JPS6352104A - 光フアイバ用アダプタの製造方法 - Google Patents
光フアイバ用アダプタの製造方法Info
- Publication number
- JPS6352104A JPS6352104A JP61195233A JP19523386A JPS6352104A JP S6352104 A JPS6352104 A JP S6352104A JP 61195233 A JP61195233 A JP 61195233A JP 19523386 A JP19523386 A JP 19523386A JP S6352104 A JPS6352104 A JP S6352104A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- master mold
- optical fiber
- gel
- transfer pattern
- sol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Light Guides In General And Applications Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は光合波分波器等の光素子に使用される光ファイ
バの位置決めに使用するアダプタの製造方法に関する。
バの位置決めに使用するアダプタの製造方法に関する。
（従来の技術）
光素子例えば、干渉膜フィルタ方式の光ファイバ型光合
波分４１器は第８図に示すように構成される。即ち、第
１及び第２の光ファイバ１．２の各端面１ａ、２ａを所
定の角度で斜め研会し、両端面１ａ、２ａ間に、波長λ
ｌの光（３号を反射し、波長λ２の光信刊を透過させる
干／３！膜フィルニ″ｊ４を介在させ、且つ第１及び第
２の光ファイバｌ、２の各コア１ｃ、２ｃの光軸が整合
するように両端面１ａ、２ａを突き合わせ接合している
。そして、両光ファイバ１．２の接合面近傍の側面１ｂ
、２ｂが側面研磨され、このように側面研磨された側面
１ｂ、２ｂに端面３ａを所定の角度で斜め研磨された第
３の光ファイバ３を、当該光ファイバ３のコア３Ｃの光
軸が前記干渉膜フィルタ１を反射面として第１の光ファ
イバ１のコアＩｃＯ光軸に整合するように接合されてい
る。
波分４１器は第８図に示すように構成される。即ち、第
１及び第２の光ファイバ１．２の各端面１ａ、２ａを所
定の角度で斜め研会し、両端面１ａ、２ａ間に、波長λ
ｌの光（３号を反射し、波長λ２の光信刊を透過させる
干／３！膜フィルニ″ｊ４を介在させ、且つ第１及び第
２の光ファイバｌ、２の各コア１ｃ、２ｃの光軸が整合
するように両端面１ａ、２ａを突き合わせ接合している
。そして、両光ファイバ１．２の接合面近傍の側面１ｂ
、２ｂが側面研磨され、このように側面研磨された側面
１ｂ、２ｂに端面３ａを所定の角度で斜め研磨された第
３の光ファイバ３を、当該光ファイバ３のコア３Ｃの光
軸が前記干渉膜フィルタ１を反射面として第１の光ファ
イバ１のコアＩｃＯ光軸に整合するように接合されてい
る。
斯かる光合波分波器は第１の光ファイバ１を伝播してき
た光信号を波長に応して第２及び第３の光ファイバ３に
分波させ、第２及び第３の尤ファイバ２及び３を伝播し
てきた光信号を第１の光）ァイバｌに合波させるもので
、第１の光ファイバｌを伝播してきた波長λ１の光信号
は干渉膜フィルタ４で反射し、第３の光ファイバ３のコ
ア３ｃに入射して当該第３の光ファイバ３を伝播してい
き、波長λ２の光信号は干渉膜フィルタ４を通過して、
第２の光ファイバ２のコア２ｃに入射し、当該第２の光
ファイバ２を伝播していく。
た光信号を波長に応して第２及び第３の光ファイバ３に
分波させ、第２及び第３の尤ファイバ２及び３を伝播し
てきた光信号を第１の光）ァイバｌに合波させるもので
、第１の光ファイバｌを伝播してきた波長λ１の光信号
は干渉膜フィルタ４で反射し、第３の光ファイバ３のコ
ア３ｃに入射して当該第３の光ファイバ３を伝播してい
き、波長λ２の光信号は干渉膜フィルタ４を通過して、
第２の光ファイバ２のコア２ｃに入射し、当該第２の光
ファイバ２を伝播していく。
一方、第２の光ファイバ２を伝播してきた波長λ２の光
