JPS6357768A - 高速移動フイルムの連続的イオンプレ−テイング装置 - Google Patents
高速移動フイルムの連続的イオンプレ−テイング装置Info
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- JPS6357768A JPS6357768A JP5416586A JP5416586A JPS6357768A JP S6357768 A JPS6357768 A JP S6357768A JP 5416586 A JP5416586 A JP 5416586A JP 5416586 A JP5416586 A JP 5416586A JP S6357768 A JPS6357768 A JP S6357768A
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- ion plating
- roll
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高速移動フィルムの連続的イオンプレーティン
グ装置に関する。ざらに詳しくは、圧力勾配型の放電プ
ラズマを用いたイオンプレーティング装置に関する。
グ装置に関する。ざらに詳しくは、圧力勾配型の放電プ
ラズマを用いたイオンプレーティング装置に関する。
プラスチック、金属等のフィルムの表面に、金属、無機
物、カーボン、あるいは有機ポリマーなとの薄膜（蒸着
膜）を形成したものは、導電性フィルム、絶縁膜、表示
素子、光学フィルム、電子デバイス、装飾などの多様な
用途分野への応用が期待されているもので、すでに実用
化されているものも少くない。
物、カーボン、あるいは有機ポリマーなとの薄膜（蒸着
膜）を形成したものは、導電性フィルム、絶縁膜、表示
素子、光学フィルム、電子デバイス、装飾などの多様な
用途分野への応用が期待されているもので、すでに実用
化されているものも少くない。
このような薄膜を形成するための方法、装置としては、
真空蒸着装置内に置いた蒸発源からの蒸発粒子をグロー
放電によってイオン化して行なうものが知られている。
真空蒸着装置内に置いた蒸発源からの蒸発粒子をグロー
放電によってイオン化して行なうものが知られている。
いわゆるイオンプレーティングと呼ばれている技術であ
る。
る。
イオンプレーティングについては、ホ［Ｊカソード型の
ものと、高周波励起型のものとがあることも知られてい
る。これらの・ｆオンプレーディ〉′グ法は薄膜形成技
術として優れたものではあるが、広幅で、かっ長尺のフ
ィルム表面に薄膜を形成づるための技術、装置としては
、依然として多くの問題が未解決の現状にある。
ものと、高周波励起型のものとがあることも知られてい
る。これらの・ｆオンプレーディ〉′グ法は薄膜形成技
術として優れたものではあるが、広幅で、かっ長尺のフ
ィルム表面に薄膜を形成づるための技術、装置としては
、依然として多くの問題が未解決の現状にある。
ＦＪ−なわら、広幅で、かつ長尺のフィルム表面に薄膜
を形成するにあたっては、幅方向および長さ方向のいず
れにｄ３いても、品７１が均一で、密行性に優れた薄膜
を、フィルムを連続的に移動さｔｌ！ながら効率的に’
ｉｌ造することが必要になる。
を形成するにあたっては、幅方向および長さ方向のいず
れにｄ３いても、品７１が均一で、密行性に優れた薄膜
を、フィルムを連続的に移動さｔｌ！ながら効率的に’
ｉｌ造することが必要になる。
しかしながら、ホロカソードの場合にはカソード部等の
装置の汚れ、１ｕ傷が避けられず、熱的安定性に欠け、
塞板フィルムの発熱が避（プられないという問題がある
。このため優れた品質の薄膜を、連続して移動するフィ
ルム表面に均質に、かつ効率的に得ることは困難であっ
た。
装置の汚れ、１ｕ傷が避けられず、熱的安定性に欠け、
塞板フィルムの発熱が避（プられないという問題がある
。このため優れた品質の薄膜を、連続して移動するフィ
ルム表面に均質に、かつ効率的に得ることは困難であっ
た。
また、高周波励起型のイオンプレーティングの場合には
、優れた品質の薄膜を安定して１０．るためには極めて
有効であるものの、長尺フィルムなどの場合に、ぞの薄
膜を効率的に製造づるための生産性の点で充分でなかっ
た。
、優れた品質の薄膜を安定して１０．るためには極めて
有効であるものの、長尺フィルムなどの場合に、ぞの薄
膜を効率的に製造づるための生産性の点で充分でなかっ
た。
本発明は、このような問題のない、長尺のフィルムの表
面に連続的に、かつ効率的に蒸着薄膜を形成するだめの
新しいタイプの装置を掟供することを目的としでいる。
面に連続的に、かつ効率的に蒸着薄膜を形成するだめの
