JPS6356262U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6356262U JPS6356262U JP14761686U JP14761686U JPS6356262U JP S6356262 U JPS6356262 U JP S6356262U JP 14761686 U JP14761686 U JP 14761686U JP 14761686 U JP14761686 U JP 14761686U JP S6356262 U JPS6356262 U JP S6356262U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support stand
- substrate support
- introduction pipe
- nozzle holes
- gas introduction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 3
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
第１図は、本考案に係るプラズマエツチング装
置の一実施例を示す縦断面図である。第２図は、
従来のプラズマエツチング装置の一例を示す縦断
面図である。 １……基板支持台、３……ガス導入管、４……
基板、５……ノズル板、５ａ……ノズル孔、６…
…網目状又は多孔状の電極。
置の一実施例を示す縦断面図である。第２図は、
従来のプラズマエツチング装置の一例を示す縦断
面図である。 １……基板支持台、３……ガス導入管、４……
基板、５……ノズル板、５ａ……ノズル孔、６…
…網目状又は多孔状の電極。
Claims (1)
- 基板を支持すべき基板支持台と、これに向けて
ガスを噴出せしめる複数のノズル孔を端部に有す
るガス導入管と、該基板支持台と該ノズル孔の間
に位置し、該基板支持台に離間対向する網目状又
は多孔状の電極と、からなることを特徴とするプ
ラズマエツチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14761686U JPS6356262U (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14761686U JPS6356262U (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6356262U true JPS6356262U (ja) | 1988-04-15 |
Family
ID=31061139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14761686U Pending JPS6356262U (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6356262U (ja) |
-
1986
- 1986-09-26 JP JP14761686U patent/JPS6356262U/ja active Pending