JPS6361945B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6361945B2 JPS6361945B2 JP54130054A JP13005479A JPS6361945B2 JP S6361945 B2 JPS6361945 B2 JP S6361945B2 JP 54130054 A JP54130054 A JP 54130054A JP 13005479 A JP13005479 A JP 13005479A JP S6361945 B2 JPS6361945 B2 JP S6361945B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phenyl
- formula
- substituted
- alkyl
- nitrophenyl
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D263/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
- C07D263/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings
- C07D263/30—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D263/34—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0622—Heterocyclic compounds
- G03G5/0624—Heterocyclic compounds containing one hetero ring
- G03G5/0627—Heterocyclic compounds containing one hetero ring being five-membered
- G03G5/0631—Heterocyclic compounds containing one hetero ring being five-membered containing two hetero atoms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
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- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0622—Heterocyclic compounds
- G03G5/0644—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings
- G03G5/0661—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings in different ring systems, each system containing at least one hetero ring
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Description
幾つかの４−クロロオキサゾール類及びそれら
の製造方法は文献から既に知られている。例えば
４−クロロ−２，５−ジフエニルオキサゾール
は、Ｎ−ベンゾイル−２，２−ジクロロ−３−フ
エニルアジリジンの熱転位によつて（H.E.Zaugg
及びR.W.DeNet，J.Org.Chem.36，1937（1971）
及び米国特許第3819356号明細書を参照）、又はＮ
−ベンゾイル−アミノアセトフエノンと過剰の五
塩化リンとを170℃に加熱することによつて（S.
Gabriel，Ber.d.Chem.Ges.43，134（1910）を参
照）製造することができる。又、Hclを飽和させ
た無水ジエチルエーテル中で０℃で、ある芳香族
アルデヒドとシアン化ベンゾイル又はシアン化４
−ニトロベンゾイルとを反応させると４−クロロ
−２，５−ジアリール−オキサゾール−ヒドロク
ロライドが生じ、これは水で後処理することによ
り遊離の４−クロロ−２，５−ジアリール−オキ
サゾールに変えることができるということが知ら
れている（M.Davis等、J.Heterocycl.Chem.14，
317（1977）を参照）。 本発明は、一般式及び
の製造方法は文献から既に知られている。例えば
４−クロロ−２，５−ジフエニルオキサゾール
は、Ｎ−ベンゾイル−２，２−ジクロロ−３−フ
エニルアジリジンの熱転位によつて（H.E.Zaugg
及びR.W.DeNet，J.Org.Chem.36，1937（1971）
及び米国特許第3819356号明細書を参照）、又はＮ
−ベンゾイル−アミノアセトフエノンと過剰の五
