
に、応答周波数が低く高速アクセスには不向きである。
クチユエータＴＡＣＴによって移動し、ビームスボッ）
ＬＢＳの位置ずれを補正する方法では、質量の大きい
対物レンズＳＬを７クチユエータＴＡＣＴで動かすため
に、応答周波数が低く高速アクセスには不向きである。
更に、光学部品やアクチュエータＴＡＣＴを構成する磁
石やコイルは、大きな容積を心変とするため、前述した
系を多重化して高密度に並べることが困難である。
石やコイルは、大きな容積を心変とするため、前述した
系を多重化して高密度に並べることが困難である。
また、電子ビームを使用したメモリとしては、電子ビー
ムの照射によりＭＯ５構造を持つ素子中に電荷を蓄積す
る方法があるが、この方法では二次元の記録媒体上をＸ
方向偏向電極、Ｙ方向偏向電極の２つの電極に印加する
電圧によって電子ビームスポットを移動しており、記録
媒体上の基べｔ点、或いは基準線を参照した絶対距離で
ビームスと移動する方法ではないために、記録したビッ
トに再生時に直接にビームスポットを照射することが難
しい。また、現在報告されているこの方法による電子ビ
ームを使用したメモリでは、電Ｔビームが１木であり、
かつ電子ビーム発生源と記録媒体の相対関係が固定であ
るため、ビットのトレースが比較的容易ではあるが、ビ
ーム本数が多重化されしかも記録媒体がディスクのよう
に回転する場合には、ビットのトレースは極めて難しい
ものとなる。
ムの照射によりＭＯ５構造を持つ素子中に電荷を蓄積す
る方法があるが、この方法では二次元の記録媒体上をＸ
方向偏向電極、Ｙ方向偏向電極の２つの電極に印加する
電圧によって電子ビームスポットを移動しており、記録
媒体上の基べｔ点、或いは基準線を参照した絶対距離で
ビームスと移動する方法ではないために、記録したビッ
トに再生時に直接にビームスポットを照射することが難
しい。また、現在報告されているこの方法による電子ビ
ームを使用したメモリでは、電Ｔビームが１木であり、
かつ電子ビーム発生源と記録媒体の相対関係が固定であ
るため、ビットのトレースが比較的容易ではあるが、ビ
ーム本数が多重化されしかも記録媒体がディスクのよう
に回転する場合には、ビットのトレースは極めて難しい
ものとなる。
Ｃ発明の目的］
本発明の目的は、容易に微少スポットが得られ制御性の
高い電子ビームを用いて、高精度なトラッキングを行う
と共に、高Ｖ：度な情報の記録をなし得る情報記録再生
装置を提供することにある。
高い電子ビームを用いて、高精度なトラッキングを行う
と共に、高Ｖ：度な情報の記録をなし得る情報記録再生
装置を提供することにある。
［発明の概要］
上述の目的を達成するだめの本発明の要旨は、記録媒体
上に電子ビームを照射し、情報の記録・再生・消去の少
なくとも１つを行う装置において、複数個の電子ビーム
発生源を有し、前記電子ビーム発生源から出射される相
数の電子ビームのうちの少なくとも工水以上の′；ニ子
ビームを他の電子ビームが記録媒体上に記録拳再生・消
去を行う際の位置ずれ検出手段として使用することを特
徴とする情報記録再生装置である。
上に電子ビームを照射し、情報の記録・再生・消去の少
なくとも１つを行う装置において、複数個の電子ビーム
発生源を有し、前記電子ビーム発生源から出射される相
数の電子ビームのうちの少なくとも工水以上の′；ニ子
ビームを他の電子ビームが記録媒体上に記録拳再生・消
去を行う際の位置ずれ検出手段として使用することを特
徴とする情報記録再生装置である。
［発明の実施例］
本発明を第１図〜第３図に図示の実施例に基づいて詳細
に説明する。
に説明する。
第１図においてＭＭは記録媒体であり、その上方には情
報の記録・再生・消去を行うための電子ビームＭＥＢの
発生源ＭＥＢ［ｌが配置されている０本実施例では、発
生源ＭＥＢＤは複数の電子ビーム源を一次元に密に配列
した要素であり、例えば特公昭５４−３０２７４号、特
開昭５４−１１２７２号、特開昭５６−１５５２９号、
特開昭５７−３８５２８号公報等に開示されている形！
魚と同様のものである。電子ビーム発生源ＭＥＢＤは個
々の電子ビームＭＥＢの電流密度を容易に変化すること