新しいタイプの装置を掟供することを目的としでいる。
さらに詳しくは、高速で移動するフィルム表面に、連続
的に薄膜を形成するためのイオンプレーディング装置を
提供■るらのである。
的に薄膜を形成するためのイオンプレーディング装置を
提供■るらのである。
本発明の装置について説明すると、この装置は、圧力勾
配型のプラズマ放電を用い、しかも、フィルムを高速で
移動させるための巻き取り装置を用いて連続的に薄膜を
形成するものＣあることを特徴としている。
配型のプラズマ放電を用い、しかも、フィルムを高速で
移動させるための巻き取り装置を用いて連続的に薄膜を
形成するものＣあることを特徴としている。
圧力勾配型のプラズマ放電は、陰、極と陽５（かとの間
に中間電極を介在さぜ、陰（〜領；或を１Ｔ○ｒ ｒ前
後に、そして陽（〜領域を１０’Ｔｏ ｒ ｒ程度に保
って放電を行なうものである。この放電方式をイオンプ
レーティングとして用いることはり−で゛に提案されて
もいる（たとえば、「真空」第２７巻、第２号、６４頁
、（１９８４年））。
に中間電極を介在さぜ、陰（〜領；或を１Ｔ○ｒ ｒ前
後に、そして陽（〜領域を１０’Ｔｏ ｒ ｒ程度に保
って放電を行なうものである。この放電方式をイオンプ
レーティングとして用いることはり−で゛に提案されて
もいる（たとえば、「真空」第２７巻、第２号、６４頁
、（１９８４年））。
このイオンプレーティングの装置は、ハースに対して横
方向に設置されたプラズマ源からのプラズマ流を水平方
向に射出させ、上向きに置いたハース（陽極）の真上で
直角に曲げてハース上にプラズマ流を収束させ、蒸発物
質をイオン蒸気化して、被処理物表面にドライコーティ
ングを行なうものである。
方向に設置されたプラズマ源からのプラズマ流を水平方
向に射出させ、上向きに置いたハース（陽極）の真上で
直角に曲げてハース上にプラズマ流を収束させ、蒸発物
質をイオン蒸気化して、被処理物表面にドライコーティ
ングを行なうものである。
この装置と方法による場合には、プラズマガンが汚れな
い、反応速度が大さい、プラズマが安定化する、薄膜が
均質になる、などの利点がある。
い、反応速度が大さい、プラズマが安定化する、薄膜が
均質になる、などの利点がある。
しかしながら、このような圧力勾配型放電によるイオン
プレーティングについては、実用技術、実用装置として
の検討はいまだ不十分でおり、特に移動する物品、ある
いはフィルム状物へのドライコーティングに適した装置
やその装置の操作諸条件の選択については何ら知られて
いない。
プレーティングについては、実用技術、実用装置として
の検討はいまだ不十分でおり、特に移動する物品、ある
いはフィルム状物へのドライコーティングに適した装置
やその装置の操作諸条件の選択については何ら知られて
いない。
本発明がはじめて、これらのことを具体的に実現した。
次に本発明の装置について、その概要を図面を参照して
説明する。
説明する。
図は本発明の装置の一例を示した心のでおる。
図中の（１）は真空室で、ベルジャ（２〉によって気密
に保たれている。真空室は真空ポ〉′プによって排気す
る。ベルジャ（２）には、真空排気口とともに、反応ガ
ス、導入口を設ける。また、ベルジャ（２）の内部には
、薄膜形成のための原料蒸発物質のハース（３）、圧力
勾配型プラズマガン（４）、フィルム送り出しロール（
５）、透明導電性フィルム巻き取りロール（６）を設け
る。
に保たれている。真空室は真空ポ〉′プによって排気す
る。ベルジャ（２）には、真空排気口とともに、反応ガ
ス、導入口を設ける。また、ベルジャ（２）の内部には
、薄膜形成のための原料蒸発物質のハース（３）、圧力
勾配型プラズマガン（４）、フィルム送り出しロール（
５）、透明導電性フィルム巻き取りロール（６）を設け
る。
さらに適宜、必要により、ガイトロール（７）、冷却手
段（８）を設ける。図は、ボックス型のベルジャの断面
を示しているが、ベルジャの形状、＠造かこれに限定さ
れることはない。
段（８）を設ける。図は、ボックス型のベルジャの断面
を示しているが、ベルジャの形状、＠造かこれに限定さ
れることはない。
ロール部については回転駆動させ、冷却手段を設ける場
合には、水冷、空冷等によって行なう。
合には、水冷、空冷等によって行なう。
また、蒸発源材料の種類や生産効等を考慮して、ハース
部には抵抗加熱、電子ビームｊＪＤ熱、高周波加熱等の
強制ＦＪＩ熱手段を適宜に用いることができる。
部には抵抗加熱、電子ビームｊＪＤ熱、高周波加熱等の
強制ＦＪＩ熱手段を適宜に用いることができる。
ロール部、またはロール部と冷却手段、あるいはハース
部を、ベルジャ側壁を開閉できるようにして、ベルジャ