信号は干渉膜フィルタ４を通過して第１の光ファイバｌ
に入射し、第３の光ファイバ３を伝播してきた波長λ１
の光信号は干渉膜フィルタ４で反射して第１の光ファイ
バ１に入射・合波さる。
信号は干渉膜フィルタ４を通過して第１の光ファイバｌ
に入射し、第３の光ファイバ３を伝播してきた波長λ１
の光信号は干渉膜フィルタ４で反射して第１の光ファイ
バ１に入射・合波さる。
斯かる構成の光合波分波器を組み立てるには、光ファイ
バのコアの軸合わせを行うための取りつけ治具を必要と
し、従来、第９図に示すような取付治具５が使用されて
いる。この取付ｌｆ１具５としては一面５ａの一側端面
から他側端面に亘り直線状に延びる断面Ｖ字状のガイド
溝５ｂを刻設され、このＶ？ｉ５ｂの略中央から所定の
角度θで分岐される断面ｖ字状の溝５Ｃを刻設された基
板５が使用され、Ｖ溝５ｂとＶ溝５Ｃとの分岐部の左側
に、第８図に示すような斜め研摩された端面ｌｃに干渉
膜フィルタ４を蒸着された第１の光ファイバｌを、右側
に第２の光ファイバ２を、ＶＩ１５ｃには第３の光ファ
イバ３を夫々セットし、これの各光フィイハ１〜３を例
えば顕微鏡で観察しながら突き合わせて接合している。
バのコアの軸合わせを行うための取りつけ治具を必要と
し、従来、第９図に示すような取付治具５が使用されて
いる。この取付ｌｆ１具５としては一面５ａの一側端面
から他側端面に亘り直線状に延びる断面Ｖ字状のガイド
溝５ｂを刻設され、このＶ？ｉ５ｂの略中央から所定の
角度θで分岐される断面ｖ字状の溝５Ｃを刻設された基
板５が使用され、Ｖ溝５ｂとＶ溝５Ｃとの分岐部の左側
に、第８図に示すような斜め研摩された端面ｌｃに干渉
膜フィルタ４を蒸着された第１の光ファイバｌを、右側
に第２の光ファイバ２を、ＶＩ１５ｃには第３の光ファ
イバ３を夫々セットし、これの各光フィイハ１〜３を例
えば顕微鏡で観察しながら突き合わせて接合している。
（発明が解決しようとする問題点）
前記取付治具５の■溝は、先ず、正路であるＶ溝５ｂを
、次いで、分岐路であるＶ溝５ｃを順次研削加工してい
る。然るに、研削機械の加工制度は現状では各■溝の４
深さを１μｍ程度の精度で加工することは困難であり。
、次いで、分岐路であるＶ溝５ｃを順次研削加工してい
る。然るに、研削機械の加工制度は現状では各■溝の４
深さを１μｍ程度の精度で加工することは困難であり。
■溝５ｂとＶ１５ｃとの溝深さの差は通常１０μｍ程度
となる。
となる。
このため、このようなり講を佇する取（−１治具を用い
て光合波分波器の組み立てを行った場合、第１及び第２
の光ファイバｌ、２と第３の光ファイバ３との間でＩＯ
μｍ程度の軸ずれを生しることとなり、これは第１の光
信号の伝送における）員失要因となる。特に、コア径１
０μｍのノングルモード用ファイバを使用する光合波分
波２＝の場合、■、簿の加工精度が上述の程度しか得ら
れない場合Ｓこは、光ファイバ間の光信号の伝送は略不
可能となるという問題がある。
て光合波分波器の組み立てを行った場合、第１及び第２
の光ファイバｌ、２と第３の光ファイバ３との間でＩＯ
μｍ程度の軸ずれを生しることとなり、これは第１の光
信号の伝送における）員失要因となる。特に、コア径１
０μｍのノングルモード用ファイバを使用する光合波分
波２＝の場合、■、簿の加工精度が上述の程度しか得ら
れない場合Ｓこは、光ファイバ間の光信号の伝送は略不
可能となるという問題がある。
本発明は上述の問題点を解決するためになされたちので
、高精度のガイド溝を有する光ファイバ用アダプタの製
造方法を提供することを目的とする。
、高精度のガイド溝を有する光ファイバ用アダプタの製
造方法を提供することを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
上記目的を達成するために本発明Ｓこよれば、基板上に
光ファイバのガイド溝が形成された光ファイバ用アダプ
タの製造方法において、前記アダプタのマスタ型を作製
し、当該マスタ型を基にしてゾルゲル法におけるゲル化
に伴う収縮現象により、より収縮した転写パターンを得
る操作を１スリ返して行い所望のガイド溝を形成する光
ファイバ用アダプタの製造方法が提供される。
光ファイバのガイド溝が形成された光ファイバ用アダプ
