JPS635293A - ビ−ム形状測定装置 - Google Patents
ビ−ム形状測定装置Info
- Publication number
- JPS635293A JPS635293A JP14998986A JP14998986A JPS635293A JP S635293 A JPS635293 A JP S635293A JP 14998986 A JP14998986 A JP 14998986A JP 14998986 A JP14998986 A JP 14998986A JP S635293 A JPS635293 A JP S635293A
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- memory
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- signal
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はサイクロトロンで加速した荷電粒子をビーム輸
送装置を通してターゲット材料に照射する場合、所要の
形状のビームとして照射するためのビーム形状測定装置
に関する。
送装置を通してターゲット材料に照射する場合、所要の
形状のビームとして照射するためのビーム形状測定装置
に関する。
（従来の技術）
一般に小型のサイクロトロンは第７図の縦断面図、第８
図の横断面図に示すように、上下に対向しているヨーク
２．３と励磁コイル４，５よりなる電磁石の対向する磁
極間に水平に加速空間１を設け、磁極の中心部にイオン
源６を設けである。
図の横断面図に示すように、上下に対向しているヨーク
２．３と励磁コイル４，５よりなる電磁石の対向する磁
極間に水平に加速空間１を設け、磁極の中心部にイオン
源６を設けである。
加速空間１には水平面で上下に対間している２組の同形
の扇形状の電極７，７及び８，８をそれぞれ中心点に対
して対称でかつ水平に配置し、これらの電極７，８には
周波数ｆの発振器９からの高周波電圧をそれぞれＲＦフ
ァイナルアンプ１０、フィーダー１１を介して印加しで
ある。
の扇形状の電極７，７及び８，８をそれぞれ中心点に対
して対称でかつ水平に配置し、これらの電極７，８には
周波数ｆの発振器９からの高周波電圧をそれぞれＲＦフ
ァイナルアンプ１０、フィーダー１１を介して印加しで
ある。
また加速空間１は真空ポンプ３９．４０で真空にしてあ
り、励磁コイル４．５は可変直流電源２５で励磁されて
いる。
り、励磁コイル４．５は可変直流電源２５で励磁されて
いる。
このような構造のサイクロトロンでイオン源６から放出
された荷電粒子は励磁コイル４．５で励磁されている磁
極間の加速空間１内を磁場で拘束され、電極７．８によ
りＲＦ電界で加速されて渦巻状の運動をし、最終的には
偏向デフレクタ１４で荷電粒子ビーム１５を取出し口１
６に誘導する。
された荷電粒子は励磁コイル４．５で励磁されている磁
極間の加速空間１内を磁場で拘束され、電極７．８によ
りＲＦ電界で加速されて渦巻状の運動をし、最終的には
偏向デフレクタ１４で荷電粒子ビーム１５を取出し口１
６に誘導する。
この場合荷電粒子ビーム１５の速度は電極７．８に印加
するＲＦ雷電圧周波数と、この場合に必要な励磁コイル
４．５の励磁電流の調節により適宜に選ぶことが出来る
。
するＲＦ雷電圧周波数と、この場合に必要な励磁コイル
４．５の励磁電流の調節により適宜に選ぶことが出来る
。
取り出し口１６の外部には荷電粒子ビーム１５を輸送す
るビーム輸送装置１７が設けてあり、荷電粒子ビーム１
５はビーム輸送装置１７及びこの中に設けられているビ
ーム調節装置１９及びビーム形状検出部２０を通ってタ
ーゲットボックス１８内のターゲット材料を照射する。
るビーム輸送装置１７が設けてあり、荷電粒子ビーム１
５はビーム輸送装置１７及びこの中に設けられているビ
ーム調節装置１９及びビーム形状検出部２０を通ってタ
ーゲットボックス１８内のターゲット材料を照射する。
ビーム形状検出部２０は第２図のビーム形状検出部のよ
うにコ字状の枠２１の開放端に枠２１と絶縁された検出
ワイヤー２２が張架されている。この枠２１を張架され
た検出ワイヤー２２の張架方向に垂直な方向に移動させ
、検出ワイヤー２２で荷電粒子ビーム通路２３を垂直に
試断するような動作をさせる。
うにコ字状の枠２１の開放端に枠２１と絶縁された検出
ワイヤー２２が張架されている。この枠２１を張架され
た検出ワイヤー２２の張架方向に垂直な方向に移動させ
、検出ワイヤー２２で荷電粒子ビーム通路２３を垂直に
試断するような動作をさせる。
検出ワイヤー２２はゆっくり移動させて荷電粒子ビーム
通路２３内のビーム断面２４をＡ断する時に荷電粒子ビ
