JPS63501058A - ガス流中の物質の処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は特許請求の範囲１の前文に従うガス流中の物質の処理装置に関する。

この型の装置はそれ自体知られている（ドイツ特許３００２７７３）。

この既知の装置が；ｒ過プラントとして使用されているように、それは「向流充 填床フィルタ」ともしばしば言われている。この型のフィルタは例えば石灰又は セメントの生産中に塵をガスから除去するために使用される。既知の装置の場合 に、適当な処理又は；ｒ過材料は通常のシｒ過砂利又はこの材料の断片であり、 これは作動プロセス中に存在するばら積み材料を形成しかつ例えば清浄にされる ガス又は空気中に存在しかつうｒ過して除去される粒子（塵粒子）が戻る材料で ある。

既知のフィルタの場合に、ケーシングの内部に一つヲ他の上に垂直軸線即ち対称 軸線に対して同心状に固定様式で配置された環状処理空間は、最下方の処理空間 を除いて各処理空間がその壁によって境界されているその下方部分と共に下にあ る処理空間の上方部分中へ延びかつその点において通路開口によって下にある処 理空間に連結されるように形成されている。装置での作動プロセスをまだ受けて いない清い処理又はｉｆ過媒体は、対応する開口を有してそれぞれ垂直方向に延 在しかつ処理空間の周りに一様な間隔で配置された複数個の固定ダクトを介して 各処理空間の上方入口開口へ運搬される。これらの空間の下方出口開口の区域で 処理空間から処理媒体を除去するために、既知の装置の場合には排出装置が設け られており、少なくとも一つの排出装置が各処理空間に対して設けられている。

例えばワイパによって形成されかつ下方出口開口において生じる処理媒体の装填 椎体を通る全ての排出装置は、処理空間の対称軸線と同軸状に配置されかつ該軸 線の周りに回転様式で駆動される軸に固定されている。

既知の装置はフィルタとして適しているのみならず、一般的にガス流中の物質の 処理のために使用されることができ、かつまた例えばふっ素などのようなガス成 分をガス流から除去し又はシｒ過して除去するために例えば吸収又は吸着のため に使用されることができ、かつまた処理媒体及びガス流又はガス流中に存在する 物質の間で化学反応を起こすため又はガス流によって処理媒体を乾燥させるため に反応器として使用されることができる。個々の処理空間の巣状構造のために及 び前記処理空間（最下方の処理空間を除く）の下方部分に設けられた通路開口の ために、この既知の装置は相当な利点を有する。第一に、例えばこの装置は処理 媒体が処理空間の下方区域即ち排出装置の作用区域の隅部又は室空間に堆積され るのを防止し又は排出装置又はそれらの作動を妨げる塊又は被膜を形成するのを 防止する。

既知の別の主要な利点は、処理空間の巣状構造のために及び下方処理空間を除い た各処理空間がその下方部分において通路開口によって下にある処理空間に連結 されていることのために処理成績を実質的に改善する特に有利な「堰止め効果」 が、処理媒体のための下方出口開口において処理空間へ入るガスが処理媒体を前 記処理空間の上方区域に残さないで下にある処理空間の上方区域に残す（短い流 路のため）形で行われることである。たとえ排出装置及び処理媒体の助けによっ て除去が行われかつ処理空間中のこの媒体が次に上から下方へ移動されたとして も、処理媒体を通るその流路のガスは、静止しておりかつめられている処理作用 （例えば吸収、吸着又はシｒ過作用）を最適に行う媒体の充分な量に常に遭遇す る。これは、処理媒体が排出装置によって下方区域で処理空間から除去される時 に前記処理空間の上方区域での処理媒体の実質的移動が時間遅れをもって常に生 じることに本質的による。

最後に、既知の装置の追加の実質的利点は、処理空間の巣状構造のために、処理 空間を形成する個々の壁の間の絶対的な気密結合を不要にすることができること 、で゛ある。何故ならばこれら壁の間の結合点は処理媒体によって常に取囲まれ ていて結合点（溶接継目）が気密状に作られていなくても第−及び第二の室の間 のガスの直接流れを防止するからである。

