JPS6356221B2 - - Google Patents

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JPS6356221B2
JPS6356221B2 JP54063743A JP6374379A JPS6356221B2 JP S6356221 B2 JPS6356221 B2 JP S6356221B2 JP 54063743 A JP54063743 A JP 54063743A JP 6374379 A JP6374379 A JP 6374379A JP S6356221 B2 JPS6356221 B2 JP S6356221B2
Authority
JP
Japan
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group
formula
benzophenone
mixture
phenyl group
Prior art date
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Expired
Application number
JP54063743A
Other languages
English (en)
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JPS54154744A (en
Inventor
Kiruhimeiru Rudorufu
Fuerudaa Roisu
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Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
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Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Geigy AG filed Critical Ciba Geigy AG
Publication of JPS54154744A publication Critical patent/JPS54154744A/ja
Publication of JPS6356221B2 publication Critical patent/JPS6356221B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D333/04Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
    • C07D333/06Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D333/22Radicals substituted by doubly bound hetero atoms, or by two hetero atoms other than halogen singly bound to the same carbon atom

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は、゚チレン性䞍飜和化合物の光重合甚
又はポリオレフむンの光化孊架橋甚ずしおのメル
カプトプニルケトン及び有機アミンから成る、
新芏開始剀組成物に関する。 ゚チレン性䞍飜和化合物の光重合は、ベンゟフ
゚ノン、アントラキノン、キサントン又はチオキ
サントン型の芳銙族ケトンによ぀お開始され埗る
こずは公知である。アメリカ合衆囜特蚱第
3759807号から、䞊蚘芳銙族ケトンの開始剀䜜甚
が有機アミンの添加により促進され埗るこずも公
知である。これらのアミンは通垞単独では開始剀
の䜜甚を持たないため、芳銙族ケトンず共同し
お、掻性剀又は促進剀ずしお䜜甚する。光化孊的