に対して横方向から出し入れ自在としてもよい。
部を、ベルジャ側壁を開閉できるようにして、ベルジャ
に対して横方向から出し入れ自在としてもよい。
もちろん、本発明は、このような装置に限定されるもの
ではない。
ではない。
たとえば、ロール部は必ずしもベルジャ内部に設ける必
要はない。ベルジャ側壁にスリットを形成して、フィル
ムを出し入れし、薄膜形成部に連設したプラズマ・ボン
バード処理等の前処理部、あるいは後処理部のフィルム
移動手段を用いることもできる。
要はない。ベルジャ側壁にスリットを形成して、フィル
ムを出し入れし、薄膜形成部に連設したプラズマ・ボン
バード処理等の前処理部、あるいは後処理部のフィルム
移動手段を用いることもできる。
また、薄膜形成表面と反対側のフィルムの上面に負電圧
を印加する手段を設けることもできる。
を印加する手段を設けることもできる。
図に示したような高速移動フィルムの連続的イオンプレ
ーティング装置については、目的とする薄膜蒸着フィル
ムの用途に応じて操作諸条件を適宜に選択することがで
きる。
ーティング装置については、目的とする薄膜蒸着フィル
ムの用途に応じて操作諸条件を適宜に選択することがで
きる。
たとえば、高速で移動するフィルムについては、ポリエ
ステル、ポリサンフオン、ポリアミド、ポリイミドある
いは金属、セラミックス、それらの複合フィルムなどの
耐熱性フィルムの任意のものが使用できる。このフィル
ムの移動速度についても、たとえば６ｍ／分〜３０ｍ／
分の広い範囲とすることができる。
ステル、ポリサンフオン、ポリアミド、ポリイミドある
いは金属、セラミックス、それらの複合フィルムなどの
耐熱性フィルムの任意のものが使用できる。このフィル
ムの移動速度についても、たとえば６ｍ／分〜３０ｍ／
分の広い範囲とすることができる。
薄膜形成物質についても、格別の限定はない。
金属、無機物、有別物のうちから適宜に選択できる。
反応の圧力は、１ｘ１０ 〜１０”Ｔｏｒｒ程度で広い
範囲で、かつ、アルゴン、ヘリウム、水素などのガスと
、酸素、窒素、有機モノマーなどの反応性ガスを用いる
ことができる。
範囲で、かつ、アルゴン、ヘリウム、水素などのガスと
、酸素、窒素、有機モノマーなどの反応性ガスを用いる
ことができる。
放電の電圧は、たとえば、５０〜１５０Ｖとし、電流は
蒸発物質によって適宜に選択する。
蒸発物質によって適宜に選択する。
本発明の装置によって多用な機能を付加した１００〜１
５００ｍ幅程度のフィルムを、たとえば、６ｍ／分〜３
０ｍ／分という高速度で連続的に製造することが可能と
なる。このような優れた効果は、これまでの公知の技術
からはまったく予期しえなかったことでおる。
５００ｍ幅程度のフィルムを、たとえば、６ｍ／分〜３
０ｍ／分という高速度で連続的に製造することが可能と
なる。このような優れた効果は、これまでの公知の技術
からはまったく予期しえなかったことでおる。
図は本発明の装置の一例を概略的に示すものである。図
中の番号は次のものを示している。 （１）真空室、 （６）巻き取りロール、（２）
ベルジャ、 （７）ガイドロール、（３〉ハース、
（８）冷却手段、（４）プラズマガン、（９）
プラズマ流、（５）送り出しロール。
中の番号は次のものを示している。 （１）真空室、 （６）巻き取りロール、（２）
ベルジャ、 （７）ガイドロール、（３〉ハース、
（８）冷却手段、（４）プラズマガン、（９）
プラズマ流、（５）送り出しロール。
Claims (2)
- （１）真空室と；排気系と；ガス導入系と；薄膜形成材
料の蒸発源と；必要により設ける蒸発源の強制蒸発手段
と；圧力勾配型のプラズマガンと；フィルム送り出しロ
ールおよびフィルム巻き取りロールと；必要により設け
るガイドロールおよびフィルム冷却手段とからなり、前
記の圧力勾配型プラズマガンから射出されたプラズマ流
が前記蒸発源に収束して蒸発源物質の蒸発およびイオン
化を行ない、該イオン化粒子によつて、前記送り出しロ
ールから送り出され巻き取りロールに巻き取られる高速
で移動するフィルム表面に薄膜を形成するようにした高
速移動フィルムの連続的イオンプレーティング装置。 - （２）フィルムが６ｍ／分〜３０ｍ／分で高速移動する
ようにした特許請求の範囲第（１）項記載の連続的イオ
ンプレーティング装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61054165A JPH0621349B2 (ja) | 1986-03-12 | 1986-03-12 | 高速移動フイルムの連続的イオンプレ−テイング装置 |
