JPS6355523A - 多色表示装置の製造方法 - Google Patents
多色表示装置の製造方法Info
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- JPS6355523A JPS6355523A JP61199282A JP19928286A JPS6355523A JP S6355523 A JPS6355523 A JP S6355523A JP 61199282 A JP61199282 A JP 61199282A JP 19928286 A JP19928286 A JP 19928286A JP S6355523 A JPS6355523 A JP S6355523A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
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- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はカラーフィルターと非線形抵抗素子を組み合わ
せた多色表示装置の製造方法に関し、特に非線形抵抗素
子を有する画素TL電極上カラーフィルターを形成した
多色表示装置の製造方法に関する。
せた多色表示装置の製造方法に関し、特に非線形抵抗素
子を有する画素TL電極上カラーフィルターを形成した
多色表示装置の製造方法に関する。
本発明はカラーフィルタ−と非線形抵抗素子を組み合わ
せた多色表示装置において、非線形抵抗素子と接続した
画素電極を電着用電極として高分子電着法により画素電
極上にカラーフィルターを形成した多色表示装置の製造
方法であり、従来の製造方法と比べ、画素電極とカラー
フィルターとの位置ズレがない高品質な表示装置が極め
て簡便に製造可能な多色表示装置の製造方法を提供する
ものである。
せた多色表示装置において、非線形抵抗素子と接続した
画素電極を電着用電極として高分子電着法により画素電
極上にカラーフィルターを形成した多色表示装置の製造
方法であり、従来の製造方法と比べ、画素電極とカラー
フィルターとの位置ズレがない高品質な表示装置が極め
て簡便に製造可能な多色表示装置の製造方法を提供する
ものである。
液晶表示装置の表示容量を増やす目的で、TF−Tgt
膜トシトランジスターリコン単結晶上に形成したMOS
)ランシスターなどによる3端子素子アクティブマトリ
クス液晶表示装置や、非線形抵抗素子を各液晶画素と直
列に設けた2端子素子アクティブマトリクス液晶表示装
置が脚光を浴びているが、2端子素子アクテイブマトリ
クスは3#i子素子アクテイブマトリクスと比較して形
成膜数が少なく、フォトエツチング工程数が少なく、さ
らにパターニング精度が比較的粗くて良いなどの特徴が
あり、低コストの大面積表示に適している。
膜トシトランジスターリコン単結晶上に形成したMOS
)ランシスターなどによる3端子素子アクティブマトリ
クス液晶表示装置や、非線形抵抗素子を各液晶画素と直
列に設けた2端子素子アクティブマトリクス液晶表示装
置が脚光を浴びているが、2端子素子アクテイブマトリ
クスは3#i子素子アクテイブマトリクスと比較して形
成膜数が少なく、フォトエツチング工程数が少なく、さ
らにパターニング精度が比較的粗くて良いなどの特徴が
あり、低コストの大面積表示に適している。
この2@子素子アクティブマトリクス表示装置のカラー
化のためには、第1図の如(非線形抵抗素子6と接続し
た画素電極4上に3原色(赤、緑、青色)のカラーフィ
ルター層7,8.9を形成し、液晶を光シヤツターとし
てカラーフィルターを選択的に開示することによりカラ
ー表示を行う方式が、最も簡便で且つ自由な色調を得る
ことができる。上記多色表示装置を製造する場合に問題
となるのはカラーフィルター製造工程であり、従来法と
して印刷法とフォリングラフィー法が発明されている。
化のためには、第1図の如(非線形抵抗素子6と接続し
た画素電極4上に3原色(赤、緑、青色)のカラーフィ
ルター層7,8.9を形成し、液晶を光シヤツターとし
てカラーフィルターを選択的に開示することによりカラ
ー表示を行う方式が、最も簡便で且つ自由な色調を得る
ことができる。上記多色表示装置を製造する場合に問題
となるのはカラーフィルター製造工程であり、従来法と
して印刷法とフォリングラフィー法が発明されている。
前者はオフセット印刷を利用して画素電極上に印刷でカ
ラーフィルター層を形成する方法である。その製造工程
を第2図に示す。
ラーフィルター層を形成する方法である。その製造工程
を第2図に示す。
後者は第3図の如(ゼラチン等光怒光性の樹脂を基板上
に塗布後フォトエツチングにより第1色目の部分のみ残
して染色し、以降その操作を繰り返すことによりカラー
フィルター層を形成する方法である。但し、この方法で
は既に着色された部分が次の染色工程によって2度染め
されないように防染工程を入れる必要がある。
に塗布後フォトエツチングにより第1色目の部分のみ残
して染色し、以降その操作を繰り返すことによりカラー
フィルター層を形成する方法である。但し、この方法で
は既に着色された部分が次の染色工程によって2度染め
されないように防染工程を入れる必要がある。
上記従来のカラーフィルター製造工程は、それぞれ次の
問題点を有している。
問題点を有している。
すなわち印刷法は、微細な六ターンでの位置精度が悪く
画素T:、極4との位置ズレが生じてしまい、表示品質
を低下させてしまう。また、充分な色調を有するカラー
フィルターを得るためには膜厚が3ミクロン以上必要な
ため、画素電極上に高抵抗の!@ 1m膜を形成するこ
とになってしまい、駆動電圧を高くしないと表示されな
いという欠点を有する。一方フオドリソグラフィー法は
、位置精度も高く、カラーフィルター〇膜厚も1.0〜
1.5 ミクロンで充分な色調を呈することが可能だが
、第3図の如く工程が複雑であり、カラーフィルターの
コストがかなり高くなってしまう。
画素T:、極4との位置ズレが生じてしまい、表示品質
を低下させてしまう。また、充分な色調を有するカラー
フィルターを得るためには膜厚が3ミクロン以上必要な
ため、画素電極上に高抵抗の!@ 1m膜を形成するこ
とになってしまい、駆動電圧を高くしないと表示されな
いという欠点を有する。一方フオドリソグラフィー法は
、位置精度も高く、カラーフィルター〇膜厚も1.0〜
1.5 ミクロンで充分な色調を呈することが可能だが
、第3図の如く工程が複雑であり、カラーフィルターの
コストがかなり高くなってしまう。
本発明は、上記問題点を解決し、位置精度が高り、′p
i膜で充分で色調を得ることができ、製造工程が単純で
ローコスト化が可能なカラーフィルター製造工程を持つ
多色表示装置の製造方法を提供するものである。
i膜で充分で色調を得ることができ、製造工程が単純で
ローコスト化が可能なカラーフィルター製造工程を持つ
多色表示装置の製造方法を提供するものである。
本発明者とは既にXY単純マトリクス液晶表示装置用カ
ラーフィルターの製造方法として高分子電着法を発明し
た(特開昭59−114572号公報)、これは透明電
極を’C着用電極として透明電極上にTL着によりカラ
ーフィルターを形成する方法であり、簡便な工程で高品
質なカラーフィルターを製造することができる。
ラーフィルターの製造方法として高分子電着法を発明し
た(特開昭59−114572号公報)、これは透明電
極を’C着用電極として透明電極上にTL着によりカラ
ーフィルターを形成する方法であり、簡便な工程で高品
質なカラーフィルターを製造することができる。
今回本発明者らは、非線形抵抗素子と介して電着を行っ
た場合にも従来と同様高品質なカラーフィルターが形成
可能、な事を見出した。すなわち、第1図の信号入力用
電極5に通電して電着することにより、非線形抵抗素子
6を介して画素電極4上にカラーフィルターN7を形成
することができ、信号入力用電極を選択して、異なる色
の電着塗料での電着を繰り返せば、複数の例えば赤、緑
、青色のカラーフィルターが容易に形成される。従って
本発明によれば、画素電極とカラーフィルターとの位置
ズレは全くな(、また製造工程も極めて簡便であり、高
品質で安価で多色表示装置を提供することが可能となる
。
た場合にも従来と同様高品質なカラーフィルターが形成
可能、な事を見出した。すなわち、第1図の信号入力用
電極5に通電して電着することにより、非線形抵抗素子
6を介して画素電極4上にカラーフィルターN7を形成
することができ、信号入力用電極を選択して、異なる色
の電着塗料での電着を繰り返せば、複数の例えば赤、緑
、青色のカラーフィルターが容易に形成される。従って
本発明によれば、画素電極とカラーフィルターとの位置
ズレは全くな(、また製造工程も極めて簡便であり、高
品質で安価で多色表示装置を提供することが可能となる
。
高分子電着法によるカラーフィルター層の形成は、水溶
性高分子が電気化学的に不溶化し、電極上に析出してく
る現象を応用したものである。用いる高分子の種類によ
ってアニオン型(高分子材料に親水性基としてカルボキ
シル基を導入)とカチオン型(アミノ基を導入)があり
、例えばアニオン型の電極表面への不溶性高分子膜の析
出の反応を第5図に示す。この高分子水溶液中に色素を
分散させておけ゛ば、着色膜(カラーフィルター)が形
成される。従って第5図の反応が生じるだけの電気量を
流してやれば、電着によってカラーフィルター層が形成
できる。
性高分子が電気化学的に不溶化し、電極上に析出してく
る現象を応用したものである。用いる高分子の種類によ
ってアニオン型(高分子材料に親水性基としてカルボキ
シル基を導入)とカチオン型(アミノ基を導入)があり
、例えばアニオン型の電極表面への不溶性高分子膜の析
出の反応を第5図に示す。この高分子水溶液中に色素を
分散させておけ゛ば、着色膜(カラーフィルター)が形
成される。従って第5図の反応が生じるだけの電気量を
流してやれば、電着によってカラーフィルター層が形成
できる。
一方非線形抵抗素子の電圧−電流特性の1例を第6図に
示す。すなわちこの場合には12V以上の電圧を印加す
ることにより充分な電流を流すことができる。
示す。すなわちこの場合には12V以上の電圧を印加す
ることにより充分な電流を流すことができる。
従って、第1図の信号入力電極5に非線形抵抗素子6の
闇値電圧以上の充分な電圧を印加することにより、画素
電極4に充分な電気量を流すことができ、電着により画
素電極4上へのカラーフィルターの形成が可能となる。
闇値電圧以上の充分な電圧を印加することにより、画素
電極4に充分な電気量を流すことができ、電着により画
素電極4上へのカラーフィルターの形成が可能となる。
これは非線形抵抗素子を用いた2端子素子アクティブマ
トリクス液晶表示装置であれば下記のどの方式でも同様
の理由により適用可能である。
トリクス液晶表示装置であれば下記のどの方式でも同様
の理由により適用可能である。
■バリスタ一方式
■金属−絶縁膜−金属(MIM)方式
■ダイオード方式
以下実施例を用いて本発明によるカラーフィルターを用
いた多色表示装置の製造方法について具体的に説明する
。
いた多色表示装置の製造方法について具体的に説明する
。
〔実施例1〕
■ 非線形抵抗素子基板の製造
第1図の如く、ガラス基板1上に酸化スズ、酸化インジ
ウム等からなる透明電極4が形成される。
ウム等からなる透明電極4が形成される。
次いでT。○、よりなる非線形抵抗素子6、その上にT
、よりなる信号入力用電極5が形成される。
、よりなる信号入力用電極5が形成される。
このとき信号入力用電極5の端子は第4図ta+の如く
該電極と接続する画素電極上に形成するカラーフィルタ
ーの色に対応して長さを異ならせる。
該電極と接続する画素電極上に形成するカラーフィルタ
ーの色に対応して長さを異ならせる。
■ 電着工程
下記組成のアニオン型電着浴を作製する。
非線形抵抗素子基板を第4図Tolの如く導電剤12で
1色目に電着すべき端子を短絡させて、上記浴に浸漬し
、非線形抵抗素子基板を陽極として導電剤12より給電
を行う。このときの印加電圧は40Vとし、非線形抵抗
素子を介さない通常の電着より10V高(した。
1色目に電着すべき端子を短絡させて、上記浴に浸漬し
、非線形抵抗素子基板を陽極として導電剤12より給電
を行う。このときの印加電圧は40Vとし、非線形抵抗
素子を介さない通常の電着より10V高(した。
基板を引き上げ、水洗を行う。
■ 硬化工程
電着により形成したカラーフィルターN7中のポリエス
テル樹脂とメラミン樹脂を焼付けにより縮合反応を行わ
せ硬化させる。焼付けは空気中175℃で30分行えば
、カラーフィルター層は完全に硬化し、第4図中)の如
き基板が得られる。
テル樹脂とメラミン樹脂を焼付けにより縮合反応を行わ
せ硬化させる。焼付けは空気中175℃で30分行えば
、カラーフィルター層は完全に硬化し、第4図中)の如
き基板が得られる。
硬化したカラーフィルター層は完全な絶縁膜になってお
り、再び電着浴中に浸漬、通電しても再電着は起こらな
い。従って2色目、3色目は顔料を緑色、青色に変えた
電着浴を用い、第4図(C)。
り、再び電着浴中に浸漬、通電しても再電着は起こらな
い。従って2色目、3色目は顔料を緑色、青色に変えた
電着浴を用い、第4図(C)。
fdlの如く導電剤13.14によって短絡させて電着
、硬化を繰り返すことにより、第4図fd)の如く画素
電極上に赤色、緑色、青色カラーフィルター層7゜8.
9を形成することができる。
、硬化を繰り返すことにより、第4図fd)の如く画素
電極上に赤色、緑色、青色カラーフィルター層7゜8.
9を形成することができる。
なお、緑色、青色電着浴で電着時の電着電圧は非線形抵
抗素子を介さない通常の電着よりIOV高(した。この
ことにより、カラーフィルター層7゜8.9は膜厚1.
5μmの均一な膜になった。
抗素子を介さない通常の電着よりIOV高(した。この
ことにより、カラーフィルター層7゜8.9は膜厚1.
5μmの均一な膜になった。
次いで、第1図の透明電極2を有する対向基板1と、上
記カラーフィルターを形成した非線形抵抗素子から第1
図の如く多色表示装置を作製したところ、画素電極とカ
ラーフィルターの位置ズレがないため表示品位の高い、
充分な色調を有する多色表示装置が得られた。
記カラーフィルターを形成した非線形抵抗素子から第1
図の如く多色表示装置を作製したところ、画素電極とカ
ラーフィルターの位置ズレがないため表示品位の高い、
充分な色調を有する多色表示装置が得られた。
〔実施例2〕
実施例1における電着浴を下記組成のカチオン型電着浴
とした。
とした。
非線形抵抗素子基板を陰極として、電着電圧を非線形抵
抗素子を介さない通常の電着よりIOV高くして、実施
例1と同様に電着、硬化を行い、多色表示装置を作製し
たところ、実施例1と同様の効果が得られた。
抗素子を介さない通常の電着よりIOV高くして、実施
例1と同様に電着、硬化を行い、多色表示装置を作製し
たところ、実施例1と同様の効果が得られた。
〔実施例3〕
実施例1における非線形抵抗素子6をシランガスアンモ
ニアガス、窒素ガス等の混合ガスによるプラズマCvD
法によるシリコン窒化膜とし、信号入力用電極5をC,
、A、とした、以下実施例1と同様に多色表示装置を作
製したところ、実施例1に比べI12厚均−性がさらに
高(、表示品位の向上した多色表示装置が得られた。こ
れは非線形抵抗素子の安定性がTa1lsより高いため
と思われる。シリコンを主成分とするアモルファス材料
であれば、アモルファスシリコン、シリコン酸化膜、シ
リコン窒化膜、シリコン窒化酸化膜のいずれでも同様な
効果が得られた。
ニアガス、窒素ガス等の混合ガスによるプラズマCvD
法によるシリコン窒化膜とし、信号入力用電極5をC,
、A、とした、以下実施例1と同様に多色表示装置を作
製したところ、実施例1に比べI12厚均−性がさらに
高(、表示品位の向上した多色表示装置が得られた。こ
れは非線形抵抗素子の安定性がTa1lsより高いため
と思われる。シリコンを主成分とするアモルファス材料
であれば、アモルファスシリコン、シリコン酸化膜、シ
リコン窒化膜、シリコン窒化酸化膜のいずれでも同様な
効果が得られた。
〔実施例4〕
実施例1. 3の非線形抵抗素子基板の構造の場合は、
信号入力用電極を電着用給電端子として用いるため、該
電極上にもカラーフィルター層が形成されてしまう、し
かも非線形抵抗素子を介さない電着になるため、形成さ
れるカラーフィルター層の膜厚は画素電極上のカラーフ
ィルター層より厚くなってしまい、多色表示装置を作製
する場合の液晶の配向処理、基板間のギャップ制御に困
難をきたす可能性が生じる。
信号入力用電極を電着用給電端子として用いるため、該
電極上にもカラーフィルター層が形成されてしまう、し
かも非線形抵抗素子を介さない電着になるため、形成さ
れるカラーフィルター層の膜厚は画素電極上のカラーフ
ィルター層より厚くなってしまい、多色表示装置を作製
する場合の液晶の配向処理、基板間のギャップ制御に困
難をきたす可能性が生じる。
上記問題解決のために、第7図の如く信号入力用電極5
にsiog絶縁IPJ15を形成した。その結果カラー
フィルター層は画素電極4上にのみ形成され、上記問題
を除去することができた。
にsiog絶縁IPJ15を形成した。その結果カラー
フィルター層は画素電極4上にのみ形成され、上記問題
を除去することができた。
絶8!膜としては、5(Nx 、Aj!gos、PSG
等無機化合物でも、PH、シリコン化合物等、有機化合
物でも同様な効果が得られた。
等無機化合物でも、PH、シリコン化合物等、有機化合
物でも同様な効果が得られた。
以上実施例で具体的に示したように、本発明による多色
表示装置の製造方法は極めて簡便であり、多色化のため
の複数色のカラーフィルターの製造において防染等の特
別な手段を用いる必要がない。
表示装置の製造方法は極めて簡便であり、多色化のため
の複数色のカラーフィルターの製造において防染等の特
別な手段を用いる必要がない。
また、そのカラーフィルターは堅牢で、画素電極との位
置ズレのないものであり、高い表示品位と信頼性を実現
できるものである。しかも信号入力用電極を電着用給電
端子として使用でき、電着のために非線形抵抗素子基板
の構造を変更する必要がない。
置ズレのないものであり、高い表示品位と信頼性を実現
できるものである。しかも信号入力用電極を電着用給電
端子として使用でき、電着のために非線形抵抗素子基板
の構造を変更する必要がない。
第1図は非線形抵抗素子を用いた多色液晶表示装置の縦
断面図、第2図(a)〜(dl及び第3図ial〜(「
)は従来の多色表示装置用カラーフィルター製造工程を
説明するための工程図と各工程での非線形抵抗素子基板
の状態を示す縦断面図である。第4図+alおよび(b
)〜(d)は本発明によるカラーフィルター製造工程図
と各工程での非線形抵抗素子基板の状態を示す上面図で
ある。第5図は、本発明に用いた高分子電着法の1実施
例であるアニオン型電着の原理図、第6図は本発明を説
明するための非線形抵抗素子の電圧−電流特性図である
。また、第7図は本発明の他の実施例の非線形抵抗素子
基板の縦断面図である。 1・・・透明基板 2・・・透明電極3・・・液
晶 4・・・画素電極5・・・信号入力用電
極 6・・・非線形抵抗素子 ?、8.9・・・カラーフィルター層 10・・・感光性樹脂 11・・・防染膜12、1
3.14・・・導電剤 15 ・・・絶縁膜以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 冷色液&表ホ[、l/)、暇爵面図 第1[2I (a> E口刷渚によるかラーフィルター製造xJl洸哨図フォ
トリソブウフィーシ六(Cよるカフーフィルター製造工
V!説チ■口第 3I¥1 第4図 第5図 第6ffl] 本発明の把の実施イ列の1腺藺抗素子基板の叔直面図第
7図
断面図、第2図(a)〜(dl及び第3図ial〜(「
)は従来の多色表示装置用カラーフィルター製造工程を
説明するための工程図と各工程での非線形抵抗素子基板
の状態を示す縦断面図である。第4図+alおよび(b
)〜(d)は本発明によるカラーフィルター製造工程図
と各工程での非線形抵抗素子基板の状態を示す上面図で
ある。第5図は、本発明に用いた高分子電着法の1実施
例であるアニオン型電着の原理図、第6図は本発明を説
明するための非線形抵抗素子の電圧−電流特性図である
。また、第7図は本発明の他の実施例の非線形抵抗素子
基板の縦断面図である。 1・・・透明基板 2・・・透明電極3・・・液
晶 4・・・画素電極5・・・信号入力用電
極 6・・・非線形抵抗素子 ?、8.9・・・カラーフィルター層 10・・・感光性樹脂 11・・・防染膜12、1