塩化リンとを170℃に加熱することによつて（S.
Gabriel，Ber.d.Chem.Ges.43，134（1910）を参
照）製造することができる。又、Hclを飽和させ
た無水ジエチルエーテル中で０℃で、ある芳香族
アルデヒドとシアン化ベンゾイル又はシアン化４
−ニトロベンゾイルとを反応させると４−クロロ
−２，５−ジアリール−オキサゾール−ヒドロク
ロライドが生じ、これは水で後処理することによ
り遊離の４−クロロ−２，５−ジアリール−オキ
サゾールに変えることができるということが知ら
れている（M.Davis等、J.Heterocycl.Chem.14，
317（1977）を参照）。 本発明は、一般式及び
【式】
〔式中ｎは１又は２であり、ｎが１の場合には
R1，R2，R3及びR4は、同一であるか又は相違し
ていて、フエニル又はナフチル（これらは、ハロ
ゲン、シアノ、ニトロ、トリハロメチル、アミ
ノ、モノ−又はジ−アルキルアミノ、アルキル、
アルコキシ、ヒドロキシ、アルキルカルボニルオ
キシ、アルコキシカルボニル、フエノキシ、スチ
リル又はクロロスチリルから成る群から選ばれる
１ないし５個の基によつて場合により置換されて
いることができる）を意味するか又はピレニル、
アントラセニル、或いはベンゾフラニル、チエニ
ル又はピリミジル（これらはハロゲン又はアルコ
キシにより置換されていることができる）を意味
し、更に、R2及びR4は、C1〜C12アルキル又はC3
〜C6シクロアルキル（これらは１ないし３個の
ハロゲン原子により置換されていることができ
る）であつてもよく、ｎが２である場合にはR1
及びR4はｎが１の場合に定義したのと同じ意味
をもち、R2及びR3はフエニレン又はナフチレン
を意味する〕 で示される新規な４−クロロオキサゾール類に関
する。 好ましいのは、ｎが１の場合にR1，R2，R3及
びR4がフエニル又はナフチル（これらは、ハロ
ゲン、シアノ、ニトロ、トリハロメチル、アミ
ノ、モノ−又はジ−アルキルアミノ、アルキル、
アルコキシ、ヒドロキシ、アルキルカルボニルオ
キシ、アルコキシカルボニル、フエノキシ、スチ
リル又はクロロスチロルから成る群から選ばれる
１ないし５個の基によつて場合により置換されて
いることができる）を意味するか、又はベンゾフ
ラニル、チエニル又はピリミジル（これらはハロ
ゲン又はアルコキシにより置換されていることが
できる）を意味し、ｎが２の場合にR1及びR4は
ｎが１の場合のために示したのと同じ意味をも
ち、R2及びR3がフエニレン又はナフチレンを意
味するような式及びで示される化合物であ
る。 特に好ましいのは、ｎが１の場合にR1，R2，
R3及びR4がアミノフエニル、ジアルキルアミノ
フエニル、ハロフエニル、トリフルオルメチルフ
エニル又はアルコキシフエニルを意味するような
式で示される化合物である。 ｎが１であり、R1がフエニル基を表わし且つ
R2がフエニル、ｐ−メトキシフエニル、ｐ−メ
チルフエニル、ｐ−ニトロフエニル、ｐ−ヒドロ
キシフエニル又はｐ−エチルフエニルを意味する
か又はｎが１でR1がｐ−ニトロフエニルを表わ
し且つR2がフエニルを意味するような式で示
される化合物は請求しない。式のR1及びR2の
意味で定義したアルキル−及びアルコキシ基並び
にこれから誘導される基は、何も記載してない限
り、１個から４個までの炭素原子を含む。フエニ
ル−及びナフチル基のための可能な置換基として
挙げたスチリル−及びクロロスチリル基は次の式
で示される：
R1，R2，R3及びR4は、同一であるか又は相違し
ていて、フエニル又はナフチル（これらは、ハロ
ゲン、シアノ、ニトロ、トリハロメチル、アミ
ノ、モノ−又はジ−アルキルアミノ、アルキル、
アルコキシ、ヒドロキシ、アルキルカルボニルオ
キシ、アルコキシカルボニル、フエノキシ、スチ
リル又はクロロスチリルから成る群から選ばれる
１ないし５個の基によつて場合により置換されて
いることができる）を意味するか又はピレニル、
アントラセニル、或いはベンゾフラニル、チエニ
ル又はピリミジル（これらはハロゲン又はアルコ
キシにより置換されていることができる）を意味
し、更に、R2及びR4は、C1〜C12アルキル又はC3
〜C6シクロアルキル（これらは１ないし３個の
ハロゲン原子により置換されていることができ
る）であつてもよく、ｎが２である場合にはR1
及びR4はｎが１の場合に定義したのと同じ意味
をもち、R2及びR3はフエニレン又はナフチレン
を意味する〕 で示される新規な４−クロロオキサゾール類に関
する。 好ましいのは、ｎが１の場合にR1，R2，R3及
びR4がフエニル又はナフチル（これらは、ハロ
ゲン、シアノ、ニトロ、トリハロメチル、アミ
ノ、モノ−又はジ−アルキルアミノ、アルキル、
アルコキシ、ヒドロキシ、アルキルカルボニルオ
キシ、アルコキシカルボニル、フエノキシ、スチ
リル又はクロロスチロルから成る群から選ばれる