が可能なため、情報の記録時或いは消去時には電流密度
を高くし記録媒体Ｈの材質変化を生じさせ、ピッ）ＰＩ
Ｔを形成したり消滅させることができる。また、情報の
再生時には電流密度を低くして記録媒体ＭＭの材質変化
を起こすことなく、情ｆｐを再生することが可能である
。なお記録媒体ＭＷの材料としては、電子ビームＭＥＢ
の１１＜！射によってアモルファスを結晶化、結晶をア
モルファス化する相変化を起こすＧ ｅ （１１，５）
・Ｔ ｅ （５７，５） −Ａ ｓ （３１）等が用
いられる。また、電子ビーム発生源ＭＥＢＤの側部には
トラッキング用電子ビーム発生源ＴＥＢＤが設けられ、
この発生源ＴＥＢＤは約０．２８Ｌｍ程度の径を有する
トラッキング用電子ビームＴＥＢを発生する。この場合
のトラッキング用電子ビームＴＥＢの電流密度は、記録
媒体Ｈ上に形成されるトラ−２キング用スボツ） ＴＥ
ＢＳが記録媒体ＭＭの材質に変化を生じさせない程度に
低い。
報の記録・再生・消去を行うための電子ビームＭＥＢの
発生源ＭＥＢ［ｌが配置されている０本実施例では、発
生源ＭＥＢＤは複数の電子ビーム源を一次元に密に配列
した要素であり、例えば特公昭５４−３０２７４号、特
開昭５４−１１２７２号、特開昭５６−１５５２９号、
特開昭５７−３８５２８号公報等に開示されている形！
魚と同様のものである。電子ビーム発生源ＭＥＢＤは個
々の電子ビームＭＥＢの電流密度を容易に変化すること
が可能なため、情報の記録時或いは消去時には電流密度
を高くし記録媒体Ｈの材質変化を生じさせ、ピッ）ＰＩ
Ｔを形成したり消滅させることができる。また、情報の
再生時には電流密度を低くして記録媒体ＭＭの材質変化
を起こすことなく、情ｆｐを再生することが可能である
。なお記録媒体ＭＷの材料としては、電子ビームＭＥＢ
の１１＜！射によってアモルファスを結晶化、結晶をア
モルファス化する相変化を起こすＧ ｅ （１１，５）
・Ｔ ｅ （５７，５） −Ａ ｓ （３１）等が用
いられる。また、電子ビーム発生源ＭＥＢＤの側部には
トラッキング用電子ビーム発生源ＴＥＢＤが設けられ、
この発生源ＴＥＢＤは約０．２８Ｌｍ程度の径を有する
トラッキング用電子ビームＴＥＢを発生する。この場合
のトラッキング用電子ビームＴＥＢの電流密度は、記録
媒体Ｈ上に形成されるトラ−２キング用スボツ） ＴＥ
ＢＳが記録媒体ＭＭの材質に変化を生じさせない程度に
低い。
更に記録媒体ＭＭ上には、Ｘ方向を向く２木の平行な導
電体から成るトラッキング用基準パターンＰＬ、 ＰＲ
が設けられ、このパターンＰＬ、 ＰＲにはトラッキン
グ用電子ビーム発生源ＴＥＢＩ）からの電子ビームＴＥ
Ｂの照射によって電流が流れるようになっており、２木
の基準パターンＰＬ、 ＰＲの間隔は約０．１壓ｍであ
る。基準パターンＰＬ、 ＰＲには電流を導き出すリー
ド線ＬＬＬ 、 ＬＬＲが接続され、これらの出力電流
は電圧に変換され、それぞれ増幅器ＡＬ、 ＡＲを経て
差動増幅器ＤＡに接続されている。
電体から成るトラッキング用基準パターンＰＬ、 ＰＲ
が設けられ、このパターンＰＬ、 ＰＲにはトラッキン
グ用電子ビーム発生源ＴＥＢＩ）からの電子ビームＴＥ
Ｂの照射によって電流が流れるようになっており、２木
の基準パターンＰＬ、 ＰＲの間隔は約０．１壓ｍであ
る。基準パターンＰＬ、 ＰＲには電流を導き出すリー
ド線ＬＬＬ 、 ＬＬＲが接続され、これらの出力電流
は電圧に変換され、それぞれ増幅器ＡＬ、 ＡＲを経て
差動増幅器ＤＡに接続されている。
差動増幅器ＯＡは増幅器ＡＬ、 ＡＲの出力差を増幅す
るものであり、この出力によって基準パターンＰＬ、Ｐ
Ｒを流れる電流量を比較する。差動増幅器ＯＡからの出
力は位相補償回路ＰＲＣを経てドライバ丁ＣＤに接続さ
れている。ドライバＴＣＩ）の出力はＸ方向にトラッキ
ング用電子ビームＴＥＢ及び情報の記録・再生・消去用
の複数の電子ビームＭＥＢを同時に偏向するための均一
電界を発生する偏向電極ＴＣＲ１ＴＣＬに印加されてい
る。このドライバＴＣＤは基準パターンＰＬに流れる電
流が基準パターンＰＲに流れる電流より大きいときに偏
向電極ＴＣＰが正、ＴＧＬが負になるように、差動増幅