に硬化される塗料又は印刷糊の補造速床は、特に
䞍飜和化合物の重合速床に䟝存するので、䞊蚘事
実は工業的に非垞に重芁である。チオ゚ヌテル基
を含有する芳銙族ケトン及び有機アミンの混合物
が、ドむツ公開公報第2602419号に光開始剀ずし
お開瀺されおいる。該混合物は公知混合物よりも
有利な点がある。すなわち、䟋えば、クロルチオ
キサントン及び有機アミンの混合物ず比范する
ず、黄色化傟向が少ないずいう特城を有する。前
蚘特蚱明现曞のチオ゚ヌテル―ケトンは、䞀般
匏 匏䞭、 R4は、芳銙族又は耇玠環匏基を衚わし、R1及
びR2は氎玠原子又は䞀䟡の眮換基を衚わし、
は、アルキレン基を衚わし、及びR3は、氎玠原
子、アリヌル基、ベンゟむル基、ハロゲン原子、
アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
ルコキシアルキル基、アルカリヌル基、アルアル
キル基、NO2CNCOOH又はCOO―アルキル
基を衚わす。 で衚わされる。 本発明者等は、公知混合物ず比范しおある皮の
利点を有する芳銙族チオ゚ヌテルケトン及び有機
アミンの新芏混合物を芋出した。その利点ずは、
より高い重合率、癜色顔料の塗料の堎合に黄色化
傟向が小さいこず、基質䞭に良奜に溶解するこず
たたは保存安定性が増加したこず等である。 埓぀お本発明は、  次匏 匏䞭、 Arはプニル基、チ゚ニル基を衚わすかた
たは個もしくは個の炭玠原子数ないし
のアルキル基、メトキシ基もしくはプノキシ
基により眮換されたプニル基を衚わし、そし
お は―CH2OH―CHOH―CH2OH―
CH2O―CO―R5たたは―CH2NCH32匏䞭、
R5はメチル基、ビニル基たたはプニル基を
衚わす。で衚わされる基を衚わす。 および  ゚チレン性䞍飜和化合物の光重合開始剀たた
はポリオレフむンの光化孊架橋開始剀ずしおの
有機アミン ずの混合物の甚途に関する。 䞊蚘匏䞭、Arはメチル基、゚チル基、む゜
プロピル基、メトキシ基又はプノキシ基等の眮
換基で眮換されおもよいプニル基でありうる。 Arはチ゚ニル基の様な耇玠環匏芳銙族基でも
ありうる。 プニル栞䞊の―SCH2X基の䜍眮は䞍定であ
り、䜿甚する合成法によ぀お定たる。奜たしく
は、―SCH2X基はカルボニル基に察しお䜍に
存圚する。硫黄原子䞊に存圚する―CH2X基は、
氎酞基、゚ステル基又はアミノ基の少なくずも䞀
皮で眮換された脂肪族基である。アリヌレン基
R9は䟋えば、―プニレン基、―プニレ
ン基たたは―ナフチレン基でありうる。 䜿甚する有機アミンは脂肪族、芳銙族、芳銙脂
肪族、脂環匏たたは耇玠環匏アミンでありうる。
これらは第䞀、第二たたは第䞉アミンでありうる
が、第䞉アミンが奜たしい。䟋ずしお、ブチルア
ミン、ゞブチルアミン、トリブチルアミン、シク
ロヘキシルアミン、ベンゞルゞメチルアミン、ゞ
―シクロヘキシルアミン、トリ゚タノヌルアミ
ン、―メチルゞ゚タノヌルアミン、プニル―
ゞ゚タノヌルアミン、ピペリゞン、ピペラゞン、
モルホリン、ピリゞン、キノリン、゚チル―ゞ
メチルアミノベンゟ゚ヌト、ブチル―ゞメチル
アミノベンゟ゚ヌト、ミヒラヌケトン4′―
ビス―ゞメチルアミノベンゟプノンたたは
4′―ビス―ゞ゚チルアミノ―ベンゟプノン
があげられる。 奜たしい混合物は、  匏においお、Arがプニル基、―チ゚
ニル基又は炭玠原子数ないしのアルキル
基、メトキシ基もしくはプノキシ基で眮換さ
れたプニル基を衚わし、が次匏―
CH2OH―CHOH―CH2OH―CH2―
CH32又は―CH2O―CO―R5匏䞭、R5はメ
チル基、ビニル基たたはプニル基を衚わす。
で衚わされる基の぀を衚わすメルカブトプ
ニルケトン誘導䜓および  脂肪族第䞉アミン、アルキル―ゞメチルア
ミノベンゟ゚ヌトたたはミヒラ―ケトンよりな
る混合物である。 脂肪族第䞉アミンの䟋は、トリメチルアミン、
トリ゚チルアミン、トリむ゜プロピルアミン、ト
リブチルアミン、ドデシルゞメチルアミン、オク