このように既知の装置が構造的及び作動的の両観点から非常に有利であるが、そ れにもかかわらず必然的な欠点を有する。処理空間の周りに分配されて配置され かつ各処理空間の上方入口開口に開口を介してそれぞれ連結された複数個の垂直 ダクトを通して清い処理媒体を供給するために、処理媒体を各処理空間の上部に 供給するダクトのこれら開口の区域に処理媒体で装填錐体が作られ、即ち処理媒 体の全体高さが各処理空間中で全体的に一様でなくかつ清い処理媒体を供給する ためのダクトの区域において二つのががるダクトの間の区域におけるよりも大き く、それのみならず異なる粒寸法の粒子からなる処理媒体を使用する時処理媒体 の細かい粒子が清い処理媒体を供給するダクトに近接する処理空間の区域に実質 的に集中される傾向がある。そのとき好ましくは粗い処理媒体はこの型の二つの ダクト間の処理空間の区域に存在する。細かい粒寸法の処理媒体は改善された処 理効果を生じるが、ガスへの大きい流抵抗を生じるので、既知の装置の場合にガ ス流は粗い粒寸法の処理媒体が存在する処理空間の区域、即ち処理媒体を供給す る二つの隣接ダクト間の区域に主に集中される。粗い粒寸法を処理媒体が主に存 在するこれら区域では、最適処理効果が生じない。

本発明の目的は、既知の装置の基本的な利点を保持しながら高さ及び粒寸法に関 して処理媒体の一様な分配が個々の処理空間中で生じるように本発明に従い前記 した型の装置を更に発展させることにある。

この目的を達成するために、本発明によれば、装置は特許請求の範囲１の特徴部 分に従って構成される。

既知の装置の利点に加えて、本発明による装置は、処理空間の回転構成のために 又は清い処理媒体を供給する少なくとも一つのダクトの固定構成と関連して対称 軸線の周りに回転し得るように設けられかつ回転様式で駆動される回転子状ユニ ットとしてのそれらの構造のために処理媒体はキャタピラ型又は環状線上の各処 理空間へ同時に送出される利点をも有する。これは処理媒体の高さが全ての区域 の各処理空間中で同じであること及び処理媒体が処理空間へ送出される時に大き い粒子及び細かい粒子による処理媒体の分離が大きい粒寸法の粒子が処理空間の 特定の区域に主に集中するように生じないことを保証する。

このようにして、本発明による装置では、処理作用（例えば吸収、吸着又はｉ濾 過作用）に対する相当な改良を達成することが可能である。

特にフィルタとして使用されるような本発明による好適な態様では、第一の室の 上部はガスのための入口を有する。

このため清浄にされるガスは上から下方へこの第一の室を通って流れかつ清浄に されるガスに含まれた塵の粒子が一つを他の上に配置された処理空間中に一様に 分配される利点を有する。

フィルタとして同様に作用する本発明の別の有利な態様の場合には、排出装置の 助けによって処理空間から除去される処理媒体が処理媒体を清浄にし又は再生す るための装置へ運搬装置によって供給され、かつこのようにして清浄にされ又は 再生された処理媒体がもう一度使用されることが提供される。これに関して、排 出装置の助けによって処理空間から除去された処理媒体は清浄又は再生前に加熱 され、それにより露点範囲で又は露点以下で作動する装置の場合でもトラブルの ない処理結果が保証される。処理空間から除去された処理媒体の加熱は例えば加 熱空気によっているいろな方法で実施されることができ、かつ処理媒体の表面だ けを加熱することを必要としかつ前記媒体を形成する粒子全体を加熱する必要が ない利点を有する。このようにして、処理媒体の加熱及び湿気により処理媒体に 付着する塵の粒子の媒体からの分離はエネルギに関して少ない支出で可能とされ 、即ちいずれの場合にも加熱される全体のガスの加熱のため又は処理空間へ供給 される清い処理媒体又は処理空間中の処理媒体の加熱のために必要とされるエネ ルギ支出よりはるかに少ないエネルギ支出で可能とされる。