器ＯＡの出力に応じて偏向電極ＴＣＰ 、 ＴＣＬに電
圧を印加するようになっている。この電圧の印加は差動
増幅器１１Ａの出力に応じて、基準パターンＰＬに流れ
る型温が基準パターンＰＲに流れる電流よりも小さいと
きに偏向型ｉ ＴＣＲが負、ＴＣＬが正になるようにす
る。また、ｓｃｎは信号ＳＬＩに応じて電圧を発生する
ドラ・イブ回路であり、その出力は偏向電極ＳＣＩ 、
ＳＣ２に接続され、トラッキング用電子ビームＴＥＢ
及び情報の記録・再生・消去用の複数の電子ビームＭＥ
Ｂを同時にＸ方向に偏向するために均一電界を発生する
ようになっている。電子ビー１−発生源ＭＥＢＤには記
録及び部分的な消去のための信号ＳＬ２が入力され、電
子ビーム発生源ＭＥＢＤは信号ＳＬ２によって変調され
た電子ビームＭＥＢを発生する。また、この第１図に示
す殆どの構成要素は、図示しない真空容器中に収納され
ている。
るものであり、この出力によって基準パターンＰＬ、Ｐ
Ｒを流れる電流量を比較する。差動増幅器ＯＡからの出
力は位相補償回路ＰＲＣを経てドライバ丁ＣＤに接続さ
れている。ドライバＴＣＩ）の出力はＸ方向にトラッキ
ング用電子ビームＴＥＢ及び情報の記録・再生・消去用
の複数の電子ビームＭＥＢを同時に偏向するための均一
電界を発生する偏向電極ＴＣＲ１ＴＣＬに印加されてい
る。このドライバＴＣＤは基準パターンＰＬに流れる電
流が基準パターンＰＲに流れる電流より大きいときに偏
向電極ＴＣＰが正、ＴＧＬが負になるように、差動増幅
器ＯＡの出力に応じて偏向電極ＴＣＰ 、 ＴＣＬに電
圧を印加するようになっている。この電圧の印加は差動
増幅器１１Ａの出力に応じて、基準パターンＰＬに流れ
る型温が基準パターンＰＲに流れる電流よりも小さいと
きに偏向型ｉ ＴＣＲが負、ＴＣＬが正になるようにす
る。また、ｓｃｎは信号ＳＬＩに応じて電圧を発生する
ドラ・イブ回路であり、その出力は偏向電極ＳＣＩ 、
ＳＣ２に接続され、トラッキング用電子ビームＴＥＢ
及び情報の記録・再生・消去用の複数の電子ビームＭＥ
Ｂを同時にＸ方向に偏向するために均一電界を発生する
ようになっている。電子ビー１−発生源ＭＥＢＤには記
録及び部分的な消去のための信号ＳＬ２が入力され、電
子ビーム発生源ＭＥＢＤは信号ＳＬ２によって変調され
た電子ビームＭＥＢを発生する。また、この第１図に示
す殆どの構成要素は、図示しない真空容器中に収納され
ている。
このような構成において、トラッキング用ビームスポッ
トＴＥＢＳが基準パターンＰＬ、 ＰＲと第２図（ａ）
に示すような関係にある場合に、基準パターンＰＬ、
ＰＲに流れる電流を比較すると、電子ビームＴＥＨの照
射量の多い基準パターンＰＬにより大きい電流が流れる
ため、前述したように偏向電極Ｔ［Ｊが正、ＴＣＬが負
になるように電圧が印加され、トラッキング用電子ビー
ムＴＥＢは偏向電極ＴＣＲ側に偏向され、ビームスボッ
） ＴＥＢＳは基僧パターンｐＬ側からＰＲ側に移動す
る。このとき、情報の記録・再生・消去用の複数の電子
ビームＭＥＢも、トラ−７キング用電子ビームＴＥＢの
受ける電界と全く同じ電界の影響を受けて偏向される。
トＴＥＢＳが基準パターンＰＬ、 ＰＲと第２図（ａ）
に示すような関係にある場合に、基準パターンＰＬ、
ＰＲに流れる電流を比較すると、電子ビームＴＥＨの照
射量の多い基準パターンＰＬにより大きい電流が流れる
ため、前述したように偏向電極Ｔ［Ｊが正、ＴＣＬが負
になるように電圧が印加され、トラッキング用電子ビー
ムＴＥＢは偏向電極ＴＣＲ側に偏向され、ビームスボッ
） ＴＥＢＳは基僧パターンｐＬ側からＰＲ側に移動す
る。このとき、情報の記録・再生・消去用の複数の電子
ビームＭＥＢも、トラ−７キング用電子ビームＴＥＢの
受ける電界と全く同じ電界の影響を受けて偏向される。
一方、トランキング用ビームスポットＴＥＢＳと基準パ
ターンＰＬ、 ＰＲが第２図（ｂ）に示す関係にある場
合には、基準パターンｐｌとＰＲに流れる電流を比較し
た場合に、電子ビームＴＥＢの照射量の多い基準パター
ンＰＲにより大きい電流が流れるため、前述したように
偏向電極ＴＣＲが負、ＴＣＩ、が正になるように電圧が