チルゞメチルアミン、トリ゚タノヌルアミン、ト
リス―ヒドロキシプロピル―アミン、―メ
チル―ゞ゚タノヌルアミンたたは―ブチル―ゞ
゚タノヌルアミンである。 匏で衚わされる化合物の䟋ずしおは、―
―ヒドロキシ゚チル―メルカプト―ベンゟ
プノン、――アセトキシ゚チルメルカプ
ト―ベンゟプノン、――ベンゟむルオ
キシ゚チル―メルカプト―ベンゟプノン、
――アクリロむルオキシ゚チル―メルカプ
ト―ベンゟプノン、――ゞメチルアミ
ノ゚チル―メルカプト―ベンゟプノン、―
―ヒドロキシ゚チル―メルカプト―4′―メ
チル―ベンゟプノン、――ヒドロキシ゚
チル―メルカプト―4′―メトキシ―ベンゟプ
ノン、――ヒドロキシ゚チル―メルカプ
ト―4′―プノキシ―ベンゟプノン、―
―ゞヒドロキシプロピル―メルカプト
―ベンゟプノン、等がある。 匏で衚わされる化合物は新芏化合物である。
これらは皮々の方法で補造しうる。 䟋えば、匏 で衚わされるメルカプトプニルケトンたたはそ
のアルカリ金属塩をを次匏 Hal―CH2―匏䞭、Halは塩玠原子、臭玠原
子たたは沃玠原子を衚わし、は前蚘匏で䞎え
られた意味を衚わす。 で衚わされるハロゲン化アルキル化合物ず反応さ
せるこずができる。 しかしながら匏で衚わされる化合物を゚ポキ
シたたはグリシゞル゚ヌテルず反応させるこずも
でき、その堎合は匏で衚わされる化合物は、
が―CH2OH基たたは―CHOHCH2OH基を衚
わす化合物ずしお埗られる。これらの化合物を垞
甚のアシル化剀、䟋えばカルボン酞塩化物たたは
カルボン酞無氎物、ず反応させるこずにより、匏
で衚わされる化合物は、が―CH2O―CO―
R5基たたは―CHR2―OOC―R7―COO―CH
R2―基を衚わす化合物ずしお埗られる。 さらに匏で衚わされる化合物を゚ピクロロヒ
ドリンず反応させ、生じたクロロヒドリンをアル
カリ氎溶液を䜿甚しお、が―CHOH
CH2OH基を衚わす匏で衚わされる化合物に倉
えるこずもできる。 匏で衚わされる化合物補造の二番目に重芁な
方法は、次匏 匏䞭、Halは前蚘の意味を衚わす。で衚わ
される芳銙族ハロゲン化ケトンを出発物質ずしお
䜿甚し、これを次匏 HS―CH2X匏䞭、は前蚘の意味を衚わす。 で衚わされるメルカプトたたはそのアルカリ金属
化合物ず反応させる。この目的のためには次匏
HS―CH2CHR2―OH匏䞭、R2は氎玠原子た
たは―CH2OH基を衚わす。で衚わされるヒド
ロキシアルキルメルカプタンが特に適する。それ
により埗られる、匏においおが―CH2R2
OH基を衚わすヒドロキシ化合物は、次の反応段
階で垞法により䞀䟡たたは二䟡のアシル化剀たた
はむ゜シアネヌトず反応させるこずができる。 さらに別の補造法は、すでに――CH2X基を
有する成分ずのフリヌデルクラフト反応であり、
すなわち、䟋えば、次匏Ar―COCl匏䞭、Ar
は前蚘の意味を衚わす。で衚わされる酞クロラ
むドず次匏 匏䞭、は前蚘の意味を衚わす。で衚わさ
れる化合物ずの塩化アルミニりムの存圚䞋での反
応である。 本発明の混合物は匏で衚わされる化合物およ
じ有機アミンをないしの重量比で含
有する。 本発明によれば、混合物ぱチレン性䞍飜和化
合物たたはそれを含有する組成物の光重合開始剀
ずしお䜿甚される。 この型の光重合性化合物は䟋えば䞍飜和モノマ
ヌ䟋えば、メチルアクリレヌト、゚チルアクリレ
ヌト、―たたは第䞉ブチルアクリレヌト、む゜
オクチルアクリレヌト、ヒドロキシ゚チルアクリ
レヌト、メチルメタアクリレヌト、゚チルメタア
クリレヌト、゚チレンゞアクリレヌト、ブタンゞ
オヌルアクリレヌト、ヘキサンゞオヌルゞアクリ
レヌト、ネオペンチルゞアクリレヌト、トリメチ
ロヌルプロパントリスアクリレヌト、ペンタ゚リ
トリトヌルテトラアクリレヌト、たたはペンタ゚
リトリトヌルトリスアクリレヌト等のアクリル酞
たたはメタアクリル酞゚ステルアクリロニトリ
ル、メタアクリロニトリル、アクリルアミド、メ