１ないし５個の基によつて場合により置換されて
いることができる）を意味するか、又はベンゾフ
ラニル、チエニル又はピリミジル（これらはハロ
ゲン又はアルコキシにより置換されていることが
できる）を意味し、ｎが２の場合にR1及びR4は
ｎが１の場合のために示したのと同じ意味をも
ち、R2及びR3がフエニレン又はナフチレンを意
味するような式及びで示される化合物であ
る。 特に好ましいのは、ｎが１の場合にR1，R2，
R3及びR4がアミノフエニル、ジアルキルアミノ
フエニル、ハロフエニル、トリフルオルメチルフ
エニル又はアルコキシフエニルを意味するような
式で示される化合物である。 ｎが１であり、R1がフエニル基を表わし且つ
R2がフエニル、ｐ−メトキシフエニル、ｐ−メ
チルフエニル、ｐ−ニトロフエニル、ｐ−ヒドロ
キシフエニル又はｐ−エチルフエニルを意味する
か又はｎが１でR1がｐ−ニトロフエニルを表わ
し且つR2がフエニルを意味するような式で示
される化合物は請求しない。式のR1及びR2の
意味で定義したアルキル−及びアルコキシ基並び
にこれから誘導される基は、何も記載してない限
り、１個から４個までの炭素原子を含む。フエニ
ル−及びナフチル基のための可能な置換基として
挙げたスチリル−及びクロロスチリル基は次の式
で示される：
【式】及び
【式】
ベンゾフラン−又はチオフエン−置換基は完全
に又は部分的に水素化されていることができる、
即ち基R2は例えばテトラヒドロフラン基である
こともできる。 式及びで示される化合物は、一般式 R1−（COCN）o （） で示されるシアン化ベンゾイルと一般式 R2−（CHO）o （） で示されるアルデヒドとを塩化水素の存在下で反
応させ、生じたオキサゾール塩酸塩から、水で処
理して式又はで示される４−クロロオキサゾ
ールを遊離させることによつて製造される。 一般式R1−（COCN）oで示される適当なシアン
化ベンゾイル類は例えばシアン化ベンゾイル、シ
アン化クロロベンゾイル、シアン化ニトロベンゾ
イル、シアン化メチルベンゾイル、シアン化テレ
フタロイル、シアン化ナフトイル（これらは文献
から知られている方法〔Angew.Chem.68，425頁
以下（1956）を参照〕により得ることができる）
である。使用することのできるアルデヒドR2
（CHO）oは例えばクロロベンズアルデヒド、フル
オロベンズアルデヒド、アニスアルデヒド、フエ
ノキシベンズアルデヒド、カルボメトキシベンズ
アルデヒド、トリルアルデヒド、ナフトアルデヒ
ド、ピレンアルデヒド、スチルベンアルデヒド、
ジメチルアミノベンズアルデヒド、チオフエンア
ルデヒド、ベンゾフランアルデヒド、テレフタル
アルデヒド又はピリミジンアルデヒドである。そ
れらは既知の方法により製造することができる。
反応は不活性な有機溶剤中でHClの存在下で行わ
れる。反応体に対して不活性な適当な溶剤は脂肪
族及び脂環式（cycloaliphatic）エーテル例えば
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジメトキシエタン、ジイソプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサンで
ある。本発明による方法は、比較的に幅の広い温
度間隔で行うことができる。一般に−20℃から＋
30℃まで殊に０℃から＋20℃までの範囲で行う。
反応の時間は数時間から数日まで、一般に12時間
から18時間までである。溶剤と反応体の合計との
比は比較的に広い幅で変えることができ、一般に
溶剤とアルデヒド及びシアン化ベンゾイルの合計
とは15：１から２：１までの重量比であるのが好
ましい。反応を行うのには、反応体を該溶剤に溶
かすことができ、次に、生じた溶液を−20℃から
＋５℃までの温度で塩化水素で飽和させることが
できる。生じた反応熱は一般に外部冷却で消散さ
せる。二つの反応体をほぼ化学量論的な比で使用
するのが好ましいことがわかつた。しかしアルデ
ヒドを過剰に使用することもできる。 反応では先ず式又はで示される化合物の塩
酸塩が得られる。この塩酸塩から遊離の４−クロ
ロオキサゾール類を得るために、該塩酸塩を水で
処理することにより加水分解する。これは例え
ば、生じた塩酸塩の沈殿を反応混合物から圧力を
加えて又は圧力を加えずに過して分離し、次に
この沈殿に水及び／又は塩基を加えて４−クロロ
−１，３−オキサゾール類を遊離させることによ
り行うことができる。又、全部の反応混合物を氷
にそそぎ、場合により塩基を加えてアルカリ性に
し、遊離したオキサゾールを吸引取するか又
は、液体の反応生成物の場合、水とまざらない有
機溶剤で抽出し、次に溶剤を減圧で除くこともで
きる。一般に、このようにして得られた４−クロ
ロ−オキサゾール類は更に精製する必要がない
が、所望により既知の方法、例えば再結晶又は蒸
留により精製することができる。収率はほぼ定量
