JPS6363146A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
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- JPS6363146A JPS6363146A JP61206505A JP20650586A JPS6363146A JP S6363146 A JPS6363146 A JP S6363146A JP 61206505 A JP61206505 A JP 61206505A JP 20650586 A JP20650586 A JP 20650586A JP S6363146 A JPS6363146 A JP S6363146A
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザー光を用いて、読み出し、書き込み可
能な光記録媒体の構造に関する。ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＲＡ
Ｗ、Ｅ−ＤＲＡＷに利用できる。
能な光記録媒体の構造に関する。ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＲＡ
Ｗ、Ｅ−ＤＲＡＷに利用できる。
情報記録層部を２枚の基板の貼り合せ面側にもつ光記録
媒体では、内外周にスペーサーを介して２枚の基板を貼
り合せるエアーサンドイッチ構造が一般的である。第４
図に示す如くスペーサーを用いず接着剤３５ｔ−介して
２枚の基板３１．３４を貼り合せる密着貼り合せ構造の
場合、接着剤３５としては、ゴム系の粘着剤が用いられ
ている。
媒体では、内外周にスペーサーを介して２枚の基板を貼
り合せるエアーサンドイッチ構造が一般的である。第４
図に示す如くスペーサーを用いず接着剤３５ｔ−介して
２枚の基板３１．３４を貼り合せる密着貼り合せ構造の
場合、接着剤３５としては、ゴム系の粘着剤が用いられ
ている。
従来の粘着剤を用い次密着貼り合せ光記録媒体は、接着
層への気泡混入が避けられず、記録層よりの情報読み出
しの際に、レーザーの透過光を用いる事ができなかった
。本発明は、密着貼り合せ構造での接着剤としてゴム系
粘着剤ではなく、紫外線硬化接着剤、二液硬化型接着剤
で随度が２０００ｃｐｓ以下のものを用いて真窒容器内
で２枚の基板を貼シ合せ、光の透過光での情報読み出し
が可能で、貼シ合せによる光学歪を記録媒体に与えず、
容易に貼シ合せが実捲できる記録媒体の構造を提供する
事を目的としている。
層への気泡混入が避けられず、記録層よりの情報読み出
しの際に、レーザーの透過光を用いる事ができなかった
。本発明は、密着貼り合せ構造での接着剤としてゴム系
粘着剤ではなく、紫外線硬化接着剤、二液硬化型接着剤
で随度が２０００ｃｐｓ以下のものを用いて真窒容器内
で２枚の基板を貼シ合せ、光の透過光での情報読み出し
が可能で、貼シ合せによる光学歪を記録媒体に与えず、
容易に貼シ合せが実捲できる記録媒体の構造を提供する
事を目的としている。
本発明による光記録媒体は、情報記録層部が２枚の基板
の貼シ合せ面側に形成されている密着貼り合せ構造で、
その２枚の基板の少なくとも一方の内周貼り合せ面に、
基板内径と同心円状に、１つ、又は、複数の溝を設けた
事を特徴としている。
の貼シ合せ面側に形成されている密着貼り合せ構造で、
その２枚の基板の少なくとも一方の内周貼り合せ面に、
基板内径と同心円状に、１つ、又は、複数の溝を設けた
事を特徴としている。
〔実権例１〕
第１図は本発明による実権例である。１はポリカーボネ
ート基板１．２■厚（トラッキング用溝ピッチ１．６μ
？１％）で貼り合せ面側に光記録層部２を有する。５は
紫外線硬化樹脂よりなる接着層であり、表１に掲載する
配合より成っている。４は上下面ともに平滑なポリカー
ボネート基板１．２■厚である。基板４は紫外線波長５
６５ｎｍの光を単板状態で１０％以上透過するように紫