| EP19870901676 EP0263880B1 (en) | 1986-03-12 | 1987-03-11 | Continuous ion plating device for rapidly moving film |
| PCT/JP1987/000151 WO1987005637A1 (fr) | 1986-03-12 | 1987-03-11 | Dispositif de plaquage ionique continu pour un film a defilement rapide |
| DE8787901676T DE3781990T2 (de) | 1986-03-12 | 1987-03-11 | Kontinuierliche plattierungsanordnung eines schnell bewegenden films. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61054165A JPH0621349B2 (ja) | 1986-03-12 | 1986-03-12 | 高速移動フイルムの連続的イオンプレ−テイング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6357768A true JPS6357768A (ja) | 1988-03-12 |
| JPH0621349B2 JPH0621349B2 (ja) | 1994-03-23 |
Family
ID=12962934
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61054165A Expired - Lifetime JPH0621349B2 (ja) | 1986-03-12 | 1986-03-12 | 高速移動フイルムの連続的イオンプレ−テイング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0621349B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1423553A4 (en) * | 2001-08-01 | 2008-12-17 | Danieli Technology Inc | METAL VAPOR COATING |
| CN112095087A (zh) * | 2019-12-13 | 2020-12-18 | 深圳市中欧新材料有限公司 | 一种导电膜生产用具有空气隔离结构的镀膜设备 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5873770A (ja) * | 1981-10-28 | 1983-05-04 | Joshin Uramoto | 磁石とコイルの磁場を利用した高能率イオンプレ−テング装置 |
| JPS60116773A (ja) * | 1983-11-30 | 1985-06-24 | Hitachi Condenser Co Ltd | イオンプレ−ティング装置 |
-
1986
- 1986-03-12 JP JP61054165A patent/JPH0621349B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5873770A (ja) * | 1981-10-28 | 1983-05-04 | Joshin Uramoto | 磁石とコイルの磁場を利用した高能率イオンプレ−テング装置 |
| JPS60116773A (ja) * | 1983-11-30 | 1985-06-24 | Hitachi Condenser Co Ltd | イオンプレ−ティング装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1423553A4 (en) * | 2001-08-01 | 2008-12-17 | Danieli Technology Inc | METAL VAPOR COATING |
| CN112095087A (zh) * | 2019-12-13 | 2020-12-18 | 深圳市中欧新材料有限公司 | 一种导电膜生产用具有空气隔离结构的镀膜设备 |
| CN112095087B (zh) * | 2019-12-13 | 2022-06-14 | 深圳市中欧新材料有限公司 | 一种导电膜生产用具有空气隔离结构的镀膜设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0621349B2 (ja) | 1994-03-23 |
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