的である。 前記の新規な４−クロロオキサゾール類は溶解
した状態で螢光を発する。従つてそれらは非常に
種々の合成、半合成又は天然の有機材料の明色化
剤として、特に既知の方法による天然又は合成繊
維の明色化に、使用することができる。更に、置
換基としてアミノ−又はジアルキルアミノ基を含
むような４−クロロオキサゾール類は、非常に優
れた光伝導特性を示す。従つてそれらは、電子写
真で光伝導層の製造に使用することができる。 以下、例を挙げて本発明を更に詳しく説明す
る。％は重量％であり、融点及び沸点は、何も記
載してない限り、補正してない。 例 １ テトラヒドロフラン500ml中のシアン化ベンゾ
イル131.14g（1.0モル）及び４−メトキシカルボ
ニル−ベンズアルデヒド180.68g（1.1モル）に、
撹拌しながら且つ０℃に冷却しながら、塩化水素
ガスを飽和させる。次に、＋３℃にあたため、こ
の温度に12時間保つ。生じた黄色の晶泥を1.5Kg
の氷にそそぎ、沈殿を吸引取し、水で洗い、50
℃で減圧乾燥させる。 収量：279.52g（理論量の89.1％）淡黄色の結
晶、融点145〜146℃（エタノール／DMF） 分析：（C17H12ClNO3）： 計算値：C65.1％；H3.9％； Cl11.3％；N4.5％ 実測値：C65.1％；H4.0％； Cl11.5％；N4.4％ 紫外線吸収極大；330nm（DMF中） 例 ２ シアン化ベンゾイル13.11g（0.1モル）と４−メ
トキシカルボニル−ベンズアルデヒド18.06g
（0.11モル）とを、例１に記載したように、しか
し乾燥ジエチルエーテル100mlを溶剤として使用
して反応させた。 収量：４−クロロ−２−（４−メトキシカルボ
ニルフエニル）−５−フエニルオキサゾール
29.27g（理論量の93.3％）、淡黄色結晶、融点145
〜146℃（エタノール／DMF）。 例 ３ シアン化ベンゾイル13.11g（0.1モル）とｐ−ト
ルイルアルデヒド13.22g（0.11モル）とを、例１
に記載したように、しかし溶剤としてジエチレン
グリコールジメチルエーテル100mlを使用して反
応させる。 収量：４−クロロ−２−（４−メチルフエニル）
−５−フエニルオキサゾール23.33g（理論量の
86.4％）、無色の結晶、融点95〜96℃（メタノー
ル）。 例 ４ テトラヒドロフラン130ml中のテレフタルジア
ルデヒド13.41g（0.1モル）とシアン化ベンゾイル
26.23g（0.2モル）とを、例１に記載したように反
応させる。 収量：ビス−１，４−（４−クロロ−５−フエ
ニル−２−オキサゾリル）−ベンゼン23.2g（理論
量の54％）、淡黄色の結晶、融点245〜246℃
（DMF）。 分析（C24H14Cl2N2O2）： 計算値：C66.5％；H3.3％； N6.5％；Cl16.4％ 実測値：C66.2％；H3.3％； N6.5％；Cl16.8％ 紫外線吸収極大：368nm（ジメチルホルムアミ
ド中で測定）。 式 で示される次の化合物は例１に記載した条件で製
造される。
に又は部分的に水素化されていることができる、
即ち基R2は例えばテトラヒドロフラン基である
こともできる。 式及びで示される化合物は、一般式 R1−（COCN）o （） で示されるシアン化ベンゾイルと一般式 R2−（CHO）o （） で示されるアルデヒドとを塩化水素の存在下で反
応させ、生じたオキサゾール塩酸塩から、水で処
理して式又はで示される４−クロロオキサゾ
ールを遊離させることによつて製造される。 一般式R1−（COCN）oで示される適当なシアン
化ベンゾイル類は例えばシアン化ベンゾイル、シ
アン化クロロベンゾイル、シアン化ニトロベンゾ
イル、シアン化メチルベンゾイル、シアン化テレ
フタロイル、シアン化ナフトイル（これらは文献
から知られている方法〔Angew.Chem.68，425頁
以下（1956）を参照〕により得ることができる）
である。使用することのできるアルデヒドR2
（CHO）oは例えばクロロベンズアルデヒド、フル
オロベンズアルデヒド、アニスアルデヒド、フエ
ノキシベンズアルデヒド、カルボメトキシベンズ
アルデヒド、トリルアルデヒド、ナフトアルデヒ
ド、ピレンアルデヒド、スチルベンアルデヒド、
ジメチルアミノベンズアルデヒド、チオフエンア
ルデヒド、ベンゾフランアルデヒド、テレフタル
アルデヒド又はピリミジンアルデヒドである。そ
れらは既知の方法により製造することができる。
反応は不活性な有機溶剤中でHClの存在下で行わ
れる。反応体に対して不活性な適当な溶剤は脂肪
族及び脂環式（cycloaliphatic）エーテル例えば
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジメトキシエタン、ジイソプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサンで
ある。本発明による方法は、比較的に幅の広い温
度間隔で行うことができる。一般に−20℃から＋
30℃まで殊に０℃から＋20℃までの範囲で行う。
反応の時間は数時間から数日まで、一般に12時間
から18時間までである。溶剤と反応体の合計との
比は比較的に広い幅で変えることができ、一般に
溶剤とアルデヒド及びシアン化ベンゾイルの合計
とは15：１から２：１までの重量比であるのが好
ましい。反応を行うのには、反応体を該溶剤に溶
かすことができ、次に、生じた溶液を−20℃から
＋５℃までの温度で塩化水素で飽和させることが
できる。生じた反応熱は一般に外部冷却で消散さ
せる。二つの反応体をほぼ化学量論的な比で使用
するのが好ましいことがわかつた。しかしアルデ
ヒドを過剰に使用することもできる。 反応では先ず式又はで示される化合物の塩
酸塩が得られる。この塩酸塩から遊離の４−クロ
ロオキサゾール類を得るために、該塩酸塩を水で
処理することにより加水分解する。これは例え
ば、生じた塩酸塩の沈殿を反応混合物から圧力を
加えて又は圧力を加えずに過して分離し、次に
この沈殿に水及び／又は塩基を加えて４−クロロ
−１，３−オキサゾール類を遊離させることによ
り行うことができる。又、全部の反応混合物を氷
にそそぎ、場合により塩基を加えてアルカリ性に
し、遊離したオキサゾールを吸引取するか又
は、液体の反応生成物の場合、水とまざらない有
機溶剤で抽出し、次に溶剤を減圧で除くこともで
きる。一般に、このようにして得られた４−クロ
ロ−オキサゾール類は更に精製する必要がない
が、所望により既知の方法、例えば再結晶又は蒸
留により精製することができる。収率はほぼ定量
的である。 前記の新規な４−クロロオキサゾール類は溶解
した状態で螢光を発する。従つてそれらは非常に
種々の合成、半合成又は天然の有機材料の明色化
剤として、特に既知の方法による天然又は合成繊
維の明色化に、使用することができる。更に、置
換基としてアミノ−又はジアルキルアミノ基を含
むような４−クロロオキサゾール類は、非常に優
れた光伝導特性を示す。従つてそれらは、電子写
真で光伝導層の製造に使用することができる。 以下、例を挙げて本発明を更に詳しく説明す
る。％は重量％であり、融点及び沸点は、何も記
載してない限り、補正してない。 例 １ テトラヒドロフラン500ml中のシアン化ベンゾ
イル131.14g（1.0モル）及び４−メトキシカルボ
ニル−ベンズアルデヒド180.68g（1.1モル）に、
撹拌しながら且つ０℃に冷却しながら、塩化水素
ガスを飽和させる。次に、＋３℃にあたため、こ
の温度に12時間保つ。生じた黄色の晶泥を1.5Kg
の氷にそそぎ、沈殿を吸引取し、水で洗い、50
℃で減圧乾燥させる。 収量：279.52g（理論量の89.1％）淡黄色の結
晶、融点145〜146℃（エタノール／DMF） 分析：（C17H12ClNO3）： 計算値：C65.1％；H3.9％； Cl11.3％；N4.5％ 実測値：C65.1％；H4.0％； Cl11.5％；N4.4％ 紫外線吸収極大；330nm（DMF中） 例 ２ シアン化ベンゾイル13.11g（0.1モル）と４−メ
トキシカルボニル−ベンズアルデヒド18.06g
（0.11モル）とを、例１に記載したように、しか
し乾燥ジエチルエーテル100mlを溶剤として使用
して反応させた。 収量：４−クロロ−２−（４−メトキシカルボ
ニルフエニル）−５−フエニルオキサゾール
29.27g（理論量の93.3％）、淡黄色結晶、融点145
〜146℃（エタノール／DMF）。 例 ３ シアン化ベンゾイル13.11g（0.1モル）とｐ−ト
ルイルアルデヒド13.22g（0.11モル）とを、例１
に記載したように、しかし溶剤としてジエチレン
グリコールジメチルエーテル100mlを使用して反
応させる。 収量：４−クロロ−２−（４−メチルフエニル）
−５−フエニルオキサゾール23.33g（理論量の
86.4％）、無色の結晶、融点95〜96℃（メタノー
ル）。 例 ４ テトラヒドロフラン130ml中のテレフタルジア
ルデヒド13.41g（0.1モル）とシアン化ベンゾイル
26.23g（0.2モル）とを、例１に記載したように反
応させる。 収量：ビス−１，４−（４−クロロ−５−フエ
ニル−２−オキサゾリル）−ベンゼン23.2g（理論
量の54％）、淡黄色の結晶、融点245〜246℃
（DMF）。 分析（C24H14Cl2N2O2）： 計算値：C66.5％；H3.3％； N6.5％；Cl16.4％ 実測値：C66.2％；H3.3％； N6.5％；Cl16.8％ 紫外線吸収極大：368nm（ジメチルホルムアミ
ド中で測定）。 式 で示される次の化合物は例１に記載した条件で製
造される。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
例 52
テトラヒドロフラン200ml中のシアン化テレフ
タロイル18.42g（0.1モル）と４−ジエチルアミノ
ベンズアルデヒド35.45g（0.2モル）とを、例１に
記載した条件で反応させる。 収量：ビス−１，４−〔４−クロロ−２−（４−
ジエチルアミノフエニル）−５−オキサゾリル〕
ベンゼン21.82g（理論量の37％）、黄色の結晶、融
点272℃（DMF）。
タロイル18.42g（0.1モル）と４−ジエチルアミノ
ベンズアルデヒド35.45g（0.2モル）とを、例１に
記載した条件で反応させる。 収量：ビス−１，４−〔４−クロロ−２−（４−
ジエチルアミノフエニル）−５−オキサゾリル〕
ベンゼン21.82g（理論量の37％）、黄色の結晶、融
点272℃（DMF）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式又は 【式】【式】 〔式中ｎは１又は２であり、 ｎが１の場合にはR1，R2，R3及びR4は、同一
であるか又は相違していて、 フエニル又はナフチル（これらは、ハロゲン、
シアノ、ニトロ、トリハロメチル、アミノ、モノ
−又はジ−アルキルアミノ、アルキル、アルコキ
シ、ヒドロキシ、アルキルカルボニルオキシ、ア
ルコキシカルボニル、フエノキシ、スチリル又は
クロロスチリルから成る群から選ばれる１ないし
５個の基によつて場合により置換されていること
ができる）を意味するか、或いはピレニル、アン
トラセニル、或いはベンゾフラニル、チエニル又
はピリミジル（これらはハロゲン又はアルコキシ
により置換されていることができる）を意味し、
更に、R2及びR4は、C1〜C12アルキル又はC3〜C6
シクロアルキル（これらは１ないし３個のハロゲ
ン原子により置換されていることができる）であ
つてもよく、 ｎが２である場合にはR1及びR4はｎが１の場
合に定義したのと同じ意味をもち、R2及びR3は
フエニレン又はナフチレンを意味する〕 で示される４−クロロオキサゾール類 （但しｎが１であり、 R1がフエニル基を表し且つR2がフエニル、ｐ
−メトキシフエニル、ｐ−メチルフエニル、ｐ−
ニトロフエニル、ｐ−ヒドロキシフエニル又はｐ
−エチルフエニルを表すか、又は R1がｐ−ニトロフエニルを表し且つR2がフエ
ニルを表すような式で示される化合物を除く）。 ２ 式中、ｎは１又は２であり、ｎが１の場合に
R1，R2，R3及びR4がフエニル又はナフチル（こ
れらは、ハロゲン、シアノ、ニトロ、トリハロメ
チル、アミノ、モノ−又はジ−アルキルアミノ、
アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、アルキルカ
ルボニルオキシ、アルコキシカルボニル、フエノ
キシ、スチリル又はクロロスチリルから成る群か
ら選ばれる１ないし５個の基によつて場合により
置換されていることができる）を意味するか、又
はベンゾフラニル、チエニル又はピリミジル（こ
れらはハロゲン又はアルコキシにより置換されて
いることができる）を意味し、ｎが２の場合に
R1及びR4はｎが１の場合のために示したのと同
じ意味をもち、R2及びR3はフエニレン又はナフ
チレンを意味する、特許請求の範囲第１項記載の
４−クロロオキサゾール類。 ３ ｎが１の場合にR1，R2，R3及びR4がアミノ
フエニル、ジアルキルアミノフエニル、ハロフエ
ニル、トリフルオロメチルフエニル又はアルコキ
シフエニルを意味する、特許請求の範囲第１項記
載の４−クロロオキサゾール類。 ４ 一般式又は 【式】【式】 〔式中ｎは１又は２であり、 ｎが１の場合にはR1，R2，R3及びR4は、同一
であるか又は相違していて、 フエニル又はナフチル（これらは、ハロゲン、
シアノ、ニトロ、トリハロメチル、アミノ、モノ
−又はジ−アルキルアミノ、アルキル、アルコキ
シ、ヒドロキシ、アルキルカルボニルオキシ、ア
ルコキシカルボニル、フエノキシ、スチリル又は
クロロスチリルから成る群から選ばれる１ないし
５個の基によつて場合により置換されていること
ができる）を意味するか、或いはピレニル、アン
トラセニル、或いはベンゾフラニル、チエニル又
はピリミジル（これらはハロゲン又はアルコキシ
により置換されていることができる）を意味し、
更に、R2及びR4は、C1〜C12アルキル又はC3〜C6
シクロアルキル（これらは１ないし３個のハロゲ
ン原子により置換されていることができる）であ
つてもよく、 ｎが２である場合にはR1及びR4はｎが１の場
合に定義したのと同じ意味をもち、R2及びR3は
フエニレン又はナフチレンを意味する〕 で示される４−クロロオキサゾール類 （但しｎが１であり、 R1がフエニル基を表し且つR2がフエニル、ｐ
−メトキシフエニル、ｐ−メチルフエニル、ｐ−
ニトロフエニル、ｐ−ヒドロキシフエニル又はｐ
−エチルフエニルを表すか、又は R1がｐ−ニトロフエニルを表し且つR2がフエ