外線吸収剤の量を抑えた材料を用いている。第、２図は
第１図で示した０部の記録層部の拡大図である。６は窒
化シリコン膜１ｏｏｏＸ、７は光磁気記録膜（ＮａＤｙ
Ｆｅ０Ｏ） ４５０ Ｘ、 ８は窒化シリコン膜１
ｏｏｏＸであり、記録膜は、上記セラミック保護層でサ
ンドイッチされた構造となっている。第３図は第１図の
内周■部拡大図である。５はポリカーボネート基板１．
４の内径φ１５■と同心円状に各基板１，４の貼シ合せ
面側に設けられたグループである。真空中で第６図に示
す如く芯出しをして貼シ合せ、その後基板４側より露光
して図１に示す記録媒体とした。グループ５がある為、
芯出し軸９への紫外線硬化樹脂の貼シ合せ時の付着及び
露光に於る芯出し軸９への固着もなく、均一に基板１，
４を貼シ合せる事ができた。第５図にグループ５のない
場合の貼り合せ状況を示しているが、紫外線硬化樹脂３
は芯出し軸９へ付着し露光後固着してしまい、芯出し軸
９より記録媒体を取り外す際に記録媒体を破損してしま
つ九。又紫外線硬化樹脂の液量を調整して第７図（ａ）
、第７図（ｂ）に示す記録媒体を製作する事はできたが
、紫外線硬化樹脂の内周側の貼シ合せ時停止位置１０が
不安定であり再現性がない為、１０回に９回は記録層を
全域おおう事ができなかった。父上子く記録層全域をお
おう事ができた１回の貼υ合せの場合でも、紫外線硬化
樹脂の硬化時の収縮応力の為、記録層部にオーバーラツ
プする形で基板１゜４に複屈折の大きな部分が発生して
しまった。複屈折の値はオリジナルの値に対して３〜４
倍の値であり、それが極部的である為信号読は出し時そ
の部分のジッタが増加してしまい正確なデータ読み出し
ができなかつ念。複屈折の大きな範囲Ｆｉ２〜１０暖の
帯となっておシ、紫外線硬化樹脂の停止位置が複雑に入
りくんでいる所程大きかった。
ート基板１．２■厚（トラッキング用溝ピッチ１．６μ
？１％）で貼り合せ面側に光記録層部２を有する。５は
紫外線硬化樹脂よりなる接着層であり、表１に掲載する
配合より成っている。４は上下面ともに平滑なポリカー
ボネート基板１．２■厚である。基板４は紫外線波長５
６５ｎｍの光を単板状態で１０％以上透過するように紫
外線吸収剤の量を抑えた材料を用いている。第、２図は
第１図で示した０部の記録層部の拡大図である。６は窒
化シリコン膜１ｏｏｏＸ、７は光磁気記録膜（ＮａＤｙ
Ｆｅ０Ｏ） ４５０ Ｘ、 ８は窒化シリコン膜１
ｏｏｏＸであり、記録膜は、上記セラミック保護層でサ
ンドイッチされた構造となっている。第３図は第１図の
内周■部拡大図である。５はポリカーボネート基板１．
４の内径φ１５■と同心円状に各基板１，４の貼シ合せ
面側に設けられたグループである。真空中で第６図に示
す如く芯出しをして貼シ合せ、その後基板４側より露光
して図１に示す記録媒体とした。グループ５がある為、
芯出し軸９への紫外線硬化樹脂の貼シ合せ時の付着及び
露光に於る芯出し軸９への固着もなく、均一に基板１，
４を貼シ合せる事ができた。第５図にグループ５のない
場合の貼り合せ状況を示しているが、紫外線硬化樹脂３
は芯出し軸９へ付着し露光後固着してしまい、芯出し軸
９より記録媒体を取り外す際に記録媒体を破損してしま
つ九。又紫外線硬化樹脂の液量を調整して第７図（ａ）
、第７図（ｂ）に示す記録媒体を製作する事はできたが
、紫外線硬化樹脂の内周側の貼シ合せ時停止位置１０が
不安定であり再現性がない為、１０回に９回は記録層を
全域おおう事ができなかった。父上子く記録層全域をお
おう事ができた１回の貼υ合せの場合でも、紫外線硬化
樹脂の硬化時の収縮応力の為、記録層部にオーバーラツ
プする形で基板１゜４に複屈折の大きな部分が発生して
しまった。複屈折の値はオリジナルの値に対して３〜４
倍の値であり、それが極部的である為信号読は出し時そ
の部分のジッタが増加してしまい正確なデータ読み出し
ができなかつ念。複屈折の大きな範囲Ｆｉ２〜１０暖の
帯となっておシ、紫外線硬化樹脂の停止位置が複雑に入
りくんでいる所程大きかった。