ーム１５により検出ワイヤー２２に発生した電圧をペン
レコーダーで図形化する。この場合位置は検出ワイヤー
２２のスタート位置を決めておき、その移動速度をペン
レコーダーの紙送り速度に同期させていた。このため、
１回の測定に２〜３分位が必要であった。
通路２３内のビーム断面２４をＡ断する時に荷電粒子ビ
ーム１５により検出ワイヤー２２に発生した電圧をペン
レコーダーで図形化する。この場合位置は検出ワイヤー
２２のスタート位置を決めておき、その移動速度をペン
レコーダーの紙送り速度に同期させていた。このため、
１回の測定に２〜３分位が必要であった。
（発明が解決しようとする問題点）
上述のように荷電粒子ビーム１５で照射する場合、荷電
粒子ビーム１５のビーム形状の測定には２〜３分位の時
間が必要であり、変動する恐れのあるビ 。
粒子ビーム１５のビーム形状の測定には２〜３分位の時
間が必要であり、変動する恐れのあるビ 。
−人形状をリアルタイムで測定することができなかった
。
。
（問題を解決するための手段）
本発明は上述の問題を解決して、荷電粒子ビームの形状
をリアルタイムで測定可能な測定装置を提供することを
目的とする。
をリアルタイムで測定可能な測定装置を提供することを
目的とする。
即ち検出ワイヤーを張架したビーム形状検出部と、前記
検出ワイヤーの位置を検出する位置検出器と、前記検出
ワイヤーのアナログ出力電圧をデジタル信号に変換する
アナログ・デジタル変換器と、前記デジタル信号を記憶
するメモリーと、前記位置検出器の検出出力をカウント
して前記メモリーのアドレス信号を出力するカウンター
と、前記メモリーの読出しのクロック信号を出力するク
ロック回路と、前記メモリーの読出したデジタル信号を
アナログ信号に変換するデジタル・アナログ変換器と、
このデジタル・アナログ変換器の出力を表示する表示装
置からなるものである。
検出ワイヤーの位置を検出する位置検出器と、前記検出
ワイヤーのアナログ出力電圧をデジタル信号に変換する
アナログ・デジタル変換器と、前記デジタル信号を記憶
するメモリーと、前記位置検出器の検出出力をカウント
して前記メモリーのアドレス信号を出力するカウンター
と、前記メモリーの読出しのクロック信号を出力するク
ロック回路と、前記メモリーの読出したデジタル信号を
アナログ信号に変換するデジタル・アナログ変換器と、
このデジタル・アナログ変換器の出力を表示する表示装
置からなるものである。
また更に上記に追加して所要のビーム形状を設定する設
定器と、この設定器の設定値と前記メモリーの出力とを
比較する比較器と、この比較結果の出力により動作する
ステアリングマグネット制御器とを設けたものである。
定器と、この設定器の設定値と前記メモリーの出力とを
比較する比較器と、この比較結果の出力により動作する
ステアリングマグネット制御器とを設けたものである。
（作用）
上述のように一旦メモリーに記憶させるために検出ワイ
ヤーを高速で移動させることが可能となったので、リャ
ルタイムで測定が出来る。
ヤーを高速で移動させることが可能となったので、リャ
ルタイムで測定が出来る。
また上記メモリーの記憶内容をクロック回路の動作によ
り、後で表示することも出来る。
り、後で表示することも出来る。
更にステアリングマグネットの制御手段を付加すること
により、ビーム形状を設定値に自動制御することも出来
る。
により、ビーム形状を設定値に自動制御することも出来
る。
（実施例）
第１図は本発明の測定装置の回路ブロック図、第２図は
ビーム形状検出部の平面図である。検出ワイヤー２２は
コ字状の枠２工の開放端に枠２１から絶縁された状態で
張架されている。この検出ワイヤー２２は荷電粒子ビー
ム通路２３を横切るように枠２１で移動される。この移
動の位置は枠２１に連動している位置検出器（エンコー
ダ）２５から位置信号として出力される。検出ワイヤー
２２がビーム断面２４内に入ると荷電粒子ビーム１５に
より検出ワイヤー２２に電圧が発生し、この電圧はアナ
ログ・デジタル変換器（Ａ／Ｄ変換器）２６でデジタル
信号となり、メモリー２７に入力する。
ビーム形状検出部の平面図である。検出ワイヤー２２は
コ字状の枠２工の開放端に枠２１から絶縁された状態で
張架されている。この検出ワイヤー２２は荷電粒子ビー
ム通路２３を横切るように枠２１で移動される。この移
動の位置は枠２１に連動している位置検出器（エンコー
ダ）２５から位置信号として出力される。検出ワイヤー
２２がビーム断面２４内に入ると荷電粒子ビーム１５に
より検出ワイヤー２２に電圧が発生し、この電圧はアナ
ログ・デジタル変換器（Ａ／Ｄ変換器）２６でデジタル
信号となり、メモリー２７に入力する。
一方エンコーダ２５の位置信号は切換器２８を通ってカ
ウンター２９に入力し、ここでメモリー２７のアドレス
