JPS6358212A - 光学式変位検出装置 - Google Patents
光学式変位検出装置Info
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- JPS6358212A JPS6358212A JP20471186A JP20471186A JPS6358212A JP S6358212 A JPS6358212 A JP S6358212A JP 20471186 A JP20471186 A JP 20471186A JP 20471186 A JP20471186 A JP 20471186A JP S6358212 A JPS6358212 A JP S6358212A
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Transform (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、相対移動可能な光学格子を有し、インデック
ススケールの参照光学格子を通しメインスケールの光学
格子からの反射された反射光を所定処理して相対移動量
を検出する光学式変位検出装置に係り、特に、両スケー
ルに複数列の光学格子を設けることによって絶対変位量
を検出可能としたものである。
ススケールの参照光学格子を通しメインスケールの光学
格子からの反射された反射光を所定処理して相対移動量
を検出する光学式変位検出装置に係り、特に、両スケー
ルに複数列の光学格子を設けることによって絶対変位量
を検出可能としたものである。
独立物体間の相対移動変位を検出して物理的諸元(長さ
、圧力、重量)を求める手段の1つとして利用される光
学式変位検出装置を光学的に大別するとメインスケール
の光学格子を透過された透過光を所定処理する透過型と
メインスケールから反射された反射光を所定処理する反
射型に分類され、−C的に小型化の点からは反射型が利
用されている。
、圧力、重量)を求める手段の1つとして利用される光
学式変位検出装置を光学的に大別するとメインスケール
の光学格子を透過された透過光を所定処理する透過型と
メインスケールから反射された反射光を所定処理する反
射型に分類され、−C的に小型化の点からは反射型が利
用されている。
かかる反射型の従来光学式変位検出装置を第6図を参照
して説明する。一般的にモアレ縞方式といわれる変位検
出装置は、光学格子13が整列配設されたメインスケー
ル10と対応する参照光学格子3A、3Bが設けられた
インデックススケール20とを相対変位可能とし、メイ
ンスケール10の一方側に光学格子13.3A、3Bを
照射する平行光線を発する光源1 (IA、IB、I
c)と参照光学格子3A、3Bを通し光学格子13から
反射された光を受ける光電変換器2 (2A、 2B
)とを設け、光電変換器2から出力される電気信号を変
位検出回路(図示省略)で所定処理して両スケール10
.20の相対変位量を求めるよう構成されていた。なお
、参照光学格子3A、3Bと光電素子2A、2Bとを各
2組設けるのは方向弁別と分解能向上のためであった。
して説明する。一般的にモアレ縞方式といわれる変位検
出装置は、光学格子13が整列配設されたメインスケー
ル10と対応する参照光学格子3A、3Bが設けられた
インデックススケール20とを相対変位可能とし、メイ
ンスケール10の一方側に光学格子13.3A、3Bを
照射する平行光線を発する光源1 (IA、IB、I
c)と参照光学格子3A、3Bを通し光学格子13から
反射された光を受ける光電変換器2 (2A、 2B
)とを設け、光電変換器2から出力される電気信号を変
位検出回路(図示省略)で所定処理して両スケール10
.20の相対変位量を求めるよう構成されていた。なお
、参照光学格子3A、3Bと光電素子2A、2Bとを各
2組設けるのは方向弁別と分解能向上のためであった。
このように構成された従来の光学式変位検出装置では変
位量が増分として検出されるいわゆるインクレメンタル
方式であり、かつ所定の作動を保障するために精巧な構
造としなければならないという構造上の問題と方式上の
問題があった。
位量が増分として検出されるいわゆるインクレメンタル
方式であり、かつ所定の作動を保障するために精巧な構
造としなければならないという構造上の問題と方式上の
問題があった。
すなわち、構造上の問題とは、光学格子13と参照光学
格子3A、3B(メインスケール10とインデックスス
ケール20)との機械的相互位置関係を厳格に確立、維
持しなければならないという問題であり、特に、両スケ
ール10.20間の面間クリアランスCは十数μmとし
なければならずその組立、調整が至難であるばかりか、
運転中に大きくなる方向に変動するとS/Nが著しく劣
悪化し、小さくなる方向に変動すると相対移動困難、検
出不能の事態を招来させた。
格子3A、3B(メインスケール10とインデックスス
ケール20)との機械的相互位置関係を厳格に確立、維
持しなければならないという問題であり、特に、両スケ
ール10.20間の面間クリアランスCは十数μmとし
なければならずその組立、調整が至難であるばかりか、
運転中に大きくなる方向に変動するとS/Nが著しく劣
悪化し、小さくなる方向に変動すると相対移動困難、検
出不能の事態を招来させた。
一方、方式上の問題としては、ノイズ等に基づく誤計数
があるとその後の計数値(検出値)は意味のないものと
なり、途中に1t5遮断があると電源回復時に再度の原
点合せ作業を必要とした。また、両スケール10.20
の相対移動がある限り常に前記変位検出回路を追従動作
させなければならないので応答速度の制限が厳しい等精
度保障上、取扱上に多くの問題を有していた。
があるとその後の計数値(検出値)は意味のないものと
なり、途中に1t5遮断があると電源回復時に再度の原
点合せ作業を必要とした。また、両スケール10.20
の相対移動がある限り常に前記変位検出回路を追従動作
させなければならないので応答速度の制限が厳しい等精
度保障上、取扱上に多くの問題を有していた。
かくして、従来は、前記方式上の問題中、主に、原点合
せの容易化の観点から第6図に見られるように両スケー
ル10.20に、例えば、ランダムバター780.81
をHけ、両ランダムパターン80.81が合致すること
を検出させることによって、メインスケール10上の原
点を特定させるいわゆる絶対原点検出手段を付設してい
た。従って、メインスケール10の例えば、一端側を絶
対原点とする煩わしさは解消されたが、ランダムパター
ン80はその形態上連続的に付設することは困難なため
完全策とは言い難(また、光電変換器2A、2Bから導
出される光学格子13のピッチ幅を1周期とする略サイ
ン波のサイクリック信号であることからインクレメンタ
ル方式という本質に基づく上記欠点は解消されていなか
った。
せの容易化の観点から第6図に見られるように両スケー
ル10.20に、例えば、ランダムバター780.81
をHけ、両ランダムパターン80.81が合致すること
を検出させることによって、メインスケール10上の原
点を特定させるいわゆる絶対原点検出手段を付設してい
た。従って、メインスケール10の例えば、一端側を絶