3.14・・・導電剤 15 ・・・絶縁膜以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 冷色液&表ホ[、l/)、暇爵面図 第1[2I (a> E口刷渚によるかラーフィルター製造xJl洸哨図フォ
トリソブウフィーシ六(Cよるカフーフィルター製造工
V!説チ■口第 3I¥1 第4図 第5図 第6ffl] 本発明の把の実施イ列の1腺藺抗素子基板の叔直面図第
7図
Claims (5)
- (1)カラーフィルターと非線形抵抗素子を組み合わせ
た多色表示装置の製造方法において、非線形抵抗素子と
接続された画素電極を電着用電極として高分子電極法に
より選択的に着色層を形成し、以後その操作を繰り返す
ことによってカラーフィルターを形成することを特徴と
する多色表示装置の製造方法。 - (2)前記非線形抵抗素子への信号入力用電極を電着用
給電端子として用いたことを特徴とする特許請求範囲の
第1項記載の多色表示装置の製造方法。 - (3)前記信号入力用電極の端子部の長さが、該信号入
力用電極と接続する画素電極上に形成するカラーフィル
ターの色に対応して異なっていることを特徴とする特許
請求の範囲第2項記載の多色表示装置の製造方法。 - (4)前記信号入力用電極上に絶縁膜を形成したことを
特徴とする特許請求の範囲第2項記載の多色表示装置の
製造方法。 - (5)前記非線形抵抗素子が、シリコンを主な成分とす
るアモルファス材料からなることを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の多色表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61199282A JPS6355523A (ja) | 1986-08-26 | 1986-08-26 | 多色表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61199282A JPS6355523A (ja) | 1986-08-26 | 1986-08-26 | 多色表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6355523A true JPS6355523A (ja) | 1988-03-10 |
Family
ID=16405201
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61199282A Pending JPS6355523A (ja) | 1986-08-26 | 1986-08-26 | 多色表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6355523A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02144501A (ja) * | 1988-11-26 | 1990-06-04 | Seiko Epson Corp | カラーフィルターの製造方法 |
| JP2010015183A (ja) * | 1999-02-15 | 2010-01-21 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
-
1986
- 1986-08-26 JP JP61199282A patent/JPS6355523A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02144501A (ja) * | 1988-11-26 | 1990-06-04 | Seiko Epson Corp | カラーフィルターの製造方法 |
| JP2010015183A (ja) * | 1999-02-15 | 2010-01-21 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
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