タの製造方法において、前記アダプタのマスタ型を作製
し、当該マスタ型を基にしてゾルゲル法におけるゲル化
に伴う収縮現象により、より収縮した転写パターンを得
る操作を１スリ返して行い所望のガイド溝を形成する光
ファイバ用アダプタの製造方法が提供される。
（作用）
先ず、ガイド溝を有するアダプタのマスタ型を作製し、
このマスタ型からゾルゲル法により、当該ゲル化に伴う
収縮現象により、より収縮したガイド溝の転写パターン
を得、更にこの転写パターンにより、更に収縮したガイ
ド溝の転写パターンを得る。斯かる操作を繰り返して行
い、所望のガイド溝を有するアダプタを作製する。
このマスタ型からゾルゲル法により、当該ゲル化に伴う
収縮現象により、より収縮したガイド溝の転写パターン
を得、更にこの転写パターンにより、更に収縮したガイ
ド溝の転写パターンを得る。斯かる操作を繰り返して行
い、所望のガイド溝を有するアダプタを作製する。
以下本発明の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。
第１図は本発明に適用するマスタ型を示し、マスタ型ｌ
Ｏは基板１１、当該基板１１上に載置されるロッド１２
．１３および基板１１上にロッド１２．１３を固定する
モールド剤１４等により構成される。基（反１１の一面
Ｚａは表面を滑らかに形成された略矩形状に形成され、
このｕ＋、ＩＭＩＩの当該表面１１ａ上にはロッド１２
と、ロット１３とが載置され、ロッド１３の一端面は斜
めにカットされて前記ロット１２の略中央位置の側面に
所定の角度例えば前記角度θをなして略ト字状に接、続
されている。そして、ロッド１１は王路を、ロフト１３
は分岐路を形成する。これらの各ロノドｌ２．１３は断
面円形状をなし、その外径は光ファイバｌ （第９図）
の線径よりも大径をなしている。これらの各ロフト１２
．１３は同一のロッド部材から切り出すことにより同一
の形状に設定される。
Ｏは基板１１、当該基板１１上に載置されるロッド１２
．１３および基板１１上にロッド１２．１３を固定する
モールド剤１４等により構成される。基（反１１の一面
Ｚａは表面を滑らかに形成された略矩形状に形成され、
このｕ＋、ＩＭＩＩの当該表面１１ａ上にはロッド１２
と、ロット１３とが載置され、ロッド１３の一端面は斜
めにカットされて前記ロット１２の略中央位置の側面に
所定の角度例えば前記角度θをなして略ト字状に接、続
されている。そして、ロッド１１は王路を、ロフト１３
は分岐路を形成する。これらの各ロノドｌ２．１３は断
面円形状をなし、その外径は光ファイバｌ （第９図）
の線径よりも大径をなしている。これらの各ロフト１２
．１３は同一のロッド部材から切り出すことにより同一
の形状に設定される。
次いで基板１１上に載置されロッド１２と１３とにより
略ト字状に接続された２本のロッドを夫々各半分の位置
までモールド剤によりモールドする。またロッド１２と
１３との接続部に隙間を生じている場合には当該接続部
も回示のようにモールド剤１４によりモールドして成形
する。このようにして基板１１上に断面が半円形状をな
し略ト字状の突条を有するマスタ型ｌＯを作製する。
略ト字状に接続された２本のロッドを夫々各半分の位置
までモールド剤によりモールドする。またロッド１２と
１３との接続部に隙間を生じている場合には当該接続部
も回示のようにモールド剤１４によりモールドして成形
する。このようにして基板１１上に断面が半円形状をな
し略ト字状の突条を有するマスタ型ｌＯを作製する。
次にこのマスタ型を使用してアダプタを形成する方法に
ついて説明する。
ついて説明する。
先ず、前述のように作成したマスタ型ｌＯを、ゾルゲル
法例えば、テトラメトキシシラン、水、メチルアルコー
ルからなる混合液（ゾル）に接触させた状態で当該混合
液をゲル化させた後、当該マスタ型ｌＯを取り外す。次
いでこのマスタ型を除去した前記ゲルを乾燥、加熱する
。この乾燥、加熱の際に前記ゲルの収縮が起こる。この
時の収縮率はゾル即ち、前記混合液の組成比、温度フ境
に依存し、型の略０．３３〜０．５０程度の範囲の値と
なる。従って、これらの組成比及び温度環境を必要な収
縮率を得られるように設定しておく。前記ゲルの収縮に
より第２図に示すような収縮した転写パターン１５を得