本発明の別の発展は副請求の範囲を構成する。

本発明は態様に関して、即ち塵をうｒ遇して除去するためのフィルタとしての装 置の使用に関連して図面によって以下に詳細に説明される。加えて、本発明によ る装置のこの態様は他の目的のために使用されることができ、即ちガス流中の物 質の処理の一般的様態で使用されることができる。

図面の簡単な説明 図面において、第１図は本発明によるフィルタの長手方向断面図である。第２図 は第１図の断面線Ｉ−１に対応する第１図によるフィルタの断面図である。

例示されたフィルタは円筒状の外方即ち周囲壁２を有するケーシング１を有し、 ケーシング１はケーシングｌの円筒軸線即ち対称軸線Ｓが垂直方向に延びるよう に支持要素即ち足部（詳細に図示せず）によって保持されている。ケーシングｌ はその上部においてカバー板３によって閉じられておりかつその下側において基 板４上に閉じられている。

カバー板３及び基板４はそれぞれ環状に作られておりかつそれらの外方縁におい て周囲壁２に密封様式で連結されている。

それぞれ環状様式で下方ヘテーバが付きかつフィルタ空間として作用する複数個 の処理空間（環状段）５がケーシングｌの内部に対称軸線Ｓに対して同心状に一 つを他の上に配置されており、これらの処理空間はそれらの全体においてケーシ ング１の内部を二つの室、即ち周囲壁２によって外側の方へ境界されかつ一つを 他の上に配置された環状処理空間５によって内側の方へ境界された外方環状室６ と、一つを他の上に配置された処理空間５によって外側の方へ閉じられた内方の 本質的に円筒状の室７とに分割されている。各処理空間５は内方環状壁８及び８ ゛によってそれぞれ内方室７の方へ境界されておりかつ壁９及び９°によってそ れぞれ外側の方へ即ち外方室６の方へ境界されている。

壁９及び９゛　はそれぞれ円錐状に上方へ増大されたリングによって形成されて おり、即ち壁９及び９”によってそれぞれ形成されたリングの直径は前記処理空 間の下側におけるよりも各処理空間５の上部において大きく、それにより処理空 間は説明したようにそれらの下方端の方へ縮小されている。更に第１図に示した ように、最上方の処理空間５の内方壁８″は下にある処理空間の対応する壁８よ り高く、そして最下方の処理空間５の下方壁９゛は下にある処理空間の対応する 壁９より高くかつその下方端において壁部分１０中へ通っており、該壁部分は円 錐状または漏斗形状に狭（なっておりかつ処理空間５の下方区域において室６及 び７を互いに分離している。壁８．８゛、９及び９゛及び壁部分１０はそれぞれ 対称軸線Ｓに対して同心状に配向されている。処理空間の内側に設けられかつ例 えば対称軸線Ｓの方へ半径方向に部分的に延びかつ処理空間５のそれぞれ壁８又 は８゛及び９を互いに連結しく突張り１１）かつ二つの連続する壁９及び９“に 対して直角に部分的に延びかつそれらを互いに連結する（突張り１２）複数個の 突張り１１及び１２によって、処理空間５又は前記処理空間を境界する壁８．８ ゛、９及び９”　は、壁部分１０と一緒に、内方室７を境界しかつ対称軸線Ｓの 周りに回転し得るようにケーシングｌの内部に設けられた剛固な回転子状ユニッ トを形成する。このために、前記回転子状ユニットの上方端はリング１３の下方 端に密封様式で連結され、リング１３は対称軸線Ｓに対して同心状にありかつ玉 軸受回転リムの歯部分を設けた外方リング１４上にその上方端において保持され ている。この玉軸受回転リムの内方リング１５はリング１６の下方端に固定され ており、リング１６は同様に対称軸線に対して同心状にありかっケーシング１の 上部上の支持体（詳細に図示せず）上にそれぞれ両端において配置されたキャリ ヤ１８上に支持されたカバー板１７上にその上方縁によって保持さている。この ようにして処理空間５を有する回転子状ユニットの上方端のための剛固な軸受は 玉軸受回転リムのリング１５、リング１６、カバー板１７及びキャリヤ１８によ って形成される。清浄にされるガスのための入口１９はカバー板１７中に設けら れ、リング１６と一緒にかつリング１３と部分的に一緒に上部の方へ内方室７を 境界する。