対原点とする煩わしさは解消されたが、ランダムパター
ン80はその形態上連続的に付設することは困難なため
完全策とは言い難(また、光電変換器2A、2Bから導
出される光学格子13のピッチ幅を1周期とする略サイ
ン波のサイクリック信号であることからインクレメンタ
ル方式という本質に基づく上記欠点は解消されていなか
った。
また、前記構造上の問題に対しては両スケール10.2
0間のクリアランスCを大幅に拡大できかつその変動許
容値をも拡大できるとする第5図に示すような3つの光
学格子を用いる光学式変位検出装置が提案された。第5
図において、変位検出装置は、メインスケール10に設
けられた光学格子13と、光学系上光学格子13に前置
される参照光学格子3を有する第2のスケールと後置さ
れる参照光学格子3を有する第3のスケールを兼ねるイ
ンデックススケール20と、このインデックススケール
20を通しメインスケール10に拡散光を照射させるた
めの単なる集光を目的とする集光レンズ42と光源41
とからなる非平行照明系40と、インデックススケール
20を介しメインスケール10からの反射光を光電変換
器2へ導くためのハーフミラ−45とから構成されてい
た。
0間のクリアランスCを大幅に拡大できかつその変動許
容値をも拡大できるとする第5図に示すような3つの光
学格子を用いる光学式変位検出装置が提案された。第5
図において、変位検出装置は、メインスケール10に設
けられた光学格子13と、光学系上光学格子13に前置
される参照光学格子3を有する第2のスケールと後置さ
れる参照光学格子3を有する第3のスケールを兼ねるイ
ンデックススケール20と、このインデックススケール
20を通しメインスケール10に拡散光を照射させるた
めの単なる集光を目的とする集光レンズ42と光源41
とからなる非平行照明系40と、インデックススケール
20を介しメインスケール10からの反射光を光電変換
器2へ導くためのハーフミラ−45とから構成されてい
た。
従って、メインスケール10の光学格子13のピッチを
P、インデックススケール20の参照光学格子3のピッ
チをq (=2P) 、非平行照明系40の波長をλと
すれば、両スケール10.20間のクリアランスCはC
= n P” /λ(nは1以上の整数)とすることが
できるから上記モアレ縞方式に対して数倍〜敗十倍のク
リアランスCを設定することができ、その加工、組立、
調整が容易で生産性を向上できるとともに長期安定運転
という取扱性を一段と向上させることができた。
P、インデックススケール20の参照光学格子3のピッ
チをq (=2P) 、非平行照明系40の波長をλと
すれば、両スケール10.20間のクリアランスCはC
= n P” /λ(nは1以上の整数)とすることが
できるから上記モアレ縞方式に対して数倍〜敗十倍のク
リアランスCを設定することができ、その加工、組立、
調整が容易で生産性を向上できるとともに長期安定運転
という取扱性を一段と向上させることができた。
また、クリアランスCに多少の大小はあるものの光学格
子13と参照光学格子3とのピッチ比を他に設定するこ
ともできた。例えばp=qの如くである。
子13と参照光学格子3とのピッチ比を他に設定するこ
ともできた。例えばp=qの如くである。
しかしながら、このような3つの光学格子を設けた変位
検出装置でもインクレメンタル方式に変わりはなくイン
クレメンタル方式に基づく上記問題点は依然として残存
していた。さらに、上記ランダムパターン80.81を
設は原点合せ作業の容易化もできないという欠点があっ
た。すなわち、非平行照明系40で照射するものであっ
て、かつ上記クリアランスCが大きいからランダムパタ
ーン80.81を設けたとしても、原点を特定できない
という問題であり、これはクリアランスCの拡大と相反
する技術事項であることから解消することができないと
いう欠点となっていた。従って、上記方式上の問題を除
去することができなかった。
検出装置でもインクレメンタル方式に変わりはなくイン
クレメンタル方式に基づく上記問題点は依然として残存
していた。さらに、上記ランダムパターン80.81を
設は原点合せ作業の容易化もできないという欠点があっ
た。すなわち、非平行照明系40で照射するものであっ
て、かつ上記クリアランスCが大きいからランダムパタ
ーン80.81を設けたとしても、原点を特定できない
という問題であり、これはクリアランスCの拡大と相反
する技術事項であることから解消することができないと
いう欠点となっていた。従って、上記方式上の問題を除
去することができなかった。
本発明は、上記従来の問題点を除去すべく鑑みなされた
もので両スケール間のクリアランスを大きく維持できる
とともに高分解能、高精度で検出範囲の広いアブソリュ
ート方式の光学式変位検出装置を堤供することを目的と
する。
もので両スケール間のクリアランスを大きく維持できる
とともに高分解能、高精度で検出範囲の広いアブソリュ
ート方式の光学式変位検出装置を堤供することを目的と
する。
〔問題点を解決するための手段および作用〕本発明は、
前記の構造上の問題と方式上の問題とを同時に解決しよ
うとするもので各列毎のピッチが異なる複数列の光学格
子をメインスケールに設けるとともに第2および第3の
スケールを兼ねるインデックススケールにも相当列かつ
対応ピッチの参照光学格子を設け、各複数列の光学格子
に関与してメインスケールから反射された反射光を受け
て出力される電気信号間の位相差を巧みに利用すること
によって当該光学格子のピッチよりも小さい値の分解能
で当該光学格子のピッチよりも著しく大きな広範囲に亘
り両スケールの相対移動変位の絶対変位量を検出できる
ようするものである。
前記の構造上の問題と方式上の問題とを同時に解決しよ
うとするもので各列毎のピッチが異なる複数列の光学格
子をメインスケールに設けるとともに第2および第3の
スケールを兼ねるインデックススケールにも相当列かつ
対応ピッチの参照光学格子を設け、各複数列の光学格子
に関与してメインスケールから反射された反射光を受け
て出力される電気信号間の位相差を巧みに利用すること
によって当該光学格子のピッチよりも小さい値の分解能
で当該光学格子のピッチよりも著しく大きな広範囲に亘
り両スケールの相対移動変位の絶対変位量を検出できる
ようするものである。
これがため、複数列の光学格子が設けられるとともに各
列毎の光学格子ピッチが異なるものと形成されているメ
インスケールと、 前記メインスケールの各列光学格子に対応させた複数列
の参照光学格子が設けられ光学系上前記メインスケール
に前置される第2のスケールと後置される第3のスケー
ルとを兼ねるインデックススケールと、 前記インデックススケールを介し前記メインスケールに
非平行光を照射するための非平行照明系と、 前記メインスケールの各列光学格子毎に2個1組として
対応配設され各組毎に前記インデックススケールを介し
前記メインスケールから反射された反射光を受けて90
度位相のずれた電気信号を出力する複数組の光電変換器
と、 前記光電変換器の各組からそれぞれ出力される電気(ε
分間の組間位相差を求めるとともにこの組間位相差を利
用して広範囲変位量を求め、かつ前記メインスケールの
