JPS6360271A - アルミニウム蒸発源装置 - Google Patents

アルミニウム蒸発源装置

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JPS6360271A
JPS6360271A JP20442586A JP20442586A JPS6360271A JP S6360271 A JPS6360271 A JP S6360271A JP 20442586 A JP20442586 A JP 20442586A JP 20442586 A JP20442586 A JP 20442586A JP S6360271 A JPS6360271 A JP S6360271A
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JP
Japan
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crucible
graphite
susceptor
source device
vitrocarbon
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Pending
Application number
JP20442586A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiki Nakabachi
中鉢 善樹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Faurecia Clarion Electronics Co Ltd
Original Assignee
Clarion Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6360271A publication Critical patent/JPS6360271A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、イオン化クラスタービーム装置(以下、IC
Bと略称する)モレキュラビームエピタキシー装置(以
下、MBEと略称する)等の蒸発源として使用されるア
ルミニウム蒸発源装置に関するものである。
[発明の概要コ 本発明は、電極と接する第1の外ルツボと、このルツボ
と別個に構成され、それに接合されて、中空形状をなす
第2のルツボと、第1・のルツボと密接しないように第
2のルツボに当接し、しかも、ヴィトロカーボン又はグ
ラッシーカーボンよりなる内ルツボとで蒸発源装置を構
成し、アルミニウムAllを蒸発させるようした。
[従来の技術] ICBは、真空装置内を10−” 10−7Torr程
度の高真空に排気し、蒸発源を1〜2rrn程度の小孔
を有する密閉型ルツボとし、このルツボ内の蒸発材料の
蒸気圧が数Torrに達するまでルツボを加熱し、蒸気
物質を小孔より噴出させる。この時、急激な体fat膨
張に伴い、断熱膨張をおこし、温度が下がる。この効果
により蒸発原子は500〜2000個よりなる、緩く結
合した塊状原子集団(クラスタ)となる。このクラスタ
が基板に到達する途中に、電子wI撃によりイオン化す
るが、この場合、クラスタは緩く結合した集団であり、
2個以上の原子がイオン化すると、この結合は破壊して
しまい、そのため、クラスタは常に1価のイオンである
と言われている。
この時の電子シャワーによるイオン化率は、測定の結果
、Ie=150mAで10〜15%、Ie=300mA
で30〜35%であると言われている。このイオン化さ
れたクラスタを加熱し、基板に到達せしめるが、数kV
で加速しても、クラスタは500〜2000個よりなる
原子集団であり、原子1個当りのエネルギーは数eVと
なり。
真空蒸着に比べてやや大きく、また、スパッタに比較し
てやや小さい。また、ICBの特徴は加速電圧により、
イオン化エネルギーを自由に制御し、蒸発物質に適した
エネルギーで蒸着が可能となるとともに、基板上にクラ
スタが衝突した際にクラスタが分解して生ずるマイグレ
ーション効果も膜形成に良好な結果を与える。
このようなICBについては、例えば、日経エレクトロ
ニクス、1981年12月7日号188頁に示され、近
年、その制御性を生かして1例えばセミコンダクタ・ワ
ールド(S emicondFJctorWorld)
 1985年11月号48頁に示すように、AQ蒸着等
、低温シリコンプロセスへの応用も期待されている。
また例えば、日経マイクロデバイス、1985年10月
号においても、Al1Iをクラスタイオンビーム法でS
i基板上に成膜し、5i(111)基板上に室温にてエ
ピタキシャル膜が得られることを示している。アモルフ
ァス基板上では、<111>配向のAQが得られるが、
配向性は極めて良好である。また、配向性の良好な膜は
ど、エレクトロマイグレーションは小さく、この点、I
CBで作成したAQ膜は極めて信頼性が高く、かつ、室
温にてエピタキシャル成長することにより、絶縁物や電
極等をすべてエピタキシャル膜にて作成できる可能性も
ある。従って、ICBを用いたAQ蒸着は、その応用の
点で、今後非常に重要なプロセスになると考えられる。
他方、MBEにおいても、AQはHEMTにおけるGa
As−AQGaAsヘテロ構造等への蒸発源として重要
である。
しかしながら、AQは高温で非常に活性であり、次のよ
うに、蒸発源に種々の制約をもたらす。
(1)AQは反応性が大きく、特に酸素と反応しやすい
ので、CO等のルツボからの脱ガスが問題となる。
(2)1200℃以上において、AQは非常に濡れやす
くなり、はとんどすべてのルツボ材料において這い上が
り現象を示す。
現在、MBE用のAQ蒸発源として使用されているのは
、主に、パイロリティック窒化ホウ素(P B N)で
ある。PBNは、他の材料に比較して分解温度が比較的
高く、また、反応性も小さい。
特に、構造がち密であるため、他のセラミックス材料に
比べて脱ガスが極めて少ない。
しかしながら、一般に知られているように、PBNにお
いてもAQは這い上がり現象を示す。
そのために、次のような種々の対策がとられている。
(1)クヌーセンセルにおいて、温度勾配をつけ。
噴出孔近傍を高温に保持しておく。AQは高温部より低
温部に向けて這い上がる性質を持っているため、この手
法は有効である。この温度勾配は、ヒータの巻線密度に
より調整したり、高周波加熱により、噴出孔近傍の壁面
を薄くして調整する。
(2)ルツボ構造を2重にする。
(3)第4図に示すようにルツボの頭頂部につば1をつ
け、這い上がったAQをこのつばの部分で冷却し、外に
あふれ出ることはない。第1図は、MBEで使用される
PBNルツボの例である。
しかしながら、上記(1)は容量の小さいルツボや、傍
熱を必要とするルツボには適せず、高周波加熱は装置が
複雑となり、上記(2)は本質的な問題解決とはならず
、また、上記(3)はオープンタイプでのみ可能であり
、エフニージョンセルの場合、適用できない。
以上は、問題点(2)の這い上がり現象に対する対応策
である6 問題点(1)の脱ガスについては次のような対策がとら
れる。
(1)ルツボ容量を大きくシ、原料の交換頻度を少なく
する。
(2)脱ガスを充分に行う。
(3)ロードロックを用いて真空を破らない。
この他にも、PBNは、AQにアタックされたり、マイ
クロクラック内に入り込んだ溶融Aflが凝縮し、次の
昇温時に膨張してクラックを生じたりする。したがって
、PBNもAQ蒸発源として適していない。
[発明が解決しようとする問題点] ICBにおいては、MBEより条件が厳しくなる。
(1)必要な蒸気圧を得るために、ルツボの温度は15
00〜1600℃程度まで必要である。
(2)原理上、オープンタイプは使用できない。
(3)噴出孔のサイズファクタが重要な要素となり、A
Qの這い上がりや、凝縮(孔周辺での)は再現性に影響
を与える。
特に、噴出孔より這いだしたAflは、面蒸発源となり
、クラスタを形成しない。
そこで1本発明者らは、種々の蒸発材料、すなわち、コ
ンポジットBN (CBN)、グラファイト、PBNの
3種について、実験により検討を行った。
(A)BN 第5図に示すように、周囲をグラファイトのサセプタ2
で覆い、また、噴出孔を有するBNのトッププレートを
グラファイトのキャップ3で抑え込む構造となっている
。なお、第5図において。
4は電極、5はBNルツボ、6はBN拡散板、7はBN
キャップを示す。
第5図に示すルツボで実験した結果、次の点が明らかと
なった。
■ 1200℃以」二に加熱すると、残留ガス中にN2
が増加し、温度を上げるに従い、その分圧は上昇する。
二〇N2はBHの分解によるものと考えられる。
■ AQはルツボ内を這い上がり、外にあふれ出す。こ
の現象はルツボ温度を1200℃以上にあげると表れる
■ 這い出したA QはBNとグラファイトの間に入り
込み、冷却時に凝結してグラファイトを破壊する。
■ AQはBNと反応し、銀黒色の反応物を形成する。
この反応物の主たるものはAfiであることが、X線デ
ィクラフト法で明らかになった。
■ AΩがすべてあふれ出ると、AflNの分解により
生じたAQが主たる蒸発物となるが、このAΩにより蒸
着されたものは、銀灰色を呈し、鏡面を有しない。
以上の結果により、第2図のような、BNを用いた構造
のルツボはAQの蒸発に適さず、また、BN自体、AQ
の蒸発に適さない。
(B)グラファイト 第6図のように、AQ、03で形成されたブリム(br
im) 8を取付けたグラファイトルツボ9を用いて実
験を行った。この実験によれば、確かに、AQに対する
バリア(barrier)の効果は見られるが、1回目
の蒸発後、AQ203のブリム8は目視上かなり孔が多
くなり、2回目の蒸発に際しては、AQにぬれてしまい
、バリアの効果を示さなくなる。したがって、AQ、0
3のブリムは使い捨てにする必要がある。
(C)PBN 第5図と同じ構造のルツボを用い、P B Nを使用し
て実験した結果、次のように、PBNもA Q蒸発用と
して適さないことがわかった。
(1)AQの這い上がりが極めて顕著である。
(2)高温にて、AQにアタックされる。実験では、1
500℃程度の高温において4回使用した後、ルツボ底
部に小さな孔が見出される。
(3)ルツボ表面にAuの反応物が見られ、PBNもA
Qと反応をおこす。
以上のように、PB1’1AflB1用として適さない
本発明の目的は、AQ蒸発に適した構造を有する蒸発源
装置を提供することにある。
[問題点を解決するための手段〕 このような目的を達成するために、本発明では、熱′重
子衝撃に必要な電極と、この電極と接する第1の外ルツ
ボ部と、このルツボ部と別個に構成され、それに接合さ
れて中空形状をなす第2の外ルツボ部と、第1のルツボ
部から隔離され、第2の外ルツボ部に当接し、かつ、ヴ
ィトロカーボン又はグラッシーカーボンからなる内ルツ
ボとからなる蒸発源装置に特徴がある。
[作用コ 本発明では、ルツボを2重構造とし、内ルツボにヴィト