処理空間によって形成された回転子状ユニットの下方端は、壁部分１０の下方端 がそれに結合された管状又は中空円筒状部材２０を有し、該部材が底部において 閉じられかつ環状基板４に設けられた中央開口を通って案内されかつ自動調心滑 り軸受２１によってケーシング１の外側で基板４上に設けられるように、基板４ 上に回転可能に設けられている。

玉軸受回転リムの外方リング１４の歯は駆動体（詳細に図示せず）へ連結された ビニオン２２に韮って係合されており、かつそれによって処理空間５によって形 成された回転子状ユニットは対称軸線Ｓの周りを第２図に選ばれた例示において 反時計方向へ即ち矢印Ａの方向へ回転様式で駆動される。

清い又は清浄にされた媒体２３を供給するために、垂直方向即ち対称軸線Ｓと平 行に延びかつその下方端において同様に閉じられておりかつその上方端が清浄に されたフィルタ媒体２３のためにカバー板３の上方にケーシングｌの外側に配置 された貯蔵容器２５中へ開いている閉じた固定ダクト２４が、室６の内部にかつ 周囲壁２の内方面に直接に近接して形成されている。ダクト２４はカバー板３に よって案内されており、その上方端即ち遷移区域が貯蔵容器２５から封じ込めら れていることは理解されるべきである。

対称軸線Ｓに面するその側部は前記対称軸線の方向にかつ一つを他の上にした複 数個の回転子状出口ソケット２６を有し、該回転子状出口ソケットはダクト２４ 中へ開き、斜め下方へ延びかつそれらの自由下方端において開いておりかつ長方 形断面を有し、功）′つそのそれぞれ、は処、理−空ＩＪ］５の上方開口２７中 へ突出しており、開口２７を介し−て、前記あ理空間は清浄にされたガスを収集 しか一つ５除去する゛（出口２８を経て）ための外方室６に連通している。上方 処理空間２５を除いて全ての処理空間５中に、開０．２７がそれぞれの処理空間 ５の壁９又は９°のそれぞれの上方縁と上にある処理空間の壁９の中央区域の外 方面との間に形成されている。上方の処理空間５の場合には、開口２７は前記処 理空間の壁９の上方縁とリング２９の外方縁との間に形成されており、リング２ ９は対称軸線Ｓに対して同心状に配置されておりかつその表面側部を前記対称軸 線に対して直角に置いておりかつ環状壁８”の上方縁を好ましくはカルダン状サ スペンションを介してリング１３の下方部分に連結しており、前記カルダン状サ スペンションは全体として第１図に３０で指示されておりかつガスケット（詳細 に図示せず）によって室７の内部に付加的に架橋されている。処理空間５によっ て形成された回転子状ユニットが対称軸線Ｓ（矢印Ａ）の周りに回転されると、 フィルタ媒体２３は出口ソケット２６を経て開口２７の区域の個々の処理空間５ へ一様に即ち環状線上に排出される。この場合の特別な利点はフィルタ媒体の排 出中に、処理空間５の特定の区域が専ら粗いフィルタ媒体を含みかつ処理空間５ の特定の区域が粗いフィルタ媒体及び細かいフィルタ媒体の両方を含むような前 記フィルタ媒体の分離が起こらないことである。

フィルタ媒体２３の分配は前記フィルタ媒体の粒寸法に関して各処理空間５の全 区域にわたって実際に一様である。

処理空間５は、最下方の処理空間５を除いて、各処理空間がその下方部分におい て即ち図示した態様の場合にはその下方半分において下にある処理空間中へ突出 するように互いに内側に積み重ねられており、・それぞ、れは対称軸線Ｓに対し て同心状にある水平リング３１又は３１“°によってそれぞれ形成さた基部表面 を有し、その場合に最下方の処理空間５を除いてリング３１は下にある処理空間 ５の壁８の上方縁にそれぞれ固定されている。最下方の処理空間５の場合には、 リング３１゛　は外方壁９゛に即ちこの壁及び壁部分１０の間の遷移点の区域に 固定されている。また、・リング３１及び３１゛　は室７の内部中へ僅かに延び ており、即ちこれらリングの内方縁はぞれぞれ壁８及び８”よりもそれぞれの場 合に対称軸線Ｓに近付いである。