いずれか1つの列の光学格子に対応された組の光電変換
器からの前記電気(3号を利用して当該光学格子の1ピ
ッチ内における狭範囲変位壇を求め、該広範囲変位量と
狭範囲変位置との和をもって前記メインスケールとイン
デックススケールの相対移動変位量の絶対値を検出する
絶対変位検出回路とを備えた構成とし前記目的を達成す
るのである。
列毎の光学格子ピッチが異なるものと形成されているメ
インスケールと、 前記メインスケールの各列光学格子に対応させた複数列
の参照光学格子が設けられ光学系上前記メインスケール
に前置される第2のスケールと後置される第3のスケー
ルとを兼ねるインデックススケールと、 前記インデックススケールを介し前記メインスケールに
非平行光を照射するための非平行照明系と、 前記メインスケールの各列光学格子毎に2個1組として
対応配設され各組毎に前記インデックススケールを介し
前記メインスケールから反射された反射光を受けて90
度位相のずれた電気信号を出力する複数組の光電変換器
と、 前記光電変換器の各組からそれぞれ出力される電気(ε
分間の組間位相差を求めるとともにこの組間位相差を利
用して広範囲変位量を求め、かつ前記メインスケールの
いずれか1つの列の光学格子に対応された組の光電変換
器からの前記電気(3号を利用して当該光学格子の1ピ
ッチ内における狭範囲変位壇を求め、該広範囲変位量と
狭範囲変位置との和をもって前記メインスケールとイン
デックススケールの相対移動変位量の絶対値を検出する
絶対変位検出回路とを備えた構成とし前記目的を達成す
るのである。
従って、各ピッチが異なる複数列の光学格子が設けられ
たメインスケールと対応する各ピッチが異なる複数列の
参照光学格子が設けられたインデックススケールとをそ
の長手方向に相対移動させれば、例えば、2列の光学格
子とした場合には、90度位相づれさせた2個1組の1
列目の参照光学格子に対応された光電変換器からは位相
差θ。
たメインスケールと対応する各ピッチが異なる複数列の
参照光学格子が設けられたインデックススケールとをそ
の長手方向に相対移動させれば、例えば、2列の光学格
子とした場合には、90度位相づれさせた2個1組の1
列目の参照光学格子に対応された光電変換器からは位相
差θ。
をもつ電気信号が出力され、同様に2列目の参照光学格
子に対応された光電変換器からは位相差θ2をもつ電気
信号が出力される。
子に対応された光電変換器からは位相差θ2をもつ電気
信号が出力される。
ここに、絶対変位検出回路では、位相差θ1である電気
信号および位相差θ2である電気信号を適時サンプルホ
ールドするとともに組間位相差(θ2−θ、)を演算し
、この組間位相差(θ2−01)を利用して両スケール
の相対移動量の絶対値を求めることができる。
信号および位相差θ2である電気信号を適時サンプルホ
ールドするとともに組間位相差(θ2−θ、)を演算し
、この組間位相差(θ2−01)を利用して両スケール
の相対移動量の絶対値を求めることができる。
もとより、光学系上メインスケールに前置される第2の
スケールと2’lt rZされる第3のスJf−ルとを
兼ねるインデックススケールを含む3つのスケール(光
学格子)を設け、非平行光の照射を受けたメインスケー
ルからの反射光をインデックススケールを通過させた後
光電変換する方式であるから、メインスケールとインデ
ックススケールとの間のクリアランスを大きくすること
ができる。
スケールと2’lt rZされる第3のスJf−ルとを
兼ねるインデックススケールを含む3つのスケール(光
学格子)を設け、非平行光の照射を受けたメインスケー
ルからの反射光をインデックススケールを通過させた後
光電変換する方式であるから、メインスケールとインデ
ックススケールとの間のクリアランスを大きくすること
ができる。
本発明の光学式変位検出装置の一実施例を図面を参照し
ながら詳細に説明する。
ながら詳細に説明する。
この実施例は、第1図ないし第4図に示され、本装置は
、複数列(2列)の光学格子が設けられたメインスケー
ル10と対応する参照光学格子が設けられた第2、第3
のスケールを兼ねるインデックススケール20と両スケ
ール10.20を光照射するための非平行照明系40と
両スケール10.20からの反射光を受けて電気信号を
出力する複数組(2m)の光電変換器30と、組間位相
差を求めて両スケール10.20の相対移動変位量の絶
対値を検出できるよう形成された絶対変位検出回路50
とから構成されている。
、複数列(2列)の光学格子が設けられたメインスケー
ル10と対応する参照光学格子が設けられた第2、第3
のスケールを兼ねるインデックススケール20と両スケ
ール10.20を光照射するための非平行照明系40と
両スケール10.20からの反射光を受けて電気信号を
出力する複数組(2m)の光電変換器30と、組間位相
差を求めて両スケール10.20の相対移動変位量の絶
対値を検出できるよう形成された絶対変位検出回路50
とから構成されている。
メインスケール10は第1図、第2図に示すように断面
矩形のガラス材料11からなる細長薄板形状とされ、下
段側(第1図で右側)にピッチPが400 メtmとさ
れた第1の光学格子13、上段側(第1図で左側)にピ
ッチP−ΔPが398μmとされた第2の光学格子15
が設けられている。
矩形のガラス材料11からなる細長薄板形状とされ、下
段側(第1図で右側)にピッチPが400 メtmとさ
れた第1の光学格子13、上段側(第1図で左側)にピ
ッチP−ΔPが398μmとされた第2の光学格子15
が設けられている。
ここに、第1の光学格子が検出範囲長しく80■l)を
N(=200)等分し、かつ第2の光学格子15をN十
1等分するよう形成されているから、L=NP= (N
+1)(P−ΔP)・・・・・・(1)が成立する。上
記数値はこの関係式において選択したものである。
N(=200)等分し、かつ第2の光学格子15をN十
1等分するよう形成されているから、L=NP= (N
+1)(P−ΔP)・・・・・・(1)が成立する。上
記数値はこの関係式において選択したものである。
一方、インデックススケール20は、光学系上、メイン
スケールlOに前置される第2のスケールと後置される
第3のスケールとを兼ねるものとされ、メインスケール
10と同様に断面矩形のガラス材料21からなる薄板形
状とされ、第2図に示したように下段側にメインスケー
ル10の第1の光学格子13と対応される第1の参照光
学格子23A(23B)と、上段側に第2の光学格子1
5と対応される第2の参照光学格子25A(25B)と
が設けられている。
スケールlOに前置される第2のスケールと後置される
第3のスケールとを兼ねるものとされ、メインスケール
10と同様に断面矩形のガラス材料21からなる薄板形
状とされ、第2図に示したように下段側にメインスケー
ル10の第1の光学格子13と対応される第1の参照光
学格子23A(23B)と、上段側に第2の光学格子1
5と対応される第2の参照光学格子25A(25B)と
が設けられている。
そして、第1の参照光学格子23A (23B)のピッ
チはqであり、第2の参照光学格子25A(25B)の