る。この転写パターン１５を形成する基板１６は前記混
合液（ゾル）のゲル化したものであり、当該基板１６に
は断面半円形状の溝即ち、主路１７と当該主路１７から
分岐する分岐路１８とが形成される。
法例えば、テトラメトキシシラン、水、メチルアルコー
ルからなる混合液（ゾル）に接触させた状態で当該混合
液をゲル化させた後、当該マスタ型ｌＯを取り外す。次
いでこのマスタ型を除去した前記ゲルを乾燥、加熱する
。この乾燥、加熱の際に前記ゲルの収縮が起こる。この
時の収縮率はゾル即ち、前記混合液の組成比、温度フ境
に依存し、型の略０．３３〜０．５０程度の範囲の値と
なる。従って、これらの組成比及び温度環境を必要な収
縮率を得られるように設定しておく。前記ゲルの収縮に
より第２図に示すような収縮した転写パターン１５を得
る。この転写パターン１５を形成する基板１６は前記混
合液（ゾル）のゲル化したものであり、当該基板１６に
は断面半円形状の溝即ち、主路１７と当該主路１７から
分岐する分岐路１８とが形成される。
次に、第２図に示す転写パターン１５を基にして前記混
合液を使用して前述と同様にゲル化して第３図に示すよ
うな収縮した転写パターン２０を作製する。この転写パ
ターン２０は前記第１図に示すマスタ型ｌＯと相似形を
なし、当該パターン２０を形成する基板２１には断面半
円形状をなし主路を形成する突条２２、分岐路を形成す
る２３が形成される。
合液を使用して前述と同様にゲル化して第３図に示すよ
うな収縮した転写パターン２０を作製する。この転写パ
ターン２０は前記第１図に示すマスタ型ｌＯと相似形を
なし、当該パターン２０を形成する基板２１には断面半
円形状をなし主路を形成する突条２２、分岐路を形成す
る２３が形成される。
次に、この転写パターン２０を基にして前記混合液を使
用して前述と同様にゲル化して第４図に示すような更に
収縮した転写パターン２４を作製する。この転写パター
ン２４は第２図に示す転写パターン１５と相似形をなし
、当該パターン２４を形成する基板２５には主路２６、
分岐路２７が形成されている。次に、この転写パターン
２４を基にして前述と同様にして第５図に示すような更
に収縮した転写パターン２８を作製する。この転写パタ
ーン２８は第３図に示す転写パターン２０と相似形をな
し、当該パターン２日を形成する基板２９には断面半円
形状をなし主路を形成する突条３０、分岐路を形成する
突条３１が形成されている。
用して前述と同様にゲル化して第４図に示すような更に
収縮した転写パターン２４を作製する。この転写パター
ン２４は第２図に示す転写パターン１５と相似形をなし
、当該パターン２４を形成する基板２５には主路２６、
分岐路２７が形成されている。次に、この転写パターン
２４を基にして前述と同様にして第５図に示すような更
に収縮した転写パターン２８を作製する。この転写パタ
ーン２８は第３図に示す転写パターン２０と相似形をな
し、当該パターン２日を形成する基板２９には断面半円
形状をなし主路を形成する突条３０、分岐路を形成する
突条３１が形成されている。
次に、第５図に示す収縮した転写パターン２日を基にし
て前述と同様にし第６図に示すような更に収縮した転写
パターン３２を作製する。この転写パターン３２は前記
第４図に示す転写パターン２４と相似形をなし当該パタ
ーン３２を形成する基板３３には主路３４及び分岐路３
５が形成される。かかる１桑作を繰り返して行うことに
より、任意の大きさのパターンを得ることができる。し
かも、マスタ型ｌＯの２木のロッド１２．１３間の高低
差も前記収縮に伴い実質的に小さくなる。
て前述と同様にし第６図に示すような更に収縮した転写
パターン３２を作製する。この転写パターン３２は前記
第４図に示す転写パターン２４と相似形をなし当該パタ
ーン３２を形成する基板３３には主路３４及び分岐路３
５が形成される。かかる１桑作を繰り返して行うことに
より、任意の大きさのパターンを得ることができる。し
かも、マスタ型ｌＯの２木のロッド１２．１３間の高低
差も前記収縮に伴い実質的に小さくなる。
例えば、上記実施例において、ゾルのゲル化に伴う収縮
率を５０％、マスタ型１０に使用するロッド１２．１３
の半径を２−膳とすしだ場合、前記工程を５回繰り返し