信号となってメモリー２７に入力し、前記Ａ／Ｄ変換器
２６からのデジタル信号を所定のアドレスに記入させる
。
ウンター２９に入力し、ここでメモリー２７のアドレス
信号となってメモリー２７に入力し、前記Ａ／Ｄ変換器
２６からのデジタル信号を所定のアドレスに記入させる
。
１回のワイヤの掃引でビーム形状をメモリに記憶させた
のち切換器２８を切り換えてカウンタ２９をクロック回
路３２に接続しメモリ２７からデジタル信号を読み出し
、このデジタル信号をデジタル・アナログ変換器（Ｄ／
Ａ変換器虚でアナログ信号に変換し、表示装置３１に表
示する。クロック回路３２のクロック周波数を変えるこ
とにより、ブラウン管オシロスコープのような高速の表
示器あるいはペンレコーダのような低速の表示器にビー
ム形状を表示出来る。
のち切換器２８を切り換えてカウンタ２９をクロック回
路３２に接続しメモリ２７からデジタル信号を読み出し
、このデジタル信号をデジタル・アナログ変換器（Ｄ／
Ａ変換器虚でアナログ信号に変換し、表示装置３１に表
示する。クロック回路３２のクロック周波数を変えるこ
とにより、ブラウン管オシロスコープのような高速の表
示器あるいはペンレコーダのような低速の表示器にビー
ム形状を表示出来る。
第３図はビーム形状図で、検出ワイヤー２２が単一線の
場合である。この場合は同図（イ）示のように検出ワイ
ヤー２２はその張架方向及びビーム方向にそれぞれ垂直
な方向に移動される。この結果検出ワイヤー２２に発生
する電圧即ちビーム強度は同図（ロ）示のような曲線を
示す。
場合である。この場合は同図（イ）示のように検出ワイ
ヤー２２はその張架方向及びビーム方向にそれぞれ垂直
な方向に移動される。この結果検出ワイヤー２２に発生
する電圧即ちビーム強度は同図（ロ）示のような曲線を
示す。
第４図は他の形式のビーム形状検出部で、検出ワイヤー
が２本交叉状態に設けたもので、コ字状の枠３３の開放
端と開放端及び閉鎖端の中間との間に傾斜して２本の検
出ワイヤーＡ３４及び検出ワイヤーＢ３５を枠３３に対
して絶縁して、かつそれぞれが接触しないように離間し
て張架しである。この２本の検出ワイヤーＡ、Ｂは交叉
角度が直角になるように張架することが望ましい。
が２本交叉状態に設けたもので、コ字状の枠３３の開放
端と開放端及び閉鎖端の中間との間に傾斜して２本の検
出ワイヤーＡ３４及び検出ワイヤーＢ３５を枠３３に対
して絶縁して、かつそれぞれが接触しないように離間し
て張架しである。この２本の検出ワイヤーＡ、Ｂは交叉
角度が直角になるように張架することが望ましい。
第５図は上記交叉状態のビーム形状検出部を使用した場
合の交叉線検出のビーム形状図で、（イ）示は荷電粒子
ビーム通路２３と検出ワイヤーＡ及びＢの関係位置を示
したもので、両方の検出ワイヤーＡ及びＢは枠３３で同
時に矢印方向に移動する。
合の交叉線検出のビーム形状図で、（イ）示は荷電粒子
ビーム通路２３と検出ワイヤーＡ及びＢの関係位置を示
したもので、両方の検出ワイヤーＡ及びＢは枠３３で同
時に矢印方向に移動する。
ビーム断面２４に対して、それぞれの検出ワイヤは第３
図の場合と異なり４５°の方向から移動してくる。この
場合ビームに対するワイヤの変位量は、枠３３の移動量
のうち各検出ワイヤＡ及びＢに垂直な成分である。この
方式で測定されるビーム強度と検出ワイヤの位置との関
係曲線が同図（ロ）、（ハ）示である− 第６図は第１図の回路にステアリングマグネット（ＳＭ
）の自動制御回路を付加したもので、メモリー２７に記
入されたビーム断面２４のプロファイルと所望のプロフ
ァイルを設定しである設定器３６の出力とを比較器３７
で比較し、差分の出力によって５Ｍ制御器３８を動作さ
せ、差分が零になるようにステアリングマグネットを自
動制御する。
図の場合と異なり４５°の方向から移動してくる。この
場合ビームに対するワイヤの変位量は、枠３３の移動量
のうち各検出ワイヤＡ及びＢに垂直な成分である。この
方式で測定されるビーム強度と検出ワイヤの位置との関
係曲線が同図（ロ）、（ハ）示である− 第６図は第１図の回路にステアリングマグネット（ＳＭ
）の自動制御回路を付加したもので、メモリー２７に記
入されたビーム断面２４のプロファイルと所望のプロフ
ァイルを設定しである設定器３６の出力とを比較器３７
で比較し、差分の出力によって５Ｍ制御器３８を動作さ
せ、差分が零になるようにステアリングマグネットを自
動制御する。
（発明の効果）
上述のように本発明の測定装置によると、荷電粒子ビー
ム断面２４のプロファイルはリアルタイムで測定可能で
あると共に、メモリーに記憶しであるので後で表示若し
くは記録させることも出来る。
ム断面２４のプロファイルはリアルタイムで測定可能で
あると共に、メモリーに記憶しであるので後で表示若し