ピッチはq−Δqとされがっ長手方向にそれぞれ対応す
る第1、第2の光学格子13、I5に対し90度位相を
づらせた2組の参照光学格子23A、23B、25A、
25Bが設けられている。なお、この実施例ではq=2
P、Δq=2ΔPとされている(ただし、第1図、第2
図では作図便宜上、Q=Pとして図示している)。
チはqであり、第2の参照光学格子25A(25B)の
ピッチはq−Δqとされがっ長手方向にそれぞれ対応す
る第1、第2の光学格子13、I5に対し90度位相を
づらせた2組の参照光学格子23A、23B、25A、
25Bが設けられている。なお、この実施例ではq=2
P、Δq=2ΔPとされている(ただし、第1図、第2
図では作図便宜上、Q=Pとして図示している)。
次に、光電変換器30はその2組(30A、30B)を
形成するところの4つの光電素子33A。
形成するところの4つの光電素子33A。
33B、35A、35Bから形成され、各参照光学格子
23A、23B、25A、25Bに対応配設されるとと
もに各光電素子33A、33B、35A、35Bにはプ
リアンプ37A、37B、38A、38Bがそれぞれ接
続されている。また、両スケール10.20を挟む光電
変換器30と反対側には完全な平行光線でな(少なくと
も拡散成分を含む光線を発する光w4xA、4tBと単
なる集光を目的とした集光レンズ42A、42B(省略
可能である)とからなる両スケール10゜20に非千行
光を照射させるための非平行照明系40が設けられ、こ
の非平行照明系40はインデックススケール20、光電
変換器30と所定の関係をもって一体的にメインスケー
ル10と図でX方向に相対移動可能とされている。
23A、23B、25A、25Bに対応配設されるとと
もに各光電素子33A、33B、35A、35Bにはプ
リアンプ37A、37B、38A、38Bがそれぞれ接
続されている。また、両スケール10.20を挟む光電
変換器30と反対側には完全な平行光線でな(少なくと
も拡散成分を含む光線を発する光w4xA、4tBと単
なる集光を目的とした集光レンズ42A、42B(省略
可能である)とからなる両スケール10゜20に非千行
光を照射させるための非平行照明系40が設けられ、こ
の非平行照明系40はインデックススケール20、光電
変換器30と所定の関係をもって一体的にメインスケー
ル10と図でX方向に相対移動可能とされている。
そして、インデックススケール20と非平行照明系40
との間にはハーフミラ−45が介装されている。従って
、非平行照明系40から照射された非千行光は、まずハ
ーフミラ−45と第2のスケールとしてのインデックス
スケール2oをUaしてメインスケール10に照射され
、メインスケール10からの反射光は第3のスケールと
してのインデックススケール20を通過した後ノ1−フ
ミラー45で45度方向に屈折され光電変換器30に入
射されるよう形成されている。また、上記の通りメイン
スケール10の第1の光学格子13のピ・7チがP、イ
ンデックススケール(第2および第3のスケール)20
の第1の参照光学格子23A(23B)のピッチがq(
=2P)であり、非平行照明系40からの光の波長をλ
とすれば両スケール10.20間のクリアランスCは、
C=nP”/λ(nは1以上の整数)で求められるから
数十μmと非常に大きくすることができる。
との間にはハーフミラ−45が介装されている。従って
、非平行照明系40から照射された非千行光は、まずハ
ーフミラ−45と第2のスケールとしてのインデックス
スケール2oをUaしてメインスケール10に照射され
、メインスケール10からの反射光は第3のスケールと
してのインデックススケール20を通過した後ノ1−フ
ミラー45で45度方向に屈折され光電変換器30に入
射されるよう形成されている。また、上記の通りメイン
スケール10の第1の光学格子13のピ・7チがP、イ
ンデックススケール(第2および第3のスケール)20
の第1の参照光学格子23A(23B)のピッチがq(
=2P)であり、非平行照明系40からの光の波長をλ
とすれば両スケール10.20間のクリアランスCは、
C=nP”/λ(nは1以上の整数)で求められるから
数十μmと非常に大きくすることができる。
ここに、第2図に見られるように第1の光学格子13と
第2の光学格子15との一敗した点Tを原点とし、図で
右方向に座標すなわちメインスケール10に対するイン
デックススケール20の1目対移動変位量をXとすると
、光電素子33A、33Bは当該第1参照光学格子23
A、23Bに対応させて90度の位相差をもって配設し
ているから光電素子33Aの出力をal、光電素子33
Bの出力をbl とすれば、両光型素子33A、33B
からの電気信号の原点からの位相差θ1はであるから す、=Acosθ1 と近似することができる。なお、(3)式の右辺第2項
の□は、原点Tにおいて透過光量が最大となるためその
補正項として導入したものである。
第2の光学格子15との一敗した点Tを原点とし、図で
右方向に座標すなわちメインスケール10に対するイン
デックススケール20の1目対移動変位量をXとすると
、光電素子33A、33Bは当該第1参照光学格子23
A、23Bに対応させて90度の位相差をもって配設し
ているから光電素子33Aの出力をal、光電素子33
Bの出力をbl とすれば、両光型素子33A、33B
からの電気信号の原点からの位相差θ1はであるから す、=Acosθ1 と近似することができる。なお、(3)式の右辺第2項
の□は、原点Tにおいて透過光量が最大となるためその
補正項として導入したものである。
同様に、光電素子35A、35Bの出力をそれぞれat
、bt とすると光電素子35A、35Bからの電気信
号の位相差θ2は、 であるから と近似することができる。
、bt とすると光電素子35A、35Bからの電気信
号の位相差θ2は、 であるから と近似することができる。
また、絶対変位検出回路50はCPU55を介しタッチ
センサ65から両スケール10.20の相対移動変位1
xを求めようとする時点に出力されるトリガによって、
各光電素子33A、33B、35A、35Bの出力信号
”l 、bI+ a2+ b2をサンプルホールド
するためのサンプルホールド回路51と、このサンプル
ホールド回路51からホールドした前記出力信号a++
b++ az+b2の1つを順次取り出すマルチプレ
クサ52と、このマルチプレクサ52で取り出したアナ
ログ信号たる出力信号をデジタル変換するA/Di換器
53と、上記サンプルホールド回路51、マルチプレク
サ52、A/D変換器53に適時の指令等を行うととも
に入力されたデータをもとに後記の所定演算処理等を行
う前記CPU55とから形成され、またCPU55には
、タッチセンサ65と表示手段60とが接続されている
。
センサ65から両スケール10.20の相対移動変位1
xを求めようとする時点に出力されるトリガによって、
各光電素子33A、33B、35A、35Bの出力信号
”l 、bI+ a2+ b2をサンプルホールド
するためのサンプルホールド回路51と、このサンプル
ホールド回路51からホールドした前記出力信号a++
b++ az+b2の1つを順次取り出すマルチプレ