印加され、トラッキング用電子ビームＴＥＢは偏向′社
極ＴＣＬ側に偏向され、ビームスボッ） ＴＥＢＳは基
準パターンＰＲ側からＰＬ側に移動する。このときも第
２図（ａ）の場合と全く同様に、情報の記録・再生・消
去に使用している複数の電子ビームＭＥＢは、トラッキ
ング用電子ビームＴＥＢと同じ電界を受けて偏向される
。
ターンＰＬ、 ＰＲが第２図（ｂ）に示す関係にある場
合には、基準パターンｐｌとＰＲに流れる電流を比較し
た場合に、電子ビームＴＥＢの照射量の多い基準パター
ンＰＲにより大きい電流が流れるため、前述したように
偏向電極ＴＣＲが負、ＴＣＩ、が正になるように電圧が
印加され、トラッキング用電子ビームＴＥＢは偏向′社
極ＴＣＬ側に偏向され、ビームスボッ） ＴＥＢＳは基
準パターンＰＲ側からＰＬ側に移動する。このときも第
２図（ａ）の場合と全く同様に、情報の記録・再生・消
去に使用している複数の電子ビームＭＥＢは、トラッキ
ング用電子ビームＴＥＢと同じ電界を受けて偏向される
。
また、第２図（ｃ）に示した状態では、差動増幅器ＤＡ
からは信号が出力されないため、偏向電極ＴｃＲ、ＴＣ
Ｌには電圧が印加されず、トラッキング用電子ビームＴ
ＥＢ も複数の電子ビームＭＥＨも全く偏向されない。
からは信号が出力されないため、偏向電極ＴｃＲ、ＴＣ
Ｌには電圧が印加されず、トラッキング用電子ビームＴ
ＥＢ も複数の電子ビームＭＥＨも全く偏向されない。
実際の情報の記録・再生・消去時には、偏向電極５ｉｌ
ｌ：Ｉ 、 ＳＣ２の電圧を徐々に変化させ、複数の電
子ビームＭＥＢによって記録媒体）１％−ヒに生ずるス
ポット列をＸ方向に移動してゆくことになる。このとき
、トラッキング用ビームスポットＴＥＢＳと基準パター
ンＰＬ、 ＰＲとの関係は、第２図（ａ）、（ｂ） 、
（ｃ）に示す状態が連続的に変化するため、結果的に
ほぼ第２図（Ｃ）の状態、即ち基準パターンＰＬ、 Ｐ
Ｒの中間位置にビームスポットＴＥＢＳが位置するよう
に制御される。
ｌ：Ｉ 、 ＳＣ２の電圧を徐々に変化させ、複数の電
子ビームＭＥＢによって記録媒体）１％−ヒに生ずるス
ポット列をＸ方向に移動してゆくことになる。このとき
、トラッキング用ビームスポットＴＥＢＳと基準パター
ンＰＬ、 ＰＲとの関係は、第２図（ａ）、（ｂ） 、
（ｃ）に示す状態が連続的に変化するため、結果的に
ほぼ第２図（Ｃ）の状態、即ち基準パターンＰＬ、 Ｐ
Ｒの中間位置にビームスポットＴＥＢＳが位置するよう
に制御される。
本実施例においては、ビームスポットＴＥＢＳの径の１
／１０、即ち０．０２ｐｍφ程度の高精度でトラ−２キ
ング用電子ビームＴＥＢを基準パターンＰＬ、 ＰＲに
沿って走査することが可能である。従って、トラッキン
グ用電子ビームＴＥＢと全く同じ電界を受けている複数
の電子ビームＭＥＢも、トラッキング用電子ビームＴＥ
Ｂと同じ精度で走査を行うことになり、基準パターンＰ
Ｌ、 ＰＲを基準に記録されたピットＰＩＴを、再生時
或いは消去時にも基準パターンＰＬ、Ｐａ１をトラッキ
ング用電子ビームτＥＢで走査することにより、極めて
正確にトレースすることが可能である。
／１０、即ち０．０２ｐｍφ程度の高精度でトラ−２キ
ング用電子ビームＴＥＢを基準パターンＰＬ、 ＰＲに
沿って走査することが可能である。従って、トラッキン
グ用電子ビームＴＥＢと全く同じ電界を受けている複数
の電子ビームＭＥＢも、トラッキング用電子ビームＴＥ
Ｂと同じ精度で走査を行うことになり、基準パターンＰ
Ｌ、 ＰＲを基準に記録されたピットＰＩＴを、再生時
或いは消去時にも基準パターンＰＬ、Ｐａ１をトラッキ
ング用電子ビームτＥＢで走査することにより、極めて
正確にトレースすることが可能である。
また本実施例では、トラッキング用ビームを電子ビーム
ＴＨＥとしたのみならず、情報の記録Φ再生・消去を行
うビームをも電子ビームＷＥＢとしたため、トラッキン
グ用電子ビームＴＥＢを偏向する手段により容易に偏向
を行うことができ、光ビームの際に必要となるアクチュ
エータを全く必要としないという利点もある。更に、高
密度に複数個配列することが難しい光ビームに比較して
、電子ビームは個々に偏向手段を必要としないため、容