て行うことにより、半径６２．５μｍの半円を断面形状
に持つ光ファイバ用のガイド溝を形成することができる
。また、このときのロッド１２．１３間の高低差は５回
の収縮により実質的に１７３２に減少される。従って、
ガイド溝の主路と分岐路との間で１μｍの高低差を得た
い場合にはマスタ型において３２μｍの高低差を実現す
ればよく、この値は容易に実現することが可能である。
率を５０％、マスタ型１０に使用するロッド１２．１３
の半径を２−膳とすしだ場合、前記工程を５回繰り返し
て行うことにより、半径６２．５μｍの半円を断面形状
に持つ光ファイバ用のガイド溝を形成することができる
。また、このときのロッド１２．１３間の高低差は５回
の収縮により実質的に１７３２に減少される。従って、
ガイド溝の主路と分岐路との間で１μｍの高低差を得た
い場合にはマスタ型において３２μｍの高低差を実現す
ればよく、この値は容易に実現することが可能である。
第７図はマスタ型の他の実施例を示し、マスタ型４０は
主路及び分岐路を形成する各ロッドに、光ファイバ自体
をガイドするガイド溝を形成するためのロッド４１及び
４１と、当該光ファイバの保工５材の被服部分をガイド
するガイド溝を形成するための前記ロッド４１．４１よ
りも大径のロフト４２．４２といった半径の異なる２種
類のロッドを使用したものである。このマスタ型４０に
よれば、光ファイバ自体及び当該光ファイバの保護材被
服部分との両者のガイドが可能なガイド溝を一体に形成
することができる。
主路及び分岐路を形成する各ロッドに、光ファイバ自体
をガイドするガイド溝を形成するためのロッド４１及び
４１と、当該光ファイバの保工５材の被服部分をガイド
するガイド溝を形成するための前記ロッド４１．４１よ
りも大径のロフト４２．４２といった半径の異なる２種
類のロッドを使用したものである。このマスタ型４０に
よれば、光ファイバ自体及び当該光ファイバの保護材被
服部分との両者のガイドが可能なガイド溝を一体に形成
することができる。
尚、本実施例においては、転写パターンを得る混合液と
してテトラメトキシシラン、水、メチルアルコールを原
料として用いた場合について記述したがこれに限るもの
ではなく、他の部材例えば、ゲル化において収縮を伴う
ガラス原料、セラミックス原料等を使用し、ゾルゲル法
により作製される光ファイバ用ガイド溝に対しても同様
に適用し得ることはいうまでもない。
してテトラメトキシシラン、水、メチルアルコールを原
料として用いた場合について記述したがこれに限るもの
ではなく、他の部材例えば、ゲル化において収縮を伴う
ガラス原料、セラミックス原料等を使用し、ゾルゲル法
により作製される光ファイバ用ガイド溝に対しても同様
に適用し得ることはいうまでもない。
また、本実施例においてはマスタ型に使用する口、ドの
断面形状を円形状とした場合について記述したが、これ
に限るものではなく他の断面形状例えば、半円形状、三
角形状、四角形状等の形状にしてもよいことは勿論であ
る。
断面形状を円形状とした場合について記述したが、これ
に限るものではなく他の断面形状例えば、半円形状、三
角形状、四角形状等の形状にしてもよいことは勿論であ
る。
（発明の効果）
以上説明したように本発明によれば、基板上に光ファイ
バのガイド溝が形成された光ファイバ用アダプタの製造
方法において、前記アダプタのマスタ型を作製し、当該
マスタ型を基にしてゾルゲル法におけるゲル化に伴う収
縮現象により、より収縮した転写パターンを得る操作を
繰り返して行い所望のガイド溝を形成するようにしたの
で、高精度の光ファイバ用ガイド溝を容易に得ることが
でき、しかも、その作製方法は非常に簡単であり、作業
能率の向上及び価格の低廉化を図ることができる等の優
れた効果がある。
バのガイド溝が形成された光ファイバ用アダプタの製造
方法において、前記アダプタのマスタ型を作製し、当該
マスタ型を基にしてゾルゲル法におけるゲル化に伴う収
縮現象により、より収縮した転写パターンを得る操作を
繰り返して行い所望のガイド溝を形成するようにしたの
で、高精度の光ファイバ用ガイド溝を容易に得ることが
でき、しかも、その作製方法は非常に簡単であり、作業
能率の向上及び価格の低廉化を図ることができる等の優
れた効果がある。