クサ52と、このマルチプレクサ52で取り出したアナ
ログ信号たる出力信号をデジタル変換するA/Di換器
53と、上記サンプルホールド回路51、マルチプレク
サ52、A/D変換器53に適時の指令等を行うととも
に入力されたデータをもとに後記の所定演算処理等を行
う前記CPU55とから形成され、またCPU55には
、タッチセンサ65と表示手段60とが接続されている
。
さて、CPU55では、第4図の(B)に見られるよう
に最終的には X = X L +ΔX、=np+Δxt ・a
sとして原点Tからの絶対変位Hxを求めるのである。
に最終的には X = X L +ΔX、=np+Δxt ・a
sとして原点Tからの絶対変位Hxを求めるのである。
なお、第4図(B)の縦軸は式(3)の右辺第2項との
関係で01−□としている。ここに、×1 はメインス
ケール10の第1の光学格子13における広範囲変位量
であって、第1の光学格子13のピッチPと通過したピ
ッチPの数n (nは1以上の整数)との積とされ、Δ
X、は第1の光学格子13のfi+1番目のピッチP内
での絶対的変位量である。
関係で01−□としている。ここに、×1 はメインス
ケール10の第1の光学格子13における広範囲変位量
であって、第1の光学格子13のピッチPと通過したピ
ッチPの数n (nは1以上の整数)との積とされ、Δ
X、は第1の光学格子13のfi+1番目のピッチP内
での絶対的変位量である。
つまり、本発明がメインスケール10に複数列(この実
施例では2列)の光学格子13.15を設けかつ各光学
格子13.15に対応させた各組の光電素子35B、3
5Aと33B、33Aとの組間位相差(θ2−θ1)を
利用してアブソリュート方式化したのは次の根拠による
ものである。
施例では2列)の光学格子13.15を設けかつ各光学
格子13.15に対応させた各組の光電素子35B、3
5Aと33B、33Aとの組間位相差(θ2−θ1)を
利用してアブソリュート方式化したのは次の根拠による
ものである。
すなわち、前記の(5]式は次の通り変換することがで
きる。
きる。
・・・・・・ (7)
そして、(7)式に(3)式と(2)式を代入するとと
なる、従って、(8)式から となる。
なる、従って、(8)式から となる。
しかして、CPU55では式(9)からメインスケール
10の第1の光学格子13に対応する光電素子33A、
33Bからの出力信号a、、b、の位相差θ1 と第2
の光学格子15に対応する光電素子35A、35Bから
の出力信号a2+ bg O位相差θ2を求めれば検
出範囲長しは決定されているから原点Tからの絶対的変
位IXを求めることができる。
10の第1の光学格子13に対応する光電素子33A、
33Bからの出力信号a、、b、の位相差θ1 と第2
の光学格子15に対応する光電素子35A、35Bから
の出力信号a2+ bg O位相差θ2を求めれば検
出範囲長しは決定されているから原点Tからの絶対的変
位IXを求めることができる。
ここに、θ1 とθ2とは式(4)と(6)とから・・
・ ・・・ Ql として求められる。
・ ・・・ Ql として求められる。
さらに、この実施例では一層精度を安定化させるためθ
1 と02とを独立させるのでなく、相関関数をもたせ
絶対的変位Xを求めるよう形成している。
1 と02とを独立させるのでなく、相関関数をもたせ
絶対的変位Xを求めるよう形成している。
θ2と01 とを独立して求めて単に式(9)に基づい
た減算をしたのでは、各光′rL素子33A、33B、
35ノ\、35Bからの出力信号aI+ bl+a、
、b、は各光学格子13.15のピッチP。
た減算をしたのでは、各光′rL素子33A、33B、
35ノ\、35Bからの出力信号aI+ bl+a、
、b、は各光学格子13.15のピッチP。
P−ΔP毎のサイクリックな波形となるため桁落が生じ
る虞れがあるからである。
る虞れがあるからである。
そこで、新たにaとbとを定義する。
a=b、’am−a、−b。
・・・・・・ Qll
b= bl ・ bl + a+ ・
atこの弐〇llに式(2)、 +41を代入すれば、
a=ABsin(θ2−θ霞 b=ABcos(θ2−θl) =tan(θ2−01) ・・・・・・ a乃
ゆえに、θ2−θ、 =tan−’ □・・・・・
・ a′5として、逆正接関数演算によって充電素子3
5A。
atこの弐〇llに式(2)、 +41を代入すれば、
a=ABsin(θ2−θ霞 b=ABcos(θ2−θl) =tan(θ2−01) ・・・・・・ a乃
ゆえに、θ2−θ、 =tan−’ □・・・・・
・ a′5として、逆正接関数演算によって充電素子3
5A。
35Bと33A、33Bとの紐間の位相差(θ2−01
)を求めるよう形成されている。
)を求めるよう形成されている。
ところで、式側から明らかのi[!Iす、組間位相差(
θ2−01)は第4図(A)に見られるように検出範囲
長り内でθ〜2πまで変化するから、図で点Qまでの変
位X゛は同(B)に示す絶対値):の近似値である。従
って、式(9)と同様に2 π
b が成立する。
θ2−01)は第4図(A)に見られるように検出範囲
長り内でθ〜2πまで変化するから、図で点Qまでの変
位X゛は同(B)に示す絶対値):の近似値である。従
って、式(9)と同様に2 π
b が成立する。
さらに、たちかえって、第4図(B)に示したように両
スケール10.20の相対移動量の絶対値Xは広範囲変
位量X、と狭範囲変位量ΔX、を決定しなければならな
い(弐11G参照)。
スケール10.20の相対移動量の絶対値Xは広範囲変
位量X、と狭範囲変位量ΔX、を決定しなければならな
い(弐11G参照)。
ここに、式f31 、αΦからメインスケール10の第
1の光学格子13のピッチP内での狭範囲変位量ΔX、
を定めることは可能だが、第1の光学格子13、第1の
参照光学格子23A、23B、光電素子33A、33B
に基づく位相差θ1はピッチPの周期関数であるからい
ずれ(原点Tから数えて何番目)のピッチ内であるかは
特定することができない。
1の光学格子13のピッチP内での狭範囲変位量ΔX、
を定めることは可能だが、第1の光学格子13、第1の
参照光学格子23A、23B、光電素子33A、33B
に基づく位相差θ1はピッチPの周期関数であるからい
ずれ(原点Tから数えて何番目)のピッチ内であるかは
特定することができない。
そこで、上記位相差θ、を□以上〜(2π+□)以下に
位相づれさせた値θ1“に変換する。すると式(3)に
R僚的に とおけば、 が成立する。
位相づれさせた値θ1“に変換する。すると式(3)に
R僚的に とおけば、 が成立する。
一方、原点Tから当該時点までに通過した第1の光学格
子13のピッチPの敗nは、第4図の関゛係からX’
/Pを越えない数でかつ整数であること明らかである。
子13のピッチPの敗nは、第4図の関゛係からX’
/Pを越えない数でかつ整数であること明らかである。
ただし、例外的に第4図において、X゛の測定分解能Δ
Lが同(B)で2π−0に位相が変化する領域を含む場
合であってΔXLが2πより0に整数に1を加えればよ
い。
Lが同(B)で2π−0に位相が変化する領域を含む場
合であってΔXLが2πより0に整数に1を加えればよ
い。
ここに、式aaの通りx’=r(θ冨−θI)の関数で
あり、P、ΔLは設計値で定められている値であり、か
つ01′はθ、から一義的に位相をづらせて求められた
。
あり、P、ΔLは設計値で定められている値であり、か
つ01′はθ、から一義的に位相をづらせて求められた
。
従って・n=f (θを一θ1.ΔXL )の関数と
して求めることができる。
して求めることができる。
以上からCPU55内で前記式αeのX=np+ΔX、
を演算することによって、両スケール10゜20の相対
移動変位量の絶対値Xを求めることができる。
を演算することによって、両スケール10゜20の相対
移動変位量の絶対値Xを求めることができる。
次に、この実施例の作用について説明する。
例えば、工作機械のベット等静止体にメインスケール1
0を固定し、非平行照明系40、光電変換器30ととも
に一体化してインデックススケール20をスライダ等可
動体に固定する。従って、工作機械を運転することによ
って、メインスケール10とインデックススケール20
とが相対移動すると、各光電素子33A、33B、35
A、35Bからは電気信号”l + bI r a
R+ btが出力され、信号aI+ b、 とa2
+ b2 とはサイクルが光学格子13.15のピッ
チ差相当分だけ異なり、かつ信号a、 とす、および
a、とb2とはそれぞれ90度の位相差を生じる。
0を固定し、非平行照明系40、光電変換器30ととも
に一体化してインデックススケール20をスライダ等可
動体に固定する。従って、工作機械を運転することによ
って、メインスケール10とインデックススケール20
とが相対移動すると、各光電素子33A、33B、35
A、35Bからは電気信号”l + bI r a
R+ btが出力され、信号aI+ b、 とa2
+ b2 とはサイクルが光学格子13.15のピッ
チ差相当分だけ異なり、かつ信号a、 とす、および
a、とb2とはそれぞれ90度の位相差を生じる。
ここで、第3図に示したように両スケール13゜15の
相対移動変位量の絶対値を表示手段60に表示または制
御装置(図示省略)にフィードバック信号として出力し
たいときに作動するタッチセンサ65からのトリガが入
力される(ステップ10)と、CPU55からサンプル
ホールド回路5!ヘホールド指令が発せられる。
相対移動変位量の絶対値を表示手段60に表示または制
御装置(図示省略)にフィードバック信号として出力し
たいときに作動するタッチセンサ65からのトリガが入
力される(ステップ10)と、CPU55からサンプル
ホールド回路5!ヘホールド指令が発せられる。
サンプルホールド回路51はプリアンプ37A。
37B、38A、38Bの出力段側からアナログ的な電
気信号aI+ bl とam+ biをホールド
(ステップ12)する。
気信号aI+ bl とam+ biをホールド
(ステップ12)する。
次いで、ステップ14の如くマルチレクサ52がCPU
55からの指令に基づいて電気信号a1、blとat、
blを取り込み、A/D変換器53でデジタル信号に変
換した後CPU55に入力される。
55からの指令に基づいて電気信号a1、blとat、
blを取り込み、A/D変換器53でデジタル信号に変
換した後CPU55に入力される。
以下、CPU55では、前記式〇(至)、 09に基づ
いて第1の光学格子13に相応する光電素子33A。
いて第1の光学格子13に相応する光電素子33A。
33Bからの位相差θ、と狭範囲変位量ΔX、とを算出
する(ステップ16)、つまり、第1の光学格子13の
当、該ピッチP内での変位量を絶対値として求める。も
とより、位相差θ1はいずれかのピッチ内であるかを特
定するために□以上〜(2π+□)以下の値である01
′にCPU55内で変換されている。
する(ステップ16)、つまり、第1の光学格子13の
当、該ピッチP内での変位量を絶対値として求める。も
とより、位相差θ1はいずれかのピッチ内であるかを特
定するために□以上〜(2π+□)以下の値である01
′にCPU55内で変換されている。
また、ステップ18では、弐〇〇、(転)に基づいた定
義信号a、bとこれらと光電素子35A、35Bと33
A、33Bとの各位相差に基づく組間位相差θ2−θ、
との正接関数を定め、逆正接関数演算して組間位相差θ
2−θ1を算出する。
義信号a、bとこれらと光電素子35A、35Bと33
A、33Bとの各位相差に基づく組間位相差θ2−θ、
との正接関数を定め、逆正接関数演算して組間位相差θ
2−θ1を算出する。
ここに、前記n=f (θ2−θ1.ΔX、)に基づい
て第4図に相当するそれまでに通過した第1の光学格子
13のピッチPの数nを求める(ステップ20)。
て第4図に相当するそれまでに通過した第1の光学格子
13のピッチPの数nを求める(ステップ20)。
従って、ステップ22において、弐〇〇を演算すること
により両スケール10.20の相対移動変位量の絶対値
Xを求める。この絶対値Xは表示手段60に表示され、
必要によって外部へ出力される。ここに、タンチセンサ
65で指定した所望時点の絶対変位量を検出、表示する
ことができる。
により両スケール10.20の相対移動変位量の絶対値
Xを求める。この絶対値Xは表示手段60に表示され、
必要によって外部へ出力される。ここに、タンチセンサ
65で指定した所望時点の絶対変位量を検出、表示する
ことができる。
この実施例では、メインスケール10の第1の光学格子
13のピッチPを400 μm1第1の光学格子13と
第2の光学格子15との関係を検出範囲長L=80mと
して定め、かつN=200に設定しているから検出範囲
長(L=80mm)以内を2μmの分解能をもって絶対
値検出できる。
13のピッチPを400 μm1第1の光学格子13と
第2の光学格子15との関係を検出範囲長L=80mと
して定め、かつN=200に設定しているから検出範囲
長(L=80mm)以内を2μmの分解能をもって絶対
値検出できる。
従って、この実施例によれば、メインスケール10にそ
れぞれピッチ(P、P−ΔP)の異なる複数列の光学格
子(13,l 5)を設け、これら光学格子(13,1
5)との関係から求めた組間位相差(θ2−θ、)を利
用して検出範囲長(L)内でメインスケールIOとイン
デックススケール20との相対移動変位量を絶対値とし
て検出することができる。ここに、アブソリュート方式
の光学式変位検出装置を確立できるから精度的、運用技
術的にも産業上の利用性を飛躍的に拡大することができ
る。
れぞれピッチ(P、P−ΔP)の異なる複数列の光学格
子(13,l 5)を設け、これら光学格子(13,1
5)との関係から求めた組間位相差(θ2−θ、)を利
用して検出範囲長(L)内でメインスケールIOとイン
デックススケール20との相対移動変位量を絶対値とし
て検出することができる。ここに、アブソリュート方式
の光学式変位検出装置を確立できるから精度的、運用技
術的にも産業上の利用性を飛躍的に拡大することができ
る。
このことは、途次におけるノイズの影響もなくその累積
もないから安定した所定精度が保障され、また、連続的
追従を要しないから応答速度が高く迅速測定を図れ、さ