易に電子ビームの高密度化が実現でき、高速、高密度な
記録が可ｆ屯となる。また、本実施例ではトラッキング
用電子ビーム発生源ＴＥＢＤと複数の電子ビーム発生源
ＨＥＢＤとを説明の都合士別々の要素としたが、複数の
電子ビームを発生する１つの素子において、その１本又
は数本の電子ビームをトラッキング用、残りを情報の記
録・再生や消去用に使用するという形態とすることも可
能である。
ＴＨＥとしたのみならず、情報の記録Φ再生・消去を行
うビームをも電子ビームＷＥＢとしたため、トラッキン
グ用電子ビームＴＥＢを偏向する手段により容易に偏向
を行うことができ、光ビームの際に必要となるアクチュ
エータを全く必要としないという利点もある。更に、高
密度に複数個配列することが難しい光ビームに比較して
、電子ビームは個々に偏向手段を必要としないため、容
易に電子ビームの高密度化が実現でき、高速、高密度な
記録が可ｆ屯となる。また、本実施例ではトラッキング
用電子ビーム発生源ＴＥＢＤと複数の電子ビーム発生源
ＨＥＢＤとを説明の都合士別々の要素としたが、複数の
電子ビームを発生する１つの素子において、その１本又
は数本の電子ビームをトラッキング用、残りを情報の記
録・再生や消去用に使用するという形態とすることも可
能である。
更に、上述の実施例では電子ビームＴＥＢ 、 ＷＥＢ
が第１図においてＸ方向に容易に偏向できるため、敢え
て記録媒体Ｈの移動を行わない例について説明したが、
本発明では記録媒体Ｍにが移動することによって生ずる
振動に対する追従性が高いために、例えば第１図のＸ方
向に記録媒体ＭＷが移動するカード形態や、ディスクの
ような媒体が回転する場合にも有効である。例えば、第
３図に示すように構成することにより、ディスクＭＭＤ
の偏心等により基準パターンＰＬ、 ＰＲが振れた場合
でも、トラッキング用型子ビーム丁ＥＢは常に図示しな
い偏向電極により、基準パターンＰＬ、 ＰＲの中央に
位置するように偏向される。このとき、情報の記録・再
生・消去用の複数の電子ビームＭＥＢも同一の電界の影
響を受は偏向されるために、これらの電子ビームＷＥＢ
とトラッキング用電子ビームＴＥＨの位置関係は常に
一定となる。この位置関係は情報の記録、再生、消去の
何れにおいても変化することがないので、−旦記録した
ピットを再生時に容易に高精度でトレースすることがで
きる。
が第１図においてＸ方向に容易に偏向できるため、敢え
て記録媒体Ｈの移動を行わない例について説明したが、
本発明では記録媒体Ｍにが移動することによって生ずる
振動に対する追従性が高いために、例えば第１図のＸ方
向に記録媒体ＭＷが移動するカード形態や、ディスクの
ような媒体が回転する場合にも有効である。例えば、第
３図に示すように構成することにより、ディスクＭＭＤ
の偏心等により基準パターンＰＬ、 ＰＲが振れた場合
でも、トラッキング用型子ビーム丁ＥＢは常に図示しな
い偏向電極により、基準パターンＰＬ、 ＰＲの中央に
位置するように偏向される。このとき、情報の記録・再
生・消去用の複数の電子ビームＭＥＢも同一の電界の影
響を受は偏向されるために、これらの電子ビームＷＥＢ
とトラッキング用電子ビームＴＥＨの位置関係は常に
一定となる。この位置関係は情報の記録、再生、消去の
何れにおいても変化することがないので、−旦記録した
ピットを再生時に容易に高精度でトレースすることがで
きる。
また、本実施例では電子ビームを電界により偏向する例
について説明したが、磁界による偏向によっても全く同
じ効果が得られることは云うまでもない。
について説明したが、磁界による偏向によっても全く同
じ効果が得られることは云うまでもない。
［発明の効果コ
以上説明したように本発明に係る情報記録再生装置によ
れば、電子ビームの照射によりＳ／Ｎ比の高い極めて高
精度なトラッキングエラー信号を検出可能にすると共に
、記録・再生・消去にも電子ビームを使用することによ
り、光ビームでは困難なｌｊＬｍφ以下のピットによる
高密度記録が可能となる。また、記録・再生・消去に使
用する１本又は複数本の電子ビームは、一対の偏向電極
で容易に偏向できるため、ビームの本数だけ光学系やア