くは記録させることも出来る。
またリアルタイムで測定可能であるので、予め設定した
ビーム断面２４のプロファイルと比較して設定値と一致
するように自動制御することも出来る。
ビーム断面２４のプロファイルと比較して設定値と一致
するように自動制御することも出来る。
第１図は本発明のビーム形状測定装置の回路ブロック図
、第２図は単一線型のビーム形状検出部の平面図、第３
図の、（イ）は単一線検出のビーム形状図、（ロ）はビ
ーム強度特性図、第４図は交叉線型のビーム形状検出部
の平面図、第５図の、（イ）は交叉線検出のビーム形状
図、（ロ）は検出ワイヤへのビーム強度特性図、（ハ）
は検出ワイヤＢのビーム強度特性図、第６図は自動制御
回路を設けたビーム形状測定装置の回路ブロック図、第
７図はサイクロトロンの縦断面図、第８図は同じく横断
面図である。 ２０：ビーム形状検出部、 ２２：検出ワイヤー、２４
：ビーム断面、 ２５：位置検出器、 ２６：Ａ／Ｄ変
換器、 ２７：メモリー、 ２９：カウンター、３０：
Ｄ／Ａ変換器、 ３１：表示装置、 ３２：クロック回
路、 ３４：検出ワイヤーＡ、 ３５：検出ワイヤーＢ
、 ３６：設定器、 ３７：比較器、 ３８：３Ｍ制
御器。 寡３詔 （イ） （ロ）
、第２図は単一線型のビーム形状検出部の平面図、第３
図の、（イ）は単一線検出のビーム形状図、（ロ）はビ
ーム強度特性図、第４図は交叉線型のビーム形状検出部
の平面図、第５図の、（イ）は交叉線検出のビーム形状
図、（ロ）は検出ワイヤへのビーム強度特性図、（ハ）
は検出ワイヤＢのビーム強度特性図、第６図は自動制御
回路を設けたビーム形状測定装置の回路ブロック図、第
７図はサイクロトロンの縦断面図、第８図は同じく横断
面図である。 ２０：ビーム形状検出部、 ２２：検出ワイヤー、２４
：ビーム断面、 ２５：位置検出器、 ２６：Ａ／Ｄ変
換器、 ２７：メモリー、 ２９：カウンター、３０：
Ｄ／Ａ変換器、 ３１：表示装置、 ３２：クロック回
路、 ３４：検出ワイヤーＡ、 ３５：検出ワイヤーＢ
、 ３６：設定器、 ３７：比較器、 ３８：３Ｍ制
御器。 寡３詔 （イ） （ロ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）サイクロトロンの荷電粒子ビームでターゲットを照
射する場合のビーム形状を測定するビーム形状測定装置
において、検出ワイヤーを張架したビーム形状検出部と
、前記検出ワイヤーの位置を検出する位置検出器と、前
記検出ワイヤーのアナログ出力電圧をデジタル信号に変
換するアナログ・デジタル変換器と、前記デジタル信号
を記憶するメモリーと、前記位置検出器の検出出力をカ
ウントして前記メモリーのアドレス信号を出力するカウ
ンターと、前記メモリーの読出しのクロック信号を出力
するクロック回路と、前記メモリーの読出したデジタル
信号をアナログ信号に変換するデジタル・アナログ変換
器と、このデジタル・アナログ変換器の出力を表示する
表示装置からなることを特徴とするビーム形状測定装置
。 ２）前記ビーム形状検出部が１本の検出ワイヤーを張架
したものである特許請求の範囲第１項記載のビーム形状
測定装置。 ３）前記ビーム形状検出部が２本の検出ワイヤーを交叉
させかつ互いに離間して張架したものである特許請求の
範囲第１項記載のビーム形状測定装置。 ４）サイクロトロンの荷電粒子ビームでターゲットを照
射する場合のビーム形状を測定するビーム形状測定装置
において、検出ワイヤーを張架したビーム形状検出部と
、前記検出ワイヤーの位置を検出する位置検出器と、前
記検出ワイヤーのアナログ出力電圧をデジタル信号に変
換するアナログ・デジタル変換器と、前記デジタル信号
を記憶するメモリーと、前記位置検出器の検出出力をカ
ウントして前記メモリーのアドレス信号を出力するカウ
ンターと、前記メモリーの読出しのクロック信号を出力
するクロック回路と、前記メモリーの読出したデジタル
信号をアナログ信号に変換するデジタル・アナログ変換
器と、このデジタル・アナログ変換器の出力を表示する
表示装置と、所要のビーム形状を設定する設定器と、こ
の設定器の設定値と前記メモリーの出力とを比較する比
較器と、この比較結果の出力により動作するステアリン
グマグネット制御器とからなることを特徴とするビーム
形状測定装置。 ５）前記ビーム形状検出部が１本の検出ワイヤーを張架
したものである特許請求の範囲第４項記載のビーム形状
測定装置。 ６）前記ビーム形状検出部が２本の検出ワイヤーを交叉
させかつ互いに離間して張架したものである特許請求の
範囲第４項記載のビーム形状測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14998986A JPS635293A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | ビ−ム形状測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14998986A JPS635293A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | ビ−ム形状測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS635293A true JPS635293A (ja) | 1988-01-11 |
Family
ID=15487030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14998986A Pending JPS635293A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | ビ−ム形状測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS635293A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63274891A (ja) * | 1987-05-07 | 1988-11-11 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電粒子装置用マルチワイヤ式モニタ |
| JPH02263191A (ja) * | 1989-04-03 | 1990-10-25 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ビーム進行方向測定装置 |
| JP2008546155A (ja) * | 2005-06-03 | 2008-12-18 | アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド | ビームストップ及びビーム調整方法 |
| CN109490943A (zh) * | 2018-12-25 | 2019-03-19 | 合肥中科离子医学技术装备有限公司 | 一种用于离子束束流流强和位置测量的交叉多丝探针 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56148081A (en) * | 1980-04-18 | 1981-11-17 | Jeol Ltd | Method for measuring beam |
| JPS6070387A (ja) * | 1983-09-28 | 1985-04-22 | Hitachi Ltd | 電子線露光装置における電子ビ−ムの寸法計測装置 |
-
1986
- 1986-06-25 JP JP14998986A patent/JPS635293A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56148081A (en) * | 1980-04-18 | 1981-11-17 | Jeol Ltd | Method for measuring beam |
| JPS6070387A (ja) * | 1983-09-28 | 1985-04-22 | Hitachi Ltd | 電子線露光装置における電子ビ−ムの寸法計測装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63274891A (ja) * | 1987-05-07 | 1988-11-11 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電粒子装置用マルチワイヤ式モニタ |
| JPH02263191A (ja) * | 1989-04-03 | 1990-10-25 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ビーム進行方向測定装置 |
| JP2008546155A (ja) * | 2005-06-03 | 2008-12-18 | アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド | ビームストップ及びビーム調整方法 |
| CN109490943A (zh) * | 2018-12-25 | 2019-03-19 | 合肥中科离子医学技术装备有限公司 | 一种用于离子束束流流强和位置测量的交叉多丝探针 |
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