ニルを表すような式で示される化合物を除く） を製造する方法にして、一般式 R1−（COCN）o （） で示されるシアン化ベンゾイルと一般式 R2−（CHO）o （） で示されるアルデヒドとを反応させ、生じたオキ
サゾール塩酸塩から、水で処理することにより式
又はで示される４−クロロオキサゾールを遊
離させることを特徴とする、４−クロロオキサゾ
ール類の製造方法。 ５ 一般式又は 【式】【式】 〔式中ｎは１又は２であり、 ｎが１の場合にはR1，R2，R3及びR4は、同一
であるか又は相違していて、 フエニル又はナフチル（これらは、ハロゲン、
シアノ、ニトロ、トリハロメチル、アミノ、モノ
−又はジ−アルキルアミノ、アルキル、アルコキ
シ、ヒドロキシ、アルキルカルボニルオキシ、ア
ルコキシカルボニル、フエノキシ、スチリル又は
クロロスチリルから成る群から選ばれる１ないし
５個の基によつて場合により置換されていること
ができる）を意味するか、或いはピレニル、アン
トラセニル、或いはベンゾフラニル、チエニル又
はピリミジル（これらはハロゲン又はアルコキシ
により置換されていることができる）を意味し、
更に、R2又はR4は、C1〜C12アルキル又はC3〜C6
シクロアルキル（これらは１ないし３個のハロゲ
ン原子により置換されていることができる）であ
つてもよく、 ｎが２である場合にはR1及びR4はｎが１の場
合に定義したのと同じ意味をち、R2及びR3はフ
エニレン又はナフチレンを意味する〕 で示される４−クロロオキサゾール類 （但しｎが１であり、 R1がフエニル基を表し且つR2がフエニル、ｐ
−メトキシフエニル、ｐ−メチルフエニル、ｐ−
ニトロフエニル、ｐ−ヒドロキシフエニル又はｐ
−エチルフエニルを表すか、又は R1がｐ−ニトロフエニルを表し且つR2がフエ
ニルを表すような式で示される化合物を除く） を光学的明色化剤として使用する方法。 ６ 一般式又は 【式】【式】 〔式中ｎは１又は２であり、 ｎが１の場合にはR1およびR2のいずれか一方
ならびにR3およびR4のいずれか一方はアミノ又
はジアルキルアミノで置換されているフエニル又
はナフチルであり、 残りの基はフエニル又はナフチル（これらは、
ハロゲン、シアノ、ニトロ、トリハロメチル、モ
ノアルキルアミノ、アルキル、アルコキシ、ヒド
ロキシ、アルキルカルボニルオキシ、アルコキシ
カルボニル、フエノキシ、スチリル又はクロロス
チリルから成る群から選ばれる１ないし５個の基
によつて場合により置換されていることができ
る）を意味するか、或いはピレニル、アントラセ
ニル、或いはベンゾフラニル、チエニル又はピリ
ミジル（これらはハロゲン又はアルコキシで置換
されていることができる）を意味し、 更に、前記残りの基がR2及びR4である場合、
R2及びR4はC1〜C12アルキル又はC3〜C6シクロア
ルキル（これらは１ないし３個のハロゲン原子に
より置換されていることができる）であつてもよ
く、 ｎが２である場合にはR1及びR4はアミノ又は
ジアルキルアミノで置換されているフエニル又は
ナフチルであり、 R2及びR3はフエニレン又はナフチレンを意味
する〕 で示される４−クロロオキサゾール類 （但しｎが１であり、 R1がフエニル基を表し且つR2がフエニル、ｐ
−メトキシフエニル、ｐ−メチルフエニル、ｐ−
ニトロフエニル、ｐ−ヒドロキシフエニル又はｐ
−エチルフエニルを表すか、又は R1がｐ−ニトロフエニルを表し且つR2がフエ
ニルを表すような式で示される化合物を除く） を電子写真の光伝導層の製造に使用する方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19782844394 DE2844394A1 (de) | 1978-10-12 | 1978-10-12 | Neue 4-chloroxazole und verfahren zu deren herstellung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5553278A JPS5553278A (en) | 1980-04-18 |
| JPS6361945B2 true JPS6361945B2 (ja) | 1988-11-30 |
Family
ID=6051964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13005479A Granted JPS5553278A (en) | 1978-10-12 | 1979-10-11 | 44chlorooxazols and their manufacture |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0010652B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5553278A (ja) |
| AT (1) | ATE3424T1 (ja) |