らに、所定のあるいは偶然の?8a遮断があったとして
も都度の原点合せ作業をすることなくただちに再測定す
ることができる等、従来のインクレメンタル方式の欠点
並びに不利不便を一掃するということを意味するもので
ある。
もないから安定した所定精度が保障され、また、連続的
追従を要しないから応答速度が高く迅速測定を図れ、さ
らに、所定のあるいは偶然の?8a遮断があったとして
も都度の原点合せ作業をすることなくただちに再測定す
ることができる等、従来のインクレメンタル方式の欠点
並びに不利不便を一掃するということを意味するもので
ある。
従って、従来の如くランダムパターンを用いた絶対原点
構出手段等は不要となる。アブソリュート方式としたか
らであり、また複数の検出範囲長しに亘るときは、その
個数を数えて原点を特定することができるからである。
構出手段等は不要となる。アブソリュート方式としたか
らであり、また複数の検出範囲長しに亘るときは、その
個数を数えて原点を特定することができるからである。
また、メインスケールlOに設けた複数列の光学格子(
13,15)は、ガラス板上にエツチング手法等によっ
て物理的に固定化されたものとされ、かつ異なるピッチ
の光学格子間に関する組間位相差と当該−つの光学格子
内に関する位相差とを利用して変位量の絶対値を検出す
るものと形成されているので、例えば従来インクレメン
タル方式の装置において1ピッチ内に生ずる波形を抵抗
分割等による電気的細分化していた場合と異なり、両ス
ケール10.20すなわち採用する工作機械との対応整
合が執られたものであるから、真の高精度測定を保障す
ることができる。
13,15)は、ガラス板上にエツチング手法等によっ
て物理的に固定化されたものとされ、かつ異なるピッチ
の光学格子間に関する組間位相差と当該−つの光学格子
内に関する位相差とを利用して変位量の絶対値を検出す
るものと形成されているので、例えば従来インクレメン
タル方式の装置において1ピッチ内に生ずる波形を抵抗
分割等による電気的細分化していた場合と異なり、両ス
ケール10.20すなわち採用する工作機械との対応整
合が執られたものであるから、真の高精度測定を保障す
ることができる。
さらに、組間位相差を求めるに両光学格子13゜15に
関与した各位相差を減算して算出するのみならず逆正接
関数演算によって求めることができるよう形成されてい
るから両光学格子13.15との相関関係を密接不可分
とすることによって桁落のない検出ができる。この点か
らも高精度が保障される。
関与した各位相差を減算して算出するのみならず逆正接
関数演算によって求めることができるよう形成されてい
るから両光学格子13.15との相関関係を密接不可分
とすることによって桁落のない検出ができる。この点か
らも高精度が保障される。
さらにまた、非平行照明系40と第2と第3のスケール
を兼ねるインデックススケール20を通してメインスケ
ール10からの反射光を所定処理する変位検出装置であ
るから、両スケール10゜20間のクリアランスCを大
きくすることは保障されている。
を兼ねるインデックススケール20を通してメインスケ
ール10からの反射光を所定処理する変位検出装置であ
るから、両スケール10゜20間のクリアランスCを大
きくすることは保障されている。
加えて、非平行照明系40による非平行照明方式では、
その組間位相差が光学格子の位置関係だけで決定される
ので、光源(41,42)の設置位置の許容度が大きく
、特に変位検出装置全体を小型化でき、産業上の利用に
極めて利益が大きいという効果がある。
その組間位相差が光学格子の位置関係だけで決定される
ので、光源(41,42)の設置位置の許容度が大きく
、特に変位検出装置全体を小型化でき、産業上の利用に
極めて利益が大きいという効果がある。
なお、この実施例では、メインスケール10の第1の光
学格子13のピッチPが400μm、第2の光学格子1
5のピッチP−ΔPが398 μmであリ、検出範囲長
しが3Qmmの範囲内で分割数Nを200 として2μ
mの分解能で検出できるよう形成したが、これらの数値
的事項は任意的に選択することができ、分解能0.1μ
m以下とすることもできる0例えば、第1の光学格子1
3のピッチPと第1の参照光学格子23A、23Bのピ
ッチqとをともに40pm (P=q=40μm) 、
検出範囲長L ’fr 5 +n (L = 5 +n
)すなわち分割数nを125(N=125)に設定す
れば、この場合にはプリアンプ37A、37B、38A
、38Bからの出力信号のサイクルピッチは光学的にP
/2となるので結果として20μm (=P/2)を1
25分割することで0.16μmの分解能をもったアブ
ソリュート尋負出ができる。
学格子13のピッチPが400μm、第2の光学格子1
5のピッチP−ΔPが398 μmであリ、検出範囲長
しが3Qmmの範囲内で分割数Nを200 として2μ
mの分解能で検出できるよう形成したが、これらの数値
的事項は任意的に選択することができ、分解能0.1μ
m以下とすることもできる0例えば、第1の光学格子1
3のピッチPと第1の参照光学格子23A、23Bのピ
ッチqとをともに40pm (P=q=40μm) 、
検出範囲長L ’fr 5 +n (L = 5 +n
)すなわち分割数nを125(N=125)に設定す
れば、この場合にはプリアンプ37A、37B、38A
、38Bからの出力信号のサイクルピッチは光学的にP
/2となるので結果として20μm (=P/2)を1
25分割することで0.16μmの分解能をもったアブ
ソリュート尋負出ができる。
かかる任意性の意味においてメインスケール10には2
列の光学格子13.15を設けたが3列以上でも同様参
照光学格子23A、23B、25A、25Bをそれぞれ
90度位相づれさせた各2個から形成したが、要は対応
するメインスケール10の光学格子13.15との関係
において位相差を生じさせることができればピッチqが
微妙に異なるいわゆるバーニヤ方式の参照光学格子を採
用することによって各1個と形成することもできる。さ
らに、光学格子13の上下に光学格子15を配設して上
下の位相差の平均をとることにより、インデックススケ
ール20のメインスケール10に対する傾きの補正も可
能である。
列の光学格子13.15を設けたが3列以上でも同様参
照光学格子23A、23B、25A、25Bをそれぞれ
90度位相づれさせた各2個から形成したが、要は対応
するメインスケール10の光学格子13.15との関係
において位相差を生じさせることができればピッチqが
微妙に異なるいわゆるバーニヤ方式の参照光学格子を採
用することによって各1個と形成することもできる。さ
らに、光学格子13の上下に光学格子15を配設して上
下の位相差の平均をとることにより、インデックススケ
ール20のメインスケール10に対する傾きの補正も可
能である。
また、検出装置自体を、非平行照明系を用いた反射型の
直線型としたが、直線型でなくロータリー型としても本
発明は適用される。また、変位検出時を特定するために
タッチセンサ65を用いたがこれに限定されない。また
、一定のサンプリング時間毎に絶対変位検出回路50で
変位検出できるようすることもできる。