ロカーボン又はグラッシーカーボンを使用しているので
、A Q蒸発に適した構造となっている。
[実施例] 第7図に示すように、グラファイト9で囲んだグラッシ
ーカーボンルツボ10を用いて実験した結果、このルツ
ボを用いてもAβを蒸発させると。
ある時点で蒸発レートが急激に減少する。この時まで、
Aflのあふれだしは1jt3iQされなかった。この
ルツボを降温し、分解して見ると、上部のグラッシーカ
ーボンの穴の周辺に光沢性を保持したAQが凝縮してお
り、(部分11)、目づまりをおこしている。これは、
上部と下部のグラツシーカーボンに温度差が生じ、高温
部の蒸気圧に達したAQが低温部の部分に凝縮していっ
たものと思われる。実際、ルツボ本体とキャップの部分
の温度を測定すると、傍熱状態で10〜20℃、熱な子
衝撃時に20〜30’Cの温度差が見られる。
この原因として、次のことが考えられる。
(1)キャップに比べて、本体の方が容積が大きく、熱
容量も大であるので、ネジ部12に生じた熱抵抗にて、
キャップの低温化を引き起こす。
(2)熱電子衝撃時には、ネジ部12の接触抵抗がきい
てきて、印加電圧の差を生ずる。
これを解決するには、キャップに相当する部分の容積を
大きくし、また、より高温である下部と切り離す必要が
ある。
第1図は、このような問題を解決する、本発明の蒸発源
装置の一例の構造を示すものである。
図に示すように、本発明においては、熱電子衝撃に必要
な電極21に接して第1のグラファイトサセプタ(外ル
ツボ)22があり、このサセプタ22とネジ部23によ
り第2のグラファイトサセプタ(外ルツボ)24が接合
されている。また、このグラファイトサセプタ24に当
接し、かつ、グラファイトサセプタ22とは、グラファ
イトからなる底上げ板25を介して隔離された、グラッ
シーカーボンまたはヴィトロカーボンからなる内ルツボ
26が設けられている。さらに、内ルツボ26の上部に
グラファイトからなる噴出孔キャップ27が配置されて
いる。
第2図及び第3図は本発明の蒸発源装置の他の実施例を
示すものである。
本発明では1次の2つの特徴部分からなっている。
(1)ルツボを2重構造とし、内ルツボにヴィトロカー
ボンまたはグラッシーカーボンを使用する。
外ルツボは、脱ガス特性等を考慮して適当なものでよい
が、Al1との反応性の小さいものが望ましい0本発明
者の実験によれば、ヴィトロカーボンまたはグラッシー
カーボンはAQとの反応もなく、また、AQの這い上が
り現象も見られない。ただし、これらは、機械加工性が
悪く、形状の自由度が少ない。そこで、本発明では、ル
ツボを2重構造とし、加熱部に形状の自由度をもたせる
(2)均熱性のとれる構造にする。
第7図に示すルツボを用いた実験の結果からも。
上部と下部のグラッシーカーボンに温度差が生じること
がわかっており、この問題を解決するため、高温である
下部(電極部分)を上部(内ルツボ)と切り離している
[発明の効果] 以上述べたように、本発明によれば、ルツボを2重構造
とし、内ルツボとしてヴィトロカーボンまたはグラッシ
ーカーボンを使用し、かつ、ルツボ内の均熱性を保持す
るように、内ルツボの周囲を熱容量の大きい外ルツボに
接触させ、また、高温部分である電極部分との接触を阻
止する構造としているので、Affの蒸発に適した装置
が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による蒸発源装置の一実施例の構造図、
第2図及び第3図はそれぞれ本発明による蒸発源装置の
他の実施例の構造図、第4図〜第7図は従来の蒸発源装
置を説明するための構造図である。 21・・・電極、 22.24・・・グラファイトサセプタ、21・・・内
ルツボ。 特許出願人     クラリオン株式会社第1図 24;グラファイトづCブタ 第2図      第3図 第4図 第5図      第6図 3;グラフフィト穴々9ブ 2;グラファイトルプ〆 第7図 11、Jiiしf−AL

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 熱電子衝撃に必要な電極と、該電極と接する第1の外ル
    ツボ部と、該第1の外ルツボ部と別個に構成され、それ
    に接合されて中空形状をなす第2の外ルツボ部と、上記
    第1の外ルツボ部から隔離され、上記第2の外ルツボ部
    に当接し、かつ、ヴィトロカーボン又はグラッシーカー
    ボンからなる内ルツボとからなることを特徴とするアル
    ミニウム蒸発源装置。
JP20442586A 1986-08-29 1986-08-29 アルミニウム蒸発源装置 Pending JPS6360271A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0364454A (ja) * 1989-08-01 1991-03-19 Mitsubishi Electric Corp 蒸気発生源用るつぼ
JP2013179006A (ja) * 2012-02-29 2013-09-09 Denso Corp 電池用パッケージ

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0364454A (ja) * 1989-08-01 1991-03-19 Mitsubishi Electric Corp 蒸気発生源用るつぼ
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