対称軸線Ｓと同心状に延びる環状開口３２は、当該処理空間のそれぞれの環状壁 ８及び８゛の下方縁が関連したリングの上で終端するように、各処理空間５に対 して各リング３１及び３１゛の上部にそれぞれ形成されている。処理空間５は各 場合に開口３２を介して内方室へ連結されている。前記開口３２を越えて内方室 ７中へ突出するリング３１及び３１’　の部分はその上部によってそれぞれ支持 表面を形成し、その上にそれぞれの開口３２を通って外方へ摺動するフィルタ媒 体の装填円錐体３３が形成され得る。

最下方の処理空間５を除いて、関連したリング３１によって形成された基部表面 の区域に、各処理空間は別の開口３４を有し、この開口は更に外方にありかつ同 様に環状に作られておりかつ対称軸線Ｓに対して同心状に延びかつそれによって 各処理空間５（最下方の処理空間を除く）はそれぞれ下にある処理空間のほぼ中 央の区域に連結されている。開口３４は各フィルタ空間の壁９の下方縁が関連し たリング３１又は該リングの外方縁の上に間隔をもってそれぞれ配置されるよう に形成されている。

このようにして、個々の処理空間５は、最下方の処理空間を除いて各処理空間５ が壁８及び８゛及び壁９の下方部分によって境界されたその下方の部分的区域に よって下にある処理空間の上方の部分的区域中へ延び、即ち最下方の処理空間を 除いて各処理空間が下にある処理空間の上方の部分的区域によってその下方の部 分的区域において取り囲まれており、これが連動し、即ちそれぞれ下方端の方ヘ テーバ付き様式で狭くなっておりかつ対称軸線Ｓに対して円錐状様式に配置され たリングとしての壁９の構造によって可能とされるように、一つを他の内側に積 み重ねられている。加えて、最下方の処理空間を除いて各処理空間５は開口３４ によって下にある処理空間へ連結されている。

使用されたフィルタ媒体２３゛を除去するために、各処理空間５は図示した態様 ではワイパ３５によって形成された除去装置をそれと関連して有している。それ ぞれリング３１及び３１”の僅か上に配置されかつ装填円錐体３３中へ及びそれ ぞれの処理空間５の内部中へ突出しかつ半径方向外方にあるそれらの端部におい て開口３４の近傍まで又は（最下方の処理空間５の場合には）壁９゛及びリング ３１゛の間の遷移点の区域まで延びているワイパ３５は使用されたフィルタ媒体 ２３゛を除去するために垂直方向に延びる共通の収集ダクト３６に固定されてい る。その上方端で閉じられている収集ダクト３６は、該収集ダクトの上方端がリ ング１６の内側に固定されかつ前記収集ダクトの下方端が回転可能に剛固に保持 されかつ対称軸線Ｓに対して同心状に配置された壁３７に固定されるように、室 ７の内側に固定されて配置されている。各ワイパ３５の下又は各リング３１又は ３１゛の下に、収集トラップ３８がそれぞれ設けられており、収集トラップは収 集ダクト３６中へ開いておりかつその上部において開いておりかつ（処理空間５ によって形成された回転子状ユニットのワイパ３５に対する回転中に）対応する ワイパ３５によって装填円錐体３３から除去された使用済みのフィルタ媒体を収 集しかつそれを収集ダクト３６中へ運搬する。収集ダクト３６はその下方解放端 においてテーパ付き壁３７を貫通しておりかつ該壁の下に形成されて壁部分１０ によって室６から分離された室３９中へ開いて使用済みのフィルタ媒体２３°を 収集しかつ除去する。その軸線を対称軸線Ｓと同軸状にして配置されかつ原ガス のための入口開口１９の中央区域において又はそこに設けられかつ原ガスを供給 する結合部（詳細に図示せず）の区域において外側から封じ込められて案内され ている運搬管４０の解放端は底部において閉じられた中空円筒状部材２０の内部 によって形成されている。運搬管４０はその上方端において、外側から閉じられ かつ漏斗状に下方へ狭（なっている処理空間４１中へ、即ち斜めに配向されたふ るい４２の上に開いており、その排出端は室２５に連結されている。運搬管４０ を通してふるい４２まで運ばれたフィルタ媒体は前記ふるい上で清浄にされ、即 ちフィルタ媒体に付着している塵粒子はフィルタ媒体から分離されかつ矢印Ｂで 示したようにパイプライン４３及びフィルタ４４を経て除去される。運搬管４０ 中のフィルタ媒体は運搬管４０の下方解放端に直接向い合う室３９を下方区域に その解放端を有して配置された管４５を通して矢印Ｃによって示したように供給 される圧縮空気によって上方へ運搬される。このようにして、室３９中に存在す る使用済みのフィルタ媒体２３゛は管４５から出る圧縮空気によって取り上げら れかつこのようにしてフィルタ管４０中をふるい４２まで上方へ運搬される。フ ィルタ４４を通過後、即ち矢印りに従うライン４６を経る清浄にされた状態で、 運搬空気は外方へ運搬され又は出口２８に結合された清浄にするガスダクト（詳 細に図示せず）中へ導入されかつ出口２８から出る清浄にされたガス（矢印Ｅ） と−緒に除去される（矢印Ｆ）。