クチュエータを必要とする従来の光ビーム記録に比べ、
電子ビーム発生源の高密度な実装が容易で、高速、高密
度なメモリを構成することができる。
れば、電子ビームの照射によりＳ／Ｎ比の高い極めて高
精度なトラッキングエラー信号を検出可能にすると共に
、記録・再生・消去にも電子ビームを使用することによ
り、光ビームでは困難なｌｊＬｍφ以下のピットによる
高密度記録が可能となる。また、記録・再生・消去に使
用する１本又は複数本の電子ビームは、一対の偏向電極
で容易に偏向できるため、ビームの本数だけ光学系やア
クチュエータを必要とする従来の光ビーム記録に比べ、
電子ビーム発生源の高密度な実装が容易で、高速、高密
度なメモリを構成することができる。
第１図は本発明に係る情報記録再生装置の実施例の構成
図、第２図は基準パターンと電子ビームスポットの関係
図、第３図は他の実施例の＾゛＾ｆＨｉ図、第４図は従
来例の構成図、第５図は第４図の光ビームスポットの検
出素子における光強９０７６図である。 符号ＭＭは記録媒体、ＭＥＢ 、ＴＥＢは電子ビーム、
ＳＣＩ 、 ＳＣ２、ＴＣＬ 、ＴにＲは偏向電極、Ｐ
Ｌ、 Ｐｌ’ｌ導電体から成る基準パターンである。 特許出願人 キャノン株式会社 ＋山−−：、＋：４− 第２図 （Ｇ） （ｂ） （Ｃ）第３図
図、第２図は基準パターンと電子ビームスポットの関係
図、第３図は他の実施例の＾゛＾ｆＨｉ図、第４図は従
来例の構成図、第５図は第４図の光ビームスポットの検
出素子における光強９０７６図である。 符号ＭＭは記録媒体、ＭＥＢ 、ＴＥＢは電子ビーム、
ＳＣＩ 、 ＳＣ２、ＴＣＬ 、ＴにＲは偏向電極、Ｐ
Ｌ、 Ｐｌ’ｌ導電体から成る基準パターンである。 特許出願人 キャノン株式会社 ＋山−−：、＋：４− 第２図 （Ｇ） （ｂ） （Ｃ）第３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、記録媒体上に電子ビームを照射し、情報の記録・再
生・消去の少なくとも１つを行う装置において、複数個
の電子ビーム発生源を有し、前記電子ビーム発生源から
出射される複数の電子ビームのうちの少なくとも１本以
上の電子ビームを他の電子ビームが記録媒体上に記録・
再生・消去を行う際の位置ずれ検出手段として使用する
ことを特徴とする情報記録再生装置。 ２、前記記録媒体上に記録・再生・消去を行う電子ビー
ムと、前記電子ビームが記録媒体上に記録・再生・消去
を行う際の前記電子ビームの位置ずれ検出用電子ビーム
とを、均一電界によって偏向するようにした特許請求の
範囲第１項記載の情報記録再生装置。 ３、前記記録媒体上に記録・再生・消去を行う電子ビー
ムと、前記電子ビームが記録媒体上に記録・再生・消去
を行う際の前記電子ビームの位置ずれ検出用電子ビーム
とを、均一磁界によって偏向するようにした特許請求の
範囲第１項記載の情報記録再生装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61191858A JP2595212B2 (ja) | 1986-08-15 | 1986-08-15 | 情報記録再生装置 |
| US07/972,732 US5270990A (en) | 1986-08-15 | 1992-11-06 | Tracking error signal detecting apparatus using an electron beam and apparatus for effecting recording/reproduction of information by the utilization of a plurality of electron beams |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61191858A JP2595212B2 (ja) | 1986-08-15 | 1986-08-15 | 情報記録再生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6348633A true JPS6348633A (ja) | 1988-03-01 |