| BR (1) | BR7906594A (ja) |
| DE (2) | DE2844394A1 (ja) |
| DK (1) | DK430179A (ja) |
| ES (1) | ES484760A1 (ja) |
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| DE3021590A1 (de) * | 1980-06-09 | 1981-12-17 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | 4-halogen-5-(halogenmethyl-phenyl)-oxazol-derivate, ein verfahren zu ihrer herstellung und sie enthaltenden strahlungsempfindliche massen |
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| DE3425118A1 (de) * | 1984-07-07 | 1986-01-16 | Boehringer Mannheim Gmbh, 6800 Mannheim | Neue redox-indikatoren |
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| DE3706881A1 (de) * | 1987-03-04 | 1988-09-15 | Hoechst Ag | Neue 4-chloroxazolverbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
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| DE869490C (de) * | 1951-03-18 | 1953-03-05 | Cassella Farbwerke Mainkur Ag | Verfahren zur Herstellung von fluoreszierenden heterocyclischen Verbindungen |
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| FI53314C (fi) * | 1967-06-14 | 1978-04-10 | Wyeth John & Brother Ltd | Foerfarande foer framstaellning av farmaceutiskt anvaendbar 2-(fenyleller p-klorfenyl) oxazol-4-yl (aettiksyra -acetatsalt eller -acetamid) |
| DE2152367C2 (de) * | 1971-10-21 | 1985-01-03 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur Herstellung von 4- Methyl-oxazolen |
-
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- 1978-10-12 DE DE19782844394 patent/DE2844394A1/de not_active Withdrawn
-
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- 1979-10-09 EP EP79103864A patent/EP0010652B1/de not_active Expired
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- 1979-10-09 DE DE7979103864T patent/DE2965456D1/de not_active Expired
- 1979-10-11 BR BR7906594A patent/BR7906594A/pt not_active IP Right Cessation
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- 1979-10-11 DK DK430179A patent/DK430179A/da not_active Application Discontinuation
Also Published As
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| EP0010652B1 (de) | 1983-05-18 |
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