タアクリルアミド、および―眮換メタ―ア
クリルアミド酢酞ビニル、プロピオン酞ビニ
ル、アクリル酞ビニル、コハク酞ビニル等のビニ
ル゚ステルその他のビニル化合物、䟋えばビニ
ル゚ヌテル、ビニルケトン、ビニルスルホン、ス
チレン、アルキルスチレン、ハロゲン化スチレ
ン、ゞビニルベンれン、N′―ゞビニルりレ
ア、ビニルナフタレン、―ビニルピロリドン、
塩化ビニルたたは塩化ビニリデンアリル化合
物、䟋えばゞアリルフタレヌト、ゞアリルマレ゚
ヌト、トリアリルむ゜シアヌレヌト、トリアリル
ホスプヌトたたぱチレングリコヌルゞアリル
゚ヌテルおよびこれら䞍飜和モノマヌの混合物で
ある。さらに別の光重合性化合物は、䞍飜和オリ
ゎマヌたたは䞍飜和ポリマヌたたはそれらず䞍飜
和モノマヌずの混合物である。これらは䟋えば、
フタル酞およびマレむン酞たたはフマル酞ず゚チ
レングリコヌル、プロピレングリコヌル、ブタン
ゞオヌルたたはネオペンチルグリコヌル等のゞオ
ヌルずから補造した䞍飜和ポリ゚ステルおよびそ
れらずスチレンずの混合物である。 さらに別の䟋は、䞍飜和アクリル暹脂である。
これらは䟋えば、ポリ゚ポキシ゚ポキシ暹脂
ずアクリル酞たたはメタアクリル酞ずの反応生成
物たたはポリむ゜シアネヌトずヒドロキシアルキ
ルアクリレヌトずの反応生成物およびたた氎酞基
を有するポリ゚ステルたたはポリ゚ヌテルずアク
リル酞たたはメタアクリル酞ずの反応生成物を含
む。これらの䞍飜和アクリル暹脂は倚くの堎合、
䟋えば゚チルアクリレヌト、ブチルアクリレヌ
ト、ベンゞルアクリレヌト、―゚チルヘキシル
アクリレヌトたたは―ヒドロキシプロピルアク
リレヌト、゚チレングリコヌルアクリレヌト、プ
ロピレングリコヌルゞアクリレヌト、ブタンゞオ
ヌルアクリレヌト、ヘキサメチレンゞアクリレヌ
ト、トリメチロヌルプロパントリスアクリレヌ
ト、たたはペンタ゚リトリトヌルテトラアクリレ
ヌト等のモノ―ゞ―たたはポリアルコヌルのア
クリレヌトの皮たたはそれ以䞊ずの混合物ずし
お䜿甚する。 皮々の目的に䜿甚される光重合性組成物は、通
垞光重合性化合物および光開始剀の他に他の倚く
の添加物を含有する。埓぀お、特に成分を混合し
お組成物を補造する際に早期重合を防止する目的
で熱反応抑制剀を加えるこずはしばしば垞套手段
ずしおされおいる。この目的に䜿甚する物質は䟋
えばヒドロキノン、ヒドロキノン誘導䜓、―メ
トキシプノヌルたたはβ―ナフトヌルである。
さらにたた䟋えばベンゟトリアゟヌルたたはベン
ゟプノン型のUV吞収剀を少量加えおもよい。 光重合性組成物は䜿甚甚途によ぀おはシリカ、
タルク、石膏等の充填剀、顔料、染料、チキ゜ト
ロピヌ性を付䞎する物質たたはシリコンオむルの
様な流れ調敎剀をも含有する。光重合性組成物は
少量の溶媒を含んでも良い。。 さらに光分解によ぀お遊離ラゞカルを圢成する
公知の光開始剀、䟋えばベンゟむン゚ヌテル、ゞ
アルコキシアセトプノンたたはベンゞルケタヌ
ルずの䜵甚もたた可胜である。 本発明の開始剀混合物は、固着剀の也燥時間
は、印刷物の生産速床の決定因子であり䜕分の
秒かの単䜍でなければならないので、印刷むンキ
の光硬化にず぀お特に有甚である。 本発明の開始剀は、印刷版補造のための光硬化
性組成物ずしおも非垞に適する。 さらに別の応甚分野は金属甚塗垃剀、䟋えばチ
ナヌブ甚、カン甚たたは壜のクロヌゞダヌ甚の金
属シヌトに塗垃したラツカヌの玫倖線硬化さらに
プラスチツク甚塗垃剀、䟋えばPVCをベヌスず
する床たたは壁の衚面被芆の玫倖線硬化である。 玙甚塗垃剀の玫倖線硬化の䟋は、ラベル、レコ
ヌドのゞダケツトたたは本のカバヌの透明ラツカ
ヌの玫倖線硬化である。 本発明の混合物は、ポリオレフむンの光化孊的
架橋開始剀ずしおも䜿甚できる。このようなポリ
オレフむンは、䟋えばポリプロピレン、ポリブデ
ン、ポリむ゜ブチレン、さらにはコポリマヌ䟋え
ば゚チレンプロピレンコポリマヌであるが奜た
しくは䜎、䞭たたは高密床ポリ゚チレンである。 䞊蚘の各皮応甚分野に䜿甚するため、本発明の