| JP2595212B2 JP2595212B2 (ja) | 1997-04-02 |
Family
ID=16281674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61191858A Expired - Fee Related JP2595212B2 (ja) | 1986-08-15 | 1986-08-15 | 情報記録再生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2595212B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5406052A (en) * | 1989-02-28 | 1995-04-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Pulsed arc welding equipment |
| US8670906B2 (en) | 2009-12-10 | 2014-03-11 | Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. | Dump vehicle overturn preventing device |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6029953A (ja) * | 1983-07-28 | 1985-02-15 | Fujitsu Ltd | 電子ビ−ム記録再生装置 |
| JPS60129935A (ja) * | 1983-12-16 | 1985-07-11 | Canon Inc | 光学的情報処理装置 |
| JPS60251526A (ja) * | 1984-05-25 | 1985-12-12 | Canon Inc | 光情報記録再生装置 |
-
1986
- 1986-08-15 JP JP61191858A patent/JP2595212B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6029953A (ja) * | 1983-07-28 | 1985-02-15 | Fujitsu Ltd | 電子ビ−ム記録再生装置 |
| JPS60129935A (ja) * | 1983-12-16 | 1985-07-11 | Canon Inc | 光学的情報処理装置 |
| JPS60251526A (ja) * | 1984-05-25 | 1985-12-12 | Canon Inc | 光情報記録再生装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5406052A (en) * | 1989-02-28 | 1995-04-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Pulsed arc welding equipment |
| US8670906B2 (en) | 2009-12-10 | 2014-03-11 | Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. | Dump vehicle overturn preventing device |
| US9002588B2 (en) | 2009-12-10 | 2015-04-07 | Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. | Dump vehicle overturn preventing device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2595212B2 (ja) | 1997-04-02 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |