JPS635049A - １，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロアントラキノンの成型方法 - Google Patents
１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロアントラキノンの成型方法Info
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- JPS635049A JPS635049A JP61146088A JP14608886A JPS635049A JP S635049 A JPS635049 A JP S635049A JP 61146088 A JP61146088 A JP 61146088A JP 14608886 A JP14608886 A JP 14608886A JP S635049 A JPS635049 A JP S635049A
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2/00—Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic
- B01J2/26—Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic on endless conveyor belts
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- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
- B29B9/00—Making granules
- B29B9/10—Making granules by moulding the material, i.e. treating it in the molten state
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/587—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring
- C07C49/657—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing six-membered aromatic rings
- C07C49/683—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing six-membered aromatic rings having unsaturation outside the aromatic rings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、１，４．４ａ、９ａ−テトラヒドロアントラ
キノンの成型方法に関する。
キノンの成型方法に関する。
「従来の技術及び発明が解決しようとする問題点」
１．４．４ａ、９ａ−テトラヒドロアントラキノン（以
下、ＴＨＡＱと略記する。）は、染料中間体、アントラ
キノン類の原料であるのみならず、最近はパルプ７解助
剤としても使用される有用な化合物である。
下、ＴＨＡＱと略記する。）は、染料中間体、アントラ
キノン類の原料であるのみならず、最近はパルプ７解助
剤としても使用される有用な化合物である。
ＴＨＡＱをパルプ蒸解助剤として使用する場合は、苛性
ソーダ水溶液に溶解して水溶液として使用するのが一般
的であるが、Ｔ ＨＡ Ｑを各ユーザーまで運搬するに
は固体状で取り扱う方が経済的である。
ソーダ水溶液に溶解して水溶液として使用するのが一般
的であるが、Ｔ ＨＡ Ｑを各ユーザーまで運搬するに
は固体状で取り扱う方が経済的である。
しかしながら、本発明者が研究したところ、ＴＨＡＱ、
例えばＴＨＡＱの粉体は掻めて固まりやすく、例えば２
５ｋｇ詰の袋に詰めて十段に重ねて保存すると、下方の
袋中のＴＨＡＱが非常に固く固化した。また、粉状のＴ
ＨＡＱをアルカリ水／８液に溶解する際に、粉塵が発生
するなどの欠点がある。
例えばＴＨＡＱの粉体は掻めて固まりやすく、例えば２
５ｋｇ詰の袋に詰めて十段に重ねて保存すると、下方の
袋中のＴＨＡＱが非常に固く固化した。また、粉状のＴ
ＨＡＱをアルカリ水／８液に溶解する際に、粉塵が発生
するなどの欠点がある。
又、Ｔ Ｉ’Ａ Ｑは、−般にはナフトキノン（断らな
い限りは１．４−ナフトキノンを示す。）とブタジェン
（断らない限りは１．３−ブタジェンを示す。）とのデ
ィールス・アルダ−反応により製造されるが、空気若し
くは光等により脱水素され又は若干の酸又は塩基性成分
の存在でエノール化し１．１．４−ジヒドロアントラヒ
ドロキノン、さらには１，４−ジヒドロアントラキノン
を生成するなど化学的に不安定である。とくに工業用ナ
フトキノンを原料として用いて得られるＴＨＡＱにはこ
の傾向が大である。従って、Ｔ ＨＡ Ｑを安定に貯蔵
し又は取り扱うためにはベレット状などに成型すること
が好ましい。これらＴＨＡＱの成型方法については、乾
式、例えばフレーカ−などで成型する方法（特開昭５４
−９２５６号公報）についてすでに出願されている。し
かしながら、この特許公叩記載の方法、特に実施例では
、上記ディールス・アルダ−反応は通常オルソキシレン
などの不活性溶媒の存在下で行われ、得られたＴＨＡＱ
を含む反応溶液から溶媒を殆ど、例えば少なくとも０．
１％以下に、除去しないと成型し難い欠点があり、ＴＨ
ＡＱ融液の固化速度や成型物の剥離性も不十分であった
。このため、実際にはこの方法によってだけでは工業的
に実施するには困％ｉであった。
い限りは１．４−ナフトキノンを示す。）とブタジェン
（断らない限りは１．３−ブタジェンを示す。）とのデ
ィールス・アルダ−反応により製造されるが、空気若し
くは光等により脱水素され又は若干の酸又は塩基性成分
の存在でエノール化し１．１．４−ジヒドロアントラヒ
ドロキノン、さらには１，４−ジヒドロアントラキノン
を生成するなど化学的に不安定である。とくに工業用ナ
フトキノンを原料として用いて得られるＴＨＡＱにはこ
の傾向が大である。従って、Ｔ ＨＡ Ｑを安定に貯蔵
し又は取り扱うためにはベレット状などに成型すること
が好ましい。これらＴＨＡＱの成型方法については、乾
式、例えばフレーカ−などで成型する方法（特開昭５４
−９２５６号公報）についてすでに出願されている。し
かしながら、この特許公叩記載の方法、特に実施例では
、上記ディールス・アルダ−反応は通常オルソキシレン
などの不活性溶媒の存在下で行われ、得られたＴＨＡＱ
を含む反応溶液から溶媒を殆ど、例えば少なくとも０．
１％以下に、除去しないと成型し難い欠点があり、ＴＨ
ＡＱ融液の固化速度や成型物の剥離性も不十分であった
。このため、実際にはこの方法によってだけでは工業的
に実施するには困％ｉであった。
本発明者らは、上記従来の方法の欠点を解決するために
鋭意研究した結果、ナフトキノンとブタジェンとをとく
に不活性な溶媒中にて反応して得られるＴＨＡＱを主成
分とする反応溶液より溶媒を減圧留去し、得られたＴＨ
ＡＱの融液を冷却面に接触せしめて冷却固化成型せしめ
る場合に、上記先行技術の冷却面の温度４１〜４３℃よ
りむしろ高い温度の冷却面において該融液を冷却固化す
ることにより成型物の２＋１＃性がよくなるなど極めて
容易に成型することができ、さらに最初にＴＨＡＱ融液
を約５０℃以下に冷却固化した後、次いで約６０℃以上
に冷却面の温度を上昇させると成型しにくいＴＨＡＱ融
液（得られたＴ ｌ（Ａ Ｑの融点が比較的低い場合に
は特に好ましい。）をも容易に成型できることを見出し
本発明を完成した。
鋭意研究した結果、ナフトキノンとブタジェンとをとく
に不活性な溶媒中にて反応して得られるＴＨＡＱを主成
分とする反応溶液より溶媒を減圧留去し、得られたＴＨ
ＡＱの融液を冷却面に接触せしめて冷却固化成型せしめ
る場合に、上記先行技術の冷却面の温度４１〜４３℃よ
りむしろ高い温度の冷却面において該融液を冷却固化す
ることにより成型物の２＋１＃性がよくなるなど極めて
容易に成型することができ、さらに最初にＴＨＡＱ融液
を約５０℃以下に冷却固化した後、次いで約６０℃以上
に冷却面の温度を上昇させると成型しにくいＴＨＡＱ融
液（得られたＴ ｌ（Ａ Ｑの融点が比較的低い場合に
は特に好ましい。）をも容易に成型できることを見出し
本発明を完成した。
「問題点を解決するための手段及び作用」本発明は、第
一にＴＨＡＱ励液を冷却固化成型する方法において、該
融液を約５０〜約８０℃の冷却面と接触せしめ、次いで
剥離することを特徴とするＴ ＨＡ Ｑの成型方法及び
第二にＴＨＡＱ融液を冷却固化成型する方法において、
咳融液を最初に杓５０℃以下約４０℃以上の冷却面と接
触固化せしめたのち、該冷却面を約５０〜約８０”Ｃに
上昇せしめ、次いで剥離することを特徴とするＴＨＡ
Ｑの成型方法に存する。
一にＴＨＡＱ励液を冷却固化成型する方法において、該
融液を約５０〜約８０℃の冷却面と接触せしめ、次いで
剥離することを特徴とするＴ ＨＡ Ｑの成型方法及び
第二にＴＨＡＱ融液を冷却固化成型する方法において、
咳融液を最初に杓５０℃以下約４０℃以上の冷却面と接
触固化せしめたのち、該冷却面を約５０〜約８０”Ｃに
上昇せしめ、次いで剥離することを特徴とするＴＨＡ
Ｑの成型方法に存する。
本発明において、ＴＨＡＱはナフトキノンとブタジェン
とのディールス・アルダ−反応によって製造されるが、
原料のナフトキノンは一般的には工業グレードの製品が
用いられる。本発明シこ用いるナフトキノンとしては不
純物を完全に除去した高純度のナフトキノンの使用が好
ましいが、高価になるので通常は工業用のナフトキノン
が用いられる。工業用のナフトキノンは、通常ナフタリ
ンの接触気相酸化反応によって得られたナフトキノン、
無水フタル酸及びナフタリンを含む反応生成ガスからナ
フトキノンを分離、例えば水性媒体により湿式捕集、分
屋することにより得られる。−例を挙げれば、ナフタリ
ンの接触気相酸化における反応生成ガスを水又はマレイ
ン酸、フタル酸を含む水性媒体によって水洗捕集して得
られるナフトキノン及びフタル酸の水性スラリーを加熱
しフタル酸を水に溶解させ、ついで不活性な有機溶媒例
えばトルエン、オルソキシレンのような芳香族炭化水素
で実質的にナフトキノンのみを抽出する。このようにし
て得られたナフトキノン溶液には、若干の安息香酸、フ
タル酸などの有機酸が含まれているので、弱アルカリ性
水溶液又は温水で洗浄し、有機酸を除去する。しかして
得られたナフトキノン溶液をブタジェンとのディールス
・アルダ−反応に使用する。特にナフトキノン溶液中の
酸成分は少ない方がよく、とくに０．１％以下が好まし
い。
とのディールス・アルダ−反応によって製造されるが、
原料のナフトキノンは一般的には工業グレードの製品が
用いられる。本発明シこ用いるナフトキノンとしては不
純物を完全に除去した高純度のナフトキノンの使用が好
ましいが、高価になるので通常は工業用のナフトキノン
が用いられる。工業用のナフトキノンは、通常ナフタリ
ンの接触気相酸化反応によって得られたナフトキノン、
無水フタル酸及びナフタリンを含む反応生成ガスからナ
フトキノンを分離、例えば水性媒体により湿式捕集、分
屋することにより得られる。−例を挙げれば、ナフタリ
ンの接触気相酸化における反応生成ガスを水又はマレイ
ン酸、フタル酸を含む水性媒体によって水洗捕集して得
られるナフトキノン及びフタル酸の水性スラリーを加熱
しフタル酸を水に溶解させ、ついで不活性な有機溶媒例
えばトルエン、オルソキシレンのような芳香族炭化水素
で実質的にナフトキノンのみを抽出する。このようにし
て得られたナフトキノン溶液には、若干の安息香酸、フ
タル酸などの有機酸が含まれているので、弱アルカリ性
水溶液又は温水で洗浄し、有機酸を除去する。しかして
得られたナフトキノン溶液をブタジェンとのディールス
・アルダ−反応に使用する。特にナフトキノン溶液中の
酸成分は少ない方がよく、とくに０．１％以下が好まし
い。
本発明において不活性溶媒を使用する場合は、ナフトキ
ノンとブタジェンとの反応に不活性であって、常圧下又
は減圧下１４０’ｃ以下において比較的容易に留去でき
るような溶媒がよい。例えば、エタノール、プロパツー
ルなどのアルコール類、トリクレン、トリクロールエタ
ンなどの塩素化炭化水素ｎ、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素などが挙げ
られる。水可溶性溶媒は回収に難点があるので、工業的
には水不溶性の、しかも脱溶媒が容易な低級芳香族炭化
水素が好ましいが、オルソキシレンがとくに好ましい。
ノンとブタジェンとの反応に不活性であって、常圧下又
は減圧下１４０’ｃ以下において比較的容易に留去でき
るような溶媒がよい。例えば、エタノール、プロパツー
ルなどのアルコール類、トリクレン、トリクロールエタ
ンなどの塩素化炭化水素ｎ、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素などが挙げ
られる。水可溶性溶媒は回収に難点があるので、工業的
には水不溶性の、しかも脱溶媒が容易な低級芳香族炭化
水素が好ましいが、オルソキシレンがとくに好ましい。
即ち、ナフタリンの接触気相酸化による反応生成ガスか
らナフトキノンを芳香族炭化水素類の溶液として選択的
に抽出し、必要により精製したナフトキノン溶液をディ
ールス・アルダ−反応の原料として供給し、ブタジェン
との反応を実施する。次いで、得られた反応液を所定量
まで脱溶媒すれば容易にＴＨＡＱの含有融液が得られる
。
らナフトキノンを芳香族炭化水素類の溶液として選択的
に抽出し、必要により精製したナフトキノン溶液をディ
ールス・アルダ−反応の原料として供給し、ブタジェン
との反応を実施する。次いで、得られた反応液を所定量
まで脱溶媒すれば容易にＴＨＡＱの含有融液が得られる
。
該融液中の溶媒の残存量はできるだけ低いほうが好まし
いが、脱溶媒の困難性からは５％以下、特に成型性及び
運送上の観点からは３％以下、好ましくは１％以下から
選ばれる。
いが、脱溶媒の困難性からは５％以下、特に成型性及び
運送上の観点からは３％以下、好ましくは１％以下から
選ばれる。
ナフトキノンとブタジェンとのディールス・アルダ−反
応は無溶媒下でも実施しうるが、−ｉ的には上記の不活
性な有機溶媒中で行なわれる。ディールス・アルダ−反
応は公知の方法、例えばナフトキノンの有機ン容媒？容
液にｔ−フ゛チルカテコールのような重合防止剤とナフ
トキノンに対して１モル以上のブタジェンを添加し、９
０〜１５０℃で反応させ次いで脱ブタジェンする方法に
よって実施することができる。しかして、得られた反応
溶液から、必要ならば所定の溶媒含量になるまで脱溶媒
することにより、本発明に供しうるＴＨＡＱ含有融液が
容易に得られる。
応は無溶媒下でも実施しうるが、−ｉ的には上記の不活
性な有機溶媒中で行なわれる。ディールス・アルダ−反
応は公知の方法、例えばナフトキノンの有機ン容媒？容
液にｔ−フ゛チルカテコールのような重合防止剤とナフ
トキノンに対して１モル以上のブタジェンを添加し、９
０〜１５０℃で反応させ次いで脱ブタジェンする方法に
よって実施することができる。しかして、得られた反応
溶液から、必要ならば所定の溶媒含量になるまで脱溶媒
することにより、本発明に供しうるＴＨＡＱ含有融液が
容易に得られる。
しかして得られたＴＨＡＱの融点は、不純物の量によっ
ても影響されるが、−般に約り０℃〜約１００℃である
が、本発明の第二の発明によれば比較的低融点のもので
も極めて良好に成型することができる。
ても影響されるが、−般に約り０℃〜約１００℃である
が、本発明の第二の発明によれば比較的低融点のもので
も極めて良好に成型することができる。
ＴＨＡＱの溶液から有機溶媒を留去する方法としては、
常圧又は減圧下１４０℃以下において蒸留又は水蒸気蒸
留によって脱溶媒する方法が採られるが、その際の条件
は使用する有機溶媒の種類によって決定される．しかし
ながら、いずれの場合においてもＴＨＡＱのエノール化
を抑制するために１４０℃以下、特に１２０℃以下、特
に好ましくは１１０℃以下凝固点以上の温度条件が好ま
しい。脱溶媒をできるだけ短時間で実施するためには、
例えば薄膜式１発装薗等で連続式に行うことができる。
常圧又は減圧下１４０℃以下において蒸留又は水蒸気蒸
留によって脱溶媒する方法が採られるが、その際の条件
は使用する有機溶媒の種類によって決定される．しかし
ながら、いずれの場合においてもＴＨＡＱのエノール化
を抑制するために１４０℃以下、特に１２０℃以下、特
に好ましくは１１０℃以下凝固点以上の温度条件が好ま
しい。脱溶媒をできるだけ短時間で実施するためには、
例えば薄膜式１発装薗等で連続式に行うことができる。
本発明における成型法としては、ＴＨＡＱ融液を冷却面
と接触せしめて、得られた固化物をスクレーパー（刃又
は剥離板）で剥離する方法ならばとくに制限なく採用さ
れる。例えば、ベルト型フレーカ−、テーブル型フレー
カ−、ドラム型フレーカ−などの成型機が挙げられる。
と接触せしめて、得られた固化物をスクレーパー（刃又
は剥離板）で剥離する方法ならばとくに制限なく採用さ
れる。例えば、ベルト型フレーカ−、テーブル型フレー
カ−、ドラム型フレーカ−などの成型機が挙げられる。
成型機に供給すべきＴＨＡＱ融液の温度は、咳融液の溶
媒含有量及びＴＨＡＱの純度によっても異なるが、−ｍ
的には約１２０℃以下、通常約１１０℃以下約９０℃以
上が好ましい．温度が高い程ＴＨＡ ＱＴＲのエノール
化が進行しやすく、その結果として流動性が悪くなり、
かつ生成したエノールがノズルを閉塞する等の不都合を
生ずる。下限温度は該融液の凝固点以上、成型操作に支
障をきたさない程度であればよい。
媒含有量及びＴＨＡＱの純度によっても異なるが、−ｍ
的には約１２０℃以下、通常約１１０℃以下約９０℃以
上が好ましい．温度が高い程ＴＨＡ ＱＴＲのエノール
化が進行しやすく、その結果として流動性が悪くなり、
かつ生成したエノールがノズルを閉塞する等の不都合を
生ずる。下限温度は該融液の凝固点以上、成型操作に支
障をきたさない程度であればよい。
成型機の冷却面の温度は、−Ｍには約５０℃以上約８０
℃以下、通常約り０℃〜約７０℃、好ましくは約５０〜
約６０℃である。約８０℃以上では固化時間が長（なり
、又約５０℃以下ではＴ ＨＡ Ｑの融液が急速冷却さ
れるために結晶が不定形となる傾向があり、固化せずに
べとついて冷却面へ付着してｆ？Ｉ＋離が困難になる。
℃以下、通常約り０℃〜約７０℃、好ましくは約５０〜
約６０℃である。約８０℃以上では固化時間が長（なり
、又約５０℃以下ではＴ ＨＡ Ｑの融液が急速冷却さ
れるために結晶が不定形となる傾向があり、固化せずに
べとついて冷却面へ付着してｆ？Ｉ＋離が困難になる。
次に、工業的には時にはＴＨＡＱがエノール化（異性化
）した１、４−ジヒドロアントラヒドロキノンが一部生
成する場合やアントラキノン骨格を有する化合物以外の
いわゆる不純物の量が多いものが生ずる。このような場
合には１１ｍ性をよくするためには冷却面の温度を相対
的に高めることにより成型できるが、反面固化時間ガ長
くなる。もしこのようなものを処理するような場合には
、先ず最初に該融液を約５０℃以下の冷却面に接触させ
て冷却固化し、次いで該冷却面の温度を約５０℃以上、
好ましくは約６０〜約８０°Ｃに上げることにより、剥
離が極めて良好になる。最初の冷却温度を約４０℃以下
、特に３０℃以下にすると固化時間が著しく長くなり、
好ましくない。比較的純度が高いものでは、特にこのよ
うな方法を採用する必要はないが、実施して不利益があ
るわけではない。
）した１、４−ジヒドロアントラヒドロキノンが一部生
成する場合やアントラキノン骨格を有する化合物以外の
いわゆる不純物の量が多いものが生ずる。このような場
合には１１ｍ性をよくするためには冷却面の温度を相対
的に高めることにより成型できるが、反面固化時間ガ長
くなる。もしこのようなものを処理するような場合には
、先ず最初に該融液を約５０℃以下の冷却面に接触させ
て冷却固化し、次いで該冷却面の温度を約５０℃以上、
好ましくは約６０〜約８０°Ｃに上げることにより、剥
離が極めて良好になる。最初の冷却温度を約４０℃以下
、特に３０℃以下にすると固化時間が著しく長くなり、
好ましくない。比較的純度が高いものでは、特にこのよ
うな方法を採用する必要はないが、実施して不利益があ
るわけではない。
冷却面へのＴＨＡＱ融液の供給方法はノズルから連続的
に供給する方法、成る一定の形状を形成するように間欠
的に供給する方法又は冷却面を該融液中に浸し該融液を
付着する方法などが採用される。
に供給する方法、成る一定の形状を形成するように間欠
的に供給する方法又は冷却面を該融液中に浸し該融液を
付着する方法などが採用される。
冷却面の冷却方法は、−般には１１１１節された水によ
り行われるが、勿論その他の冷却媒体を使用することも
できる。
り行われるが、勿論その他の冷却媒体を使用することも
できる。
冷却に要する滞留時間は成型されるべきＴＨＡＱの純度
、溶媒の含有量、該融液の温度及び生成する粒子径によ
って適宜選択されるべきであるが、約３０秒以上、好ま
しくは６０秒以上である。
、溶媒の含有量、該融液の温度及び生成する粒子径によ
って適宜選択されるべきであるが、約３０秒以上、好ま
しくは６０秒以上である。
冷却時間が長くてもよいが、長時間滞留するのは装置効
率が低下して経済的ではなく支障のない限り短い方がよ
い。
率が低下して経済的ではなく支障のない限り短い方がよ
い。
本発明の一般的な実施方法としては次の通りである。例
えば、所定温度のＴＨＡＱ融液をノズルから冷却水で所
定の冷却温度に冷却した移動式（例えばヘルド型フレー
カ−）スチール類の冷却面に一定間隔で一定量演下し、
−定時間冷却保持したのち、冷却面の反転部分で固化し
たＴＨＡＱ成型物をスクレーパーで剥離する６第二の発
明を実施する場合は、Ｔ ＨＡ Ｑ融液の滴下場所の冷
却面を約５０℃以下に保持し、所定時間経過した位置の
冷却面の温度を約５０℃以上に昇温することにより良好
に成型物を剥離することができる。
えば、所定温度のＴＨＡＱ融液をノズルから冷却水で所
定の冷却温度に冷却した移動式（例えばヘルド型フレー
カ−）スチール類の冷却面に一定間隔で一定量演下し、
−定時間冷却保持したのち、冷却面の反転部分で固化し
たＴＨＡＱ成型物をスクレーパーで剥離する６第二の発
明を実施する場合は、Ｔ ＨＡ Ｑ融液の滴下場所の冷
却面を約５０℃以下に保持し、所定時間経過した位置の
冷却面の温度を約５０℃以上に昇温することにより良好
に成型物を剥離することができる。
「発明の効果」
本発明には、例えば次の効果がある。
ＴＨＡＱ融液から冷却面と接触させ直接成型する成型方
法において、従来より冷却時間を短縮し、剥離性よく成
型することができる。
法において、従来より冷却時間を短縮し、剥離性よく成
型することができる。
次に、本発明の方法を実施例によって詳細に説明する。
ただし、本明細書中に使用されている「％」は、特にこ
とわらない限り、「重量％」を示す。
とわらない限り、「重量％」を示す。
実施例 １
ナフタリンの接触気相酸化反応によって得られたナフト
キノンの５０χオルソキシレンｌ容ｃ′夜にフ゛タジエ
ンを加えてディールス・アルダ−反応を行わせて得られ
たＴＨＡＱの６０χ）容液１０ｋｇを９５°Ｃ１１００
Ｔｏｒｒでノ容媒を減圧留去し溶媒の含有量を２．５χ
にした。得られたの融１６ｋｇを、１２０℃に保持しな
がら一滴当たり約０．２ｇを約０．４秒間隔で、６０℃
のステレス製のベルトフレーカ−に滴下し、約３０秒間
の冷却時間でベルトを移動し、末端のスクレーパーで剥
離した。剥離は極めて良好であった。
キノンの５０χオルソキシレンｌ容ｃ′夜にフ゛タジエ
ンを加えてディールス・アルダ−反応を行わせて得られ
たＴＨＡＱの６０χ）容液１０ｋｇを９５°Ｃ１１００
Ｔｏｒｒでノ容媒を減圧留去し溶媒の含有量を２．５χ
にした。得られたの融１６ｋｇを、１２０℃に保持しな
がら一滴当たり約０．２ｇを約０．４秒間隔で、６０℃
のステレス製のベルトフレーカ−に滴下し、約３０秒間
の冷却時間でベルトを移動し、末端のスクレーパーで剥
離した。剥離は極めて良好であった。
冷却面の冷却温度を４０℃に変えたところ、Ｔ）ＩＡＱ
融液が冷却面で十分固化せず、スクレーパーの剥離が悪
く、付着した。
融液が冷却面で十分固化せず、スクレーパーの剥離が悪
く、付着した。
実施例 ２
Ｔ Ｉ−Ｉ Ａ Ｑについて不純物の含有量を種々調節
したサンプルを調製し、このサンプルを、攪拌機、加熱
器及び滴下パルプを備えたＴＨＡＱ融液供給容器から、
１２０℃に保持した一定量の咳融液を、恒温槽中の平板
状のステンレス容器に滴下し、固化時間及び剥離性につ
いて調べた。その結果は第１表及び第２表に示す通りで
ある。
したサンプルを調製し、このサンプルを、攪拌機、加熱
器及び滴下パルプを備えたＴＨＡＱ融液供給容器から、
１２０℃に保持した一定量の咳融液を、恒温槽中の平板
状のステンレス容器に滴下し、固化時間及び剥離性につ
いて調べた。その結果は第１表及び第２表に示す通りで
ある。
第 １ 表（剥離性の関係）
注：上記の表中の記号の意味は次の通り。
十 ：剥離が良好。
十−：剥離ができる程度。
−二剥離不良。
一−：剥属せしない。
第 ２ 表（固化速度の関係）
実施例 ３
実施例２と同様な装置で、実施例２において剥離性の悪
かった純度９３％のＴＨＡＱ融液を先ず４０°Ｃ及び５
０℃の冷却面に滴下し固化したのち、該冷却面の温度を
６０〜８０℃に１０秒間加熱すると、その固化物は剥離
性が著しく改善され、良好な成型物が得られた。
かった純度９３％のＴＨＡＱ融液を先ず４０°Ｃ及び５
０℃の冷却面に滴下し固化したのち、該冷却面の温度を
６０〜８０℃に１０秒間加熱すると、その固化物は剥離
性が著しく改善され、良好な成型物が得られた。
Claims (10)
- （１）１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロアントラキノ
ン融液を冷却固化成型する方法において、該融液を約５
０〜約８０℃の冷却面と接触せしめ、次いで剥離するこ
とを特徴とする１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロアン
トラキノンの成型方法。 - （２）１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロアントラキノ
ンがナフトキノンとブタジエンとの反応により得られた
１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロアントラキノンであ
る特許請求の範囲第１項記載の方法。 - （３）１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロアントラキノ
ンの融液が、ナフトキノンとブタジエンとを不活性な有
機溶媒中にて反応して得られる１，４，４ａ，９ａ−テ
トラヒドロアントラキノンを主成分とする反応溶液から
溶媒を留去して得られた融液である特許請求の範囲第２
項記載の方法。 - （４）不活性有機溶媒が低級芳香族炭化水素である特許
請求の範囲第３項記載の方法。 - （５）低級芳香族炭化水素がベンゼン、トルエン、キシ
レン、エチルベンゼンである特許請求の範囲第４項記載
の方法。 - （６）キシレンがオルソキシレンである特許請求の範囲
第５項記載の方法。 - （７）該融液中の有機溶媒の含有量が約５％以下である
特許請求の範囲第３項記載の方法。 - （８）有機溶媒の含有量が約３％以下である特許請求の
範囲第７項記載の方法。 - （９）有機溶媒の含有量が約１％以下である特許請求の
範囲第７項記載の方法。 - （１０）１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロアントラキ
ノン融液を冷却固化成型する方法において、該融液を最
初に約５０℃以下約４０℃以上の冷却面と接触固化せし
めたのち、該冷却面を約５０〜約８０℃に上昇せしめ、
次いで剥離することを特徴とする１，４，４ａ，９ａ−
テトラヒドロアントラキノンの成型方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61146088A JPH062706B2 (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 | １，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロアントラキノンの成型方法 |
| US07/060,161 US4795604A (en) | 1986-06-24 | 1987-06-10 | Method for molding 1,4,4a,9a-tetrahydroanthraquinone |
| CA000539340A CA1276067C (en) | 1986-06-24 | 1987-06-10 | Method for molding 1,4,4a,9a-tetrahydroanthraquinone |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61146088A JPH062706B2 (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 | １，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロアントラキノンの成型方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS635049A true JPS635049A (ja) | 1988-01-11 |
| JPH062706B2 JPH062706B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=15399857
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61146088A Expired - Lifetime JPH062706B2 (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 | １，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロアントラキノンの成型方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JPH062706B2 (ja) |
| CA (1) | CA1276067C (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6310255B1 (en) | 1998-03-30 | 2001-10-30 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Process for producing hinokitiol |
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| US5256362A (en) * | 1989-07-14 | 1993-10-26 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Method for production of granular cysteamine hydrochloride |
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| CN1984978B (zh) * | 2004-06-28 | 2014-04-16 | 联邦科学和工业研究组织 | 氧清除组合物及其制备方法 |
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| US10556368B1 (en) * | 2018-07-24 | 2020-02-11 | Fortson-Peek Company, Inc. | Thermoplastic pavement marking flake, method of manufacturing thermoplastic pavement marking flake and its application |
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| US3221087A (en) * | 1962-03-19 | 1965-11-30 | Monsanto Co | Preparing heat sensitive materials in improved physical form |
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-
1986
- 1986-06-24 JP JP61146088A patent/JPH062706B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-06-10 CA CA000539340A patent/CA1276067C/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-06-10 US US07/060,161 patent/US4795604A/en not_active Expired - Fee Related
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| US6310255B1 (en) | 1998-03-30 | 2001-10-30 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Process for producing hinokitiol |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4795604A (en) | 1989-01-03 |
| CA1276067C (en) | 1990-11-13 |
| JPH062706B2 (ja) | 1994-01-12 |
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