フィルタの作動様態は次のように説明される。清浄にされるガスは矢印Ｇで示し たように入口１９を経てフィルタへ、即ち室７の上方区域中へ供給される。供給 のこの様態は、清浄にされるガス中に含まれる塵の粒子が室７の全高さにわたっ て一様に分配されかつそれ故一つを他の上に配置した処理空間５はそれぞれ同等 の力で塵の粒子によって作用されることができるという特別の利点を有し、これ は清浄にされるガス又は原ガスが内方室７の下方区域へ供給されるときの場合に はない。この場合には、ガスの粒子は室７の下方区域に本質的に集中されるので 、下方の処理空間５は上方の処理空間よりも大きい力をもって塵の粒子によって 作用される。

そして清浄にされるガスは室７から開口３２を通って個々の処理空間５中へ通り かつ前記処理空間中に存在するフィルタ媒体２３を通って下から上へ流れる。こ のようにして浄化されたガスは上方開口２７において個々の処理空間を去り、か つ処理空間を通るガス流は個々の処理空間の内部巣状構造と、処理空間の開口３ ２において入るガスが主に下にある処理空間５の開口２７にフィルタ媒体３２を 再び残すように追加の開口３４との両方によって決定される。

これは最下方の処理空間を除いて全ての処理空間に適用する。この流れはシｒ過 成績に対して特に有利である堰止め効果を生じ、即ち個々の処理空間中でのフィ ルタ媒体の遅れた配置のためにフィルタ媒体を通るその経路上のガスは休息中の 最適シｒ過作用を有するフィルタ媒体の部分に常に遭遇する。開口２７において フィルタ媒体から出る清浄にされたガスは外方室６中に収集されかつ出口２８を 経て除去される。

対称軸線Ｓの周りに回転する処理空間５のために個々の処理空間５への清いフィ ルタ媒体２３の一様な供給が前記したようにして保証されること、及び特に各処 理空間５の全ての区域でフィルタ媒体の粒子成分パターンが一様であることが保 証されること、即ち実質的に大きい粒寸法のフィルタ媒体だけが存在する区域が ないことのために、処理空間５を通る完全に一様に分配されたガス流及び原ガス の最適清浄が可能にされる。

粗粒子又は他の流動可能な材料もこのフィルタの場合にフィルタ媒体として適し ている。

フィルタが露点の近傍又は露点以下で使用されるルらば、高温空気が管４５を通 して供給され、そしてフィルタ媒体に付着している塵が乾燥されかつふるい４２ の助けによって除去される程度にフィルタ媒体の粒子の表面だけを加熱する。

本発明は一つの態様に関して以上に説明されている。修正及び変更が本発明を基 となす概念から逸脱せずに可能であることは理解すべきである。それ故、勿論、 使用済みの即ち塵の粒子に冨んだフィルタ媒体２３゛を室３９から戻すこと及び このフィルタ媒体を前記したのと異なる様式で清浄にすることは可能である。ま た、機械的運慶装置（コンベヤベルト、コンベヤウオームなど）がフィルタ媒体 を室３９から戻すために使用され得る。また、回転様式で駆動されるドラム状ふ るいなどが使用済みのフィルタ媒体２３を清浄にするために適している。

閏　腔　捌　喜　斡　失 ＡＮＮＥＸ　Ｔｏ　ＴＨＥ　ＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ　５ＥＡＲＣＨＲＥＰ ＯＲＴ　０ＮＺＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＩ、　ＡＰＰＬＺＣＡＴＴＯＮ　Ｎｏ、 　ＰＣＴ／ＤＥ　５］６１００３０４　（ＳＡ　１４０６８）

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. １．ガス流中の物質の処理のための、特にガスの吸収及び／又は吸着又はろ過の ための装置であつて、ガスを供給するための第一の好ましくは内方の室と、ガス を除去するための第二の好ましくは外方の室と、軸線方向に一つを他の上に配置 されかつ第一及び第二の室の間に配置されかつそれぞれにおいて壁によつて互い にかつ第一及び第二の室から分離された複数個の環状処理空間とを有し、該環状 処理空間のそれぞれが上方部分に固体粒子からなる処理媒体のための少なくとも 一つの上方入口開口と、下方部分に処理媒体のための少なくとも一つの下方出口 開口とを有し、各処理空間か少なくとも一つのダクトを介して上方入口開口にお けるそれヘ供給される清い浄化され及び／又は再生された処理媒体を有し、かつ 処理媒体を除去するための排出装置が第一の室中ヘ開く各処理空間の下方出口開 口に設けられ、出口開口が処理空間中ヘのガスの入口を形成し、各出口開口がそ の上方部分において第二の室ヘ連結されており、各処理空間が、最下方の処理空 間を除いて、その壁によつて境界された下方部分と共に下にある処理空間の上方 部分中ヘ延びておりかつそこで通路開口によって下にある処理空間に連結されて いる装置において、処理空間（５）又は処理空間（５）をそれぞれ境界する壁（ ８、８′、９、９′）が軸線方向（Ｓ）の周りに回転し得るように設けられかつ 回転様式で駆動される回転子状ユニツトの部分を形成し、かつ少なくとも一つあ るダクト（２４）が清い処理媒体（２３）を供給するために固定様式で配置され かつ上方入口開口（２７）中ヘ延びかつ処理媒体（２３）を供給するための開口 を有する部分（２６）を有することを特徴とするガス流中の物質の処理装置。
2. ２．排出装置（３５）か固定様式で配置されていることを特徴とする請求の範囲 １による装置。
3. ３．清い処理媒体（２３）を供給するための少なくとも一つあるダクト（２４） が回転子状ユニツトの半径方向外側に配置されかつ排出装置（３５）が回転子状 ユニツトの半径方向内側に配置されていることを特徴とする請求の範囲１又は２ による装置。
4. ４．排出装置（３５）が処理媒体（２３′）を除去するために固定様式で配置さ れた少なくとも一つの収集ダクト（３６）上に設けられ、運搬手段（４０）が処 理空間（５）から除去された処理媒体（２３′）を、清い又は清浄にされ又は再 生された処理媒体（２３）を受取るための室（２５）に連結された清浄及び／又 は再生のための装置（４１、４２）ヘ運搬するために設けられ、該室が中間処理 媒体（２３）を処理空間（５）ヘ供給するための少なくとも一つのダクト（２４ ）ヘ連結されており、かつ清浄又は再生に先だつて処理媒体を加熱するための手 段か設けられていることを特徴とする請求の範囲１から３までのいずれか一つに よる装置。
5. ５．処理媒体（２３′）を加熱するための手段が加熱空気又は加熱ガスの少なく とも一つの出口ノズル又は出口開口によつて形成されていることを特徴とする請 求の範囲４による装置。
6. ６．前記室の上部に配置された第一の室（８）ヘのガスの入口（１９）を設けた ことを特徴とする請求の範囲１から５までのいずれか一つによる装置。