開始剀混合物は、光重合性たたは架橋性組成物を
基準にしお0.5ないし20重量、奜たしくは玄
ないし重量で䜿甚するず郜合がよい。ここに
いう組成物ずは光重合性たたは架橋性化合物、光
開始剀および倫々の目的に応じお䜿甚する他の充
填剀および添加剀よりなる混合物を意味する。 光重合性組成物の倧郚分は液状であるかたたは
容易に溶解するので該組成物ぞの光開始剀の添加
は、通垞単に撹拌混合するだけで行うこずができ
る。通垞本発明の開始剀は溶解し、そのため均䞀
な分散およびポリマヌの透明性が埗られる。 重合は短波長の光線に富んだ光を照射する公知
の光重合法により行なう。適圓な光源は、䟋えば
䞭圧、高圧および䜎圧氎銀ランプおよびたた最倧
照射域が250ないし400Όの超化孊線螢光ランプで
ある。 ポリオレフむンの光化孊的架橋のためには、光
開始剀を成圢前たたは成圢䞭に、䟋えば粉末状で
混合するかたたは可塑状ポリオレフむンず混合す
るこずによりポリオレフむン䞭に添加する。架橋
は成圢品を固䜓状䟋えば膜状たたは繊維状にしお
照射するこずにより行なう。 以䞋の実斜䟋により、匏で衚わされる化合物
の補造及び有機アミンを䌎な぀た該混合物の光開
始剀ずしおの䜿甚に぀いお詳现に説明する。郚及
びは重量に基ずく。枩床は℃で䞎えられる。 実斜䟋  ――ヒドロキシ゚チル―メルカプト―
ベンゟプノン  トル゚ン200ml䞭の―メルカプト゚タノヌ
ル17.20.225モル及びKOH85玔床15
0.225モルを、氎分離噚のもず窒玠雰囲
気䞭で1/2時間還流する。分離した氎は捚お
る。トル゚ンを留去する。―クロルベンゟフ
゚ノン48.80.225モル及びゞメチルアセ
トアミド150mlを固化したカリりム塩に添加す
る。混合物を100℃で時間撹拌する。反応混
合物を氎に泚入しお酢酞で䞭和する。生成物を
゚ヌテル䞭に抜出する。゚ヌテル局を氎で掗浄
し、Na2SO4で也燥しお濃瞮する。埗られた生
成物をヘキサンずずもに煮沞し、結晶を集め
る。収率4476。融点49―52℃。 C15H14O2S258.34 蚈算倀C69.74 H5.46 S12.41 実枬倀C69.9 H5.8 S12.7   ―クロルベンゟプノン11.20.05モ
ル、―メルカプト゚タノヌル4.30.055
モル、焌いたK2CO313.80.1モル及び゚
チルメチルケトン15mlを窒玠雰囲気䞭で16時間
還流䞋加枩する。氎50mlを冷华した反応混
合物に泚入し、生じた混合物をHClで酞性化す
る。生成物を゚ヌテル䞭に抜出する。゚ヌテル
局を氎で掗浄し、Na2SO4で也燥しお濃瞮す
る。生成物はこの堎合も油状物ずしお埗られ、
攟眮するず結晶化する。で述べたようにヘ
キサン䞭で煮沞する。収率10.177。
融点49―51℃。 実斜䟋 ― ――ヒドロキシ゚チル―メルカプト―
ベンゟプノンの゚ステル化の䞀般的な方法 ゚ステル化は各々の堎合、ゞむ゜プロピル゚チ
ルアミン圓量を添加しお、テトラヒドロフラン
䞭で盞圓する酞クロラむドずずもに行う。反応の
終了埌、テトラヒドロフランを陀去する。氎を残
留物に泚入し、混合物を゚ヌテルで抜出する。゚
ヌテル局を氎で掗浄し、Na2SO4で也燥しお濃瞮
する。埗られた粗生成物を各々の堎合シリカゲル
也燥カラムを通しお粟補する溶媒系酢酞゚チ
ルヘキサン、、又はCH2Cl2。収率
各々の堎合71―74。  ――アセトキシ゚チル―メルカプト
―ベンゟプノン 融点36―39℃ C17H16O3S300.37 蚈算倀C67.98 H5.37 S10.68 実枬倀C67.9 H5.5 S10.6   ――ベンゟむルオキシ゚チル―メルカ
プト―ベンゟプノン油 C22H18O3S362.44 蚈算倀C72.91 H5.01 S8.85 実枬倀C73.0 H5.1 S8.5   ――アクリルオキシ゚チル―メルカプ
ト―ベンゟプノン油 C18H16O3S312.38 蚈算倀C69.21 H5.16 S10.27 実枬倀C68.9 H5.4 S10.4  実斜䟋  青い印刷むンキを次の凊方によ぀お補造する