直線型としたが、直線型でなくロータリー型としても本
発明は適用される。また、変位検出時を特定するために
タッチセンサ65を用いたがこれに限定されない。また
、一定のサンプリング時間毎に絶対変位検出回路50で
変位検出できるようすることもできる。
さらに、検出範囲長しはメインスケール10とインデッ
クススケール20との相対移動方向に対する長さである
が、本検出装置は変位を検出rるものであって測定対象
を長さ、幅等に限定することでなく、圧力、重量等であ
ってもよいものである。
クススケール20との相対移動方向に対する長さである
が、本検出装置は変位を検出rるものであって測定対象
を長さ、幅等に限定することでなく、圧力、重量等であ
ってもよいものである。
もとより、スケールにバイナリコードやグレイコードを
用いてアブソリュート方式を具現化した場合と比較すれ
ば、本発明の場合、非接触かつクリアランスが大である
ばかりか格子の列数は著しく少なくて済み、ピッチも狭
小とできかつダイナミックレンジ(検出範囲/分解能)
の高く、その実用的価値において格段の差異あることが
理解される。さらに、検出範囲長りの通過ポイントを計
数し、複数の検出範囲長りにわたる長大化検出をするこ
とも容易である。
用いてアブソリュート方式を具現化した場合と比較すれ
ば、本発明の場合、非接触かつクリアランスが大である
ばかりか格子の列数は著しく少なくて済み、ピッチも狭
小とできかつダイナミックレンジ(検出範囲/分解能)
の高く、その実用的価値において格段の差異あることが
理解される。さらに、検出範囲長りの通過ポイントを計
数し、複数の検出範囲長りにわたる長大化検出をするこ
とも容易である。
本発明は、両スケール間のクリアランスを大きく維持で
きるとともに高分解能、高精度で検出範囲の広いアブソ
リュート方式の光学式変位検出装置を提供できるという
効果を有する。
きるとともに高分解能、高精度で検出範囲の広いアブソ
リュート方式の光学式変位検出装置を提供できるという
効果を有する。
第1図は本発明に係る光学式変位検出装置の一実施例を
示す全体構成図、第2図は同しく要部拡大図、第3図は
同じく絶対変位量を演算するためのフローチャート、第
4図は同じく波形説明図、第5図および第6図は従来の
反射型の光学式変位検出装置の概略構成図であり、第5
図は3つの光学格子を用いたもので、第6図は2つの光
学格子を用いた型である。 10・・・メインスケール、13・・・第1の光学格子
、15・・・第2の光学格子、20・・・第2および第
3のスケールを兼ねるインデックススケール、23・・
・第1の参照光学格子、25・・・第2の参照光学格子
、30・・・光電変換器、40・・・非平行照明系、5
0・・・絶対変位検出回路。
示す全体構成図、第2図は同しく要部拡大図、第3図は
同じく絶対変位量を演算するためのフローチャート、第
4図は同じく波形説明図、第5図および第6図は従来の
反射型の光学式変位検出装置の概略構成図であり、第5
図は3つの光学格子を用いたもので、第6図は2つの光
学格子を用いた型である。 10・・・メインスケール、13・・・第1の光学格子
、15・・・第2の光学格子、20・・・第2および第
3のスケールを兼ねるインデックススケール、23・・
・第1の参照光学格子、25・・・第2の参照光学格子
、30・・・光電変換器、40・・・非平行照明系、5
0・・・絶対変位検出回路。
Claims (4)
- (1)複数列の光学格子が設けられるとともに各列毎の
光学格子ピッチが異なるものと形成されているメインス
ケールと、 前記メインスケールの各列光学格子に対応させた複数列
の参照光学格子が設けられ光学系上前記メインスケール
に前置される第2のスケールと後置される第3のスケー
ルとを兼ねるインデックススケールと、 前記インデックススケールを介し前記メインスケールに
非平行光を照射するための非平行照明系と、 前記メインスケールの各列光学格子毎に2個1組として
対応配設され各組毎に前記インデックススケールを介し
前記メインスケールから反射された反射光を受けて90
度位相のずれた電気信号を出力する複数組の光電変換器
と、 前記光電変換器の各組からそれぞれ出力される電気信号
間の組間位相差を求めるとともにこの組間位相差を利用
して広範囲変位量を求め、かつ前記メインスケールのい
ずれか1つの列の光学格子に対応された組の光電変換器
からの前記電気信号を利用して当該光学格子の1ピッチ
内における狭範囲変位量を求め、該広範囲変位量と狭範
囲変位量との和をもって前記メインスケールとインデッ
クススケールの相対移動変位量の絶対値を検出する絶対
変位検出回路とを備えてなる光学式変位検出装置。 - (2)前記特許請求の範囲第1項において、前記インデ
ックススケールの参照光学格子が、前記メインスケール
の光学格子のピッチをP_1、P_2、・・・としたと
き、2P_1、2P_2、・・・のピッチとされて形成
されている光学式変位検出装置。 - (3)前記特許請求の範囲第1項において、前記インデ
ックススケールの参照光学格子が、前記メインスケール
の光学格子のピッチと同等のピッチとされて形成されて
いる光学式変位検出装置。 - (4)前記特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれ
かにおいて、 前記絶対変位検出回路が、前記組間位相差を2組の前記
光電変換器から出力される電気信号から求めた値を前記
組間位相差の正接関数とし、この正接関数を逆正接演算
して算出するよう形成されている光学変位検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20471186A JPS6358212A (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | 光学式変位検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20471186A JPS6358212A (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | 光学式変位検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6358212A true JPS6358212A (ja) | 1988-03-14 |
Family
ID=16495044
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20471186A Pending JPS6358212A (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | 光学式変位検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6358212A (ja) |
-
1986
- 1986-08-29 JP JP20471186A patent/JPS6358212A/ja active Pending
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