第１図は本発明に係る光ファイバ用アダプタの製造方法
に使用するマスタ型の一実施例を示すｉ、１視図、第２
図乃至第６図は第１図のマスタ型からゾルゲル法により
順次収縮させて形成した転写パターンの斜視図、第７図
はマスタ型の他の実施例を示す斜視図、第８図は干渉模
式の光ファイバの接合部を示す要部断面図、第９図は第
８図の各先光ファイバをセットするためのガイド溝を刻
設された基板の平面図である。 １〜３・・・光ファイバ、４・・・干渉膜、１０．４０
・・・マスタ型、１１・・・基板、１２．１３．４１．
４２、・・・ロッド、１４・・・モールド剤、１５．２
０．２４．２８・・・転写パターン。 出願人 古河電気工業株式会社 代理人 弁理士 長 門 侃 二 部１図 第２図 第３図 第８図 第９図
に使用するマスタ型の一実施例を示すｉ、１視図、第２
図乃至第６図は第１図のマスタ型からゾルゲル法により
順次収縮させて形成した転写パターンの斜視図、第７図
はマスタ型の他の実施例を示す斜視図、第８図は干渉模
式の光ファイバの接合部を示す要部断面図、第９図は第
８図の各先光ファイバをセットするためのガイド溝を刻
設された基板の平面図である。 １〜３・・・光ファイバ、４・・・干渉膜、１０．４０
・・・マスタ型、１１・・・基板、１２．１３．４１．
４２、・・・ロッド、１４・・・モールド剤、１５．２
０．２４．２８・・・転写パターン。 出願人 古河電気工業株式会社 代理人 弁理士 長 門 侃 二 部１図 第２図 第３図 第８図 第９図
Claims (2)
- （１）基板上に光ファイバのガイド溝が形成された光フ
ァイバ用アダプタの製造方法において、前記アダプタの
マスタ型を作製し、当該マスタ型を基にしてゾルゲル法
におけるゲル化に伴う収縮現象により、より収縮した転
写パターンを得る操作を繰り返して行い所望のガイド溝
を形成することを特徴とする光ファイバ用アダプタの製
造方法。 - （２）前記ガイド溝は略ト字状に形成されることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の光ファイバ用アダプ
タの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61195233A JPS6352104A (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | 光フアイバ用アダプタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61195233A JPS6352104A (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | 光フアイバ用アダプタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6352104A true JPS6352104A (ja) | 1988-03-05 |
Family
ID=16337696
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61195233A Pending JPS6352104A (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | 光フアイバ用アダプタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6352104A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004083137A1 (en) * | 2003-03-20 | 2004-09-30 | Degussa Novara Technology S.P.A. | Optical articles and sol-gel process for their manufacture |
-
1986
- 1986-08-22 JP JP61195233A patent/JPS6352104A/ja active Pending
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