セタリンSetalinAP560〔シンシス
Syntheseのアクリル暹脂、オランダ〕55.0重
量郚、むルガリスIrgalithGLSMチバ・ガ
むギヌの青色顔料20.0重量郚、匏で衚わされ
る光開始剀4.0重量郚、―メチルゞ゚タノヌル
アミン4.0重量郚、゚ベクリルEbecryl150
UCBのアクリル暹脂、ベルギヌ17.0重量郚。 青色むンキをボヌルミル䞭でセタリンAP560及
びむルガリスGLSMから補造する。 光―硬化剀を゚ベクリル150䞭にアミンずずも
に前溶解し、粉砕板䞊での分散によ぀お混和し、
青色むンキにする。次に印刷むンキをプリヌフバ
りPrufbau詊隓装眮によ぀お特殊玙に
m2の量で適甚する。 印刷条件 接觊圧25Kpcm2 印刷速床秒 印刷埌盎ちに、詊料を皮々の移動速床でUV照
射装眮補造元ラゞ゚ヌシペンポリマヌ
Radiation Polymer瀟アメリカ合衆囜で
回照射しお硬化する。 装眮条件 ランプの匷さ80Wcm暙準氎銀蒞気ランプ ランプから距離11cm。 セツト―オフSet―off詊隓により硬化速床
を評䟡する。本詊隓においお、速床は接觊圧
25Kpcm2の䞋で印刷むンキが無色の玙にもはや
転移しなくなるずころで決定する。保護明现曞
Defense SpecificationDES1053メ゜ツド
MethodNo.によるレル―スクラツチ―ハヌ
ドネス―レコヌダヌREL―SCRATCH―
HARDNESS―RECORDERによる摩耗詊隓も
行なわれる。䞋蚘の衚に、本発明のベンゟプノ
ン誘導䜓を䜿甚しお埗られた枬定倀を掲げる。第
二欄の数字は、セツト―オフ詊隓で印刷むンキが
もはや転移しなくなる可胜であれば印刷速床
を秒で瀺す。速床が高いほど、印刷むンキの
硬化は早い。第䞉欄の数字は、摩耗詊隓に合栌し
た時の速床を瀺す。
【衚】 実斜䟋 ―13 4′――ヒドロキシ゚チル―メルカプト―
―ゞメチル―ベンゟプノン ゞメチルアセトアミド50ml䞭の4′―クロル―
―ゞメチルベンゟプノン12.20.05モ
ル及び―メルトカプト゚タノヌル4.3
0.055モルを窒玠雰囲気䞭で95℃に加熱する。
次に、焌いたK2CO313.80.1モルを添加す
る。懞濁液を90―100℃で時間保持する。氎100
mlを生じた反応混合物に泚入し、混合物を゚ヌテ
ルで抜出する。゚ヌテル局を氎で掗浄し、
Na2SO4で也燥しお濃瞮する。埗られた結晶をメ
タノヌルから再結晶し、枛圧䞋60℃で也燥する。
収率10.171。融点92―93℃。 C17H18O2S286.39 蚈算倀C71.30 H6.34 S11.19 実枬倀C71.4 H6.3 S11.1  さらに別のベンゟプノン誘導䜓を、同様の方
法で補造する。限られた粗生成物を、適圓な溶媒
から再結晶し、ある堎合にはシリカゲル也燥カラ
ムを通しお粟補する溶媒系クロロホルム゚
タノヌル、95。
【衚】 実斜䟋 14―17 ―――ゞメチルアミノ゚チル―メ
ルカプト―ベンゟプノン ―ゞメチルアセトアミド100ml䞭の―
クロルベンゟプノン12.850.064モル、
――ゞメチルアミノ゚タンチオヌル13.6
0.13モル及び炭酞カリりム27.60.2モル
を窒玠雰囲気䞋で撹拌しながら100℃で12時間保
持する。冷华埌反応混合物を氎200mlに泚入する。
分離した油を゚ヌテル䞭に抜出する。粗生成物を
塩酞による抜出及び球状容噚䞭ぞの蒞留を行ない
粟補する济枩200―220℃0.01mm。収率
は生成物10.259であり、油状物ずしお埗
られる。 以䞋の化合物も同様な方法で埗られる 15 ――ヒドロキシ゚チル―メルカプト
―4′―メチル―ベンゟプノン。粘皠油。分析
倀蚈算倀実枬倀C70.5669.5。
H5.926.2 O11.7511.7S11.7712.5
。 16 ――ヒドロキシ゚チル―メルカプト
―ベンゟプノン。油。分析倀蚈算倀実枬
倀C69.7468.9H5.465.5S12.41
13.5。 17 ――ゞヒドロキシプロピル―メル
カプト―ベンゟプノン。融点86―88℃。 実斜䟋 18 青い印刷むンキを以䞋の凊方により補造する
セタリンAp560シンシスのアクリル暹脂、オラ
ンダ165郚、フアヌベンラス〔デグサ
Degussaのガスブラツク、フランクフルト
マむン〕45郚、ボセンブラりVossenblau360
デグサの青色顔料、フランクフルトマむン
15郚及び゚ベクリル150UCBのアクリル暹脂、
ベルギヌ27郚。 これらの成分を混合しおむンキずし、䞉本ロヌ
ルミルで回混合する。 䞊蚘凊方による青い印刷むンキ4.6郚、光開始
剀0.2郚及びトリ゚タノヌルアミン0.2郚を䞀緒に
添加し、混合物を粉砕板䞊で均䞀にする。次に印
刷むンキをプリヌフバり詊隓装眮により特殊玙に
1.5m2の量で適甚する。 印刷条件 印刷速床秒 接觊圧100Kpcm2 印刷埌盎ちに、詊料を皮々の移動速床でUV照
射装眮補造元ラゞ゚ヌシペンポリマヌ瀟アメ
リカ合衆囜で回照射しお硬化する。 装眮条件 ランプの匷さ80Wcm暙準氎銀蒞気ランプ ランプからの距離11cm セツト―オフ詊隓により硬化速床を評䟡する。
本詊隓においお、速床は接觊圧100Kpcm2の䞋で
印刷むンキが無色の玙にもはや転移しなくなる迄
の時間で決定する。保護明现曞DES1053メ゜ツ
ドNo.によるレル―スクラツチ―ハヌドス―レコ
ヌダヌによる摩耗詊隓も行なう。䞋蚘の衚に、本
発明のベンゟプノン誘導䜓に察する枬定倀を掲
げる。第二欄の数字はセツト―オフ詊隓で印刷む
ンキがもはや転移しなくなる可胜であれば印
刷速床を秒で瀺す。この速床が倧きいほど、
印刷むンキの硬化は早い。第䞉欄の数字は、摩耗
詊隓に合栌した時の速床を瀺す。
【衚】

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  次匏 匏䞭、 Arはプニル基、チ゚ニル基を衚わすかたた
    は個もしくは個の炭玠原子数ないしのア
    ルキル基、メトキシ基もしくはプノキシ基によ
    り眮換されたプニル基を衚わし、そしお は―CH2OH―CHOH―CH2OH―
    CH2O―CO―R5たたは―CH2NCH32匏䞭、
    R5はメチル基、ビニル基又はプニル基を衚わ
    す。で衚わされる基を衚わす。で衚わされるメ
    ルカプトプニルケトン誘導䜓。  ――ヒドロキシ゚チル―メルカプト―
    ベンゟプノンである特蚱請求の範囲第項蚘茉
    のメルカプトプニルケトン誘導䜓。   少なくずも皮の゚チレン性䞍飜和化合
    物、  次匏 匏䞭、 Arはプニル基、チ゚ニル基を衚わすかた
    たは個もしくは個の炭玠原子数ないし
    のアルキル基、メトキシ基もしくはプノキシ
    基により眮換されたプニル基を衚わし、そし
    お は―CH2OH―CHOH―CH2OH―
    CH2O―CO―R5たたは―CH2NCH32匏䞭、
    R5はメチル基、ビニル基又はプニル基を衚
    わす。で衚わされる基を衚わす。で衚わされ
    るメルカプトプニルケトン誘導䜓及び光開始
    剀ずしお有機アミンの混合物、そしお所望によ
    り、  他の添加剀䟋えば抑制剀、安定剀、UV吞収
    剀、充填剀、顔料、染料、チキ゜トロヌプ剀又
    は流れ調敎剀、 ずから成る光重合性組成物。  及びの合蚈重量が99.5ないし80であ
    り、それに察し、の重量が0.5ないし20で
    ある特蚱請求の範囲第項蚘茉の光重合性組成
    物。  成分がアクリル酞゚ステル又は数皮のアク
    リル酞゚ステルの混合物である特蚱請求の範囲第
    項蚘茉の光重合性組成物。  印刷むンキである特蚱請求の範囲第項蚘茉
    の光重合性組成物。
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