イルガキュア６５１；デルガイギー社製光反応開始剤Ｈ
ＤＤＡ ；ヘキサンジオールジアクリレートＴ
ＭＰＴＡ ： トリメチロールプロ／＜ントリ
アクリレートＮＰＧＤＡ ：ネオベンチルグリコ
ールＴＰＧＤＡ ； トリプロピングリコール
シアクリＶ−ト表１ 紫外線硬化樹脂の配合 〔実権例２〕 第８図は本発明による実施例である。１′欠ポリメチル
メタクリＶ−ト基板１．２１ｍ厚（トラッキング用溝ピ
ッチ１．６μｆＩ＆）で貼り合せ面側に記録層部２′を
有する。３′は紫外線硬化樹脂よりなる接着層であり、
表１に掲載する配合より成っている。
ＤＤＡ ；ヘキサンジオールジアクリレートＴ
ＭＰＴＡ ： トリメチロールプロ／＜ントリ
アクリレートＮＰＧＤＡ ：ネオベンチルグリコ
ールＴＰＧＤＡ ； トリプロピングリコール
シアクリＶ−ト表１ 紫外線硬化樹脂の配合 〔実権例２〕 第８図は本発明による実施例である。１′欠ポリメチル
メタクリＶ−ト基板１．２１ｍ厚（トラッキング用溝ピ
ッチ１．６μｆＩ＆）で貼り合せ面側に記録層部２′を
有する。３′は紫外線硬化樹脂よりなる接着層であり、
表１に掲載する配合より成っている。
１１は窒化シリコン、窒化アルミニウムの複合膜１、ｏ
ｏｏＸ厚である。４′は上下面ともに平滑なポリメチル
メタクリレート基板１．２−厚である。基板４′は紫外
線波長５６５ｎｒｎの光を単板状態で１０％以上透過す
るように紫外線吸収剤のｉを抑えた材料を用いている。
ｏｏＸ厚である。４′は上下面ともに平滑なポリメチル
メタクリレート基板１．２−厚である。基板４′は紫外
線波長５６５ｎｒｎの光を単板状態で１０％以上透過す
るように紫外線吸収剤のｉを抑えた材料を用いている。
第９図は第８図で示した０部の記録層部の拡大図である
。６′は窒化シリコン、窒化アルミニウムの複合体膜５
００Ｘ厚、７′は光磁気記録膜（Ｎ（ＬＤ７ＦＯｃｏ
） ５００ Ｘ、８′は窒化シリコン、窒化アルミニ
ウムの複合体膜５００ス厚であシ、記録膜は、上記セラ
ミック保護層でサンドイッチされた構造となっている。
。６′は窒化シリコン、窒化アルミニウムの複合体膜５
００Ｘ厚、７′は光磁気記録膜（Ｎ（ＬＤ７ＦＯｃｏ
） ５００ Ｘ、８′は窒化シリコン、窒化アルミニ
ウムの複合体膜５００ス厚であシ、記録膜は、上記セラ
ミック保護層でサンドイッチされた構造となっている。
第１０図は第８図の内周■部拡大図である。５はポリメ
チルメタクリレート基板１１．４１ の内径φ１５ｍ
５＋と同心円状に各基板１１ 、 Ｃの貼り合せ面側に
設けられ次グループである。真空中で芯出しをして貼り
合せ、基板４′側、より露光して第８図に示す記録媒体
とした。グループ５がある為、芯出し軸への紫外線硬化
樹脂の貼り合せ時の付着、及び、露光に於る芯出し軸へ
の固着はなく、均一に基板１′。
チルメタクリレート基板１１．４１ の内径φ１５ｍ
５＋と同心円状に各基板１１ 、 Ｃの貼り合せ面側に
設けられ次グループである。真空中で芯出しをして貼り
合せ、基板４′側、より露光して第８図に示す記録媒体
とした。グループ５がある為、芯出し軸への紫外線硬化
樹脂の貼り合せ時の付着、及び、露光に於る芯出し軸へ
の固着はなく、均一に基板１′。
４′を貼り合せる事ができた。
［実施例３］
第１１図は本発明による実施例である。１＃はエポキシ
基板１．２■厚（トラッキング用溝ピッチ１．６μ悟）
で貼シ合せ面側に記録層部２′を有する。
基板１．２■厚（トラッキング用溝ピッチ１．６μ悟）
で貼シ合せ面側に記録層部２′を有する。
５〃は紫外線吸収剤よシなる接着層であり、宍ＩＫ掲載
する配合より戊っている。４＃は上下面ともに平滑なエ
ポキシ基板１．２■厚である。基板４′は紫外線波長３
６５ｎｍの光を単板状態で１０係以上透過するように紫
外線吸収剤の量わ抑えた材料を用いている。第１２図は
第１１で示し九［Ｆ］部の記録層部の拡大図である。１
２はプリピット及びトラッキング溝をフォトボリメリゼ
ーション法にて３０μ悔厚で形成した層である。６＃は
酸化シリコン膜１０００Ｘ厚、７“は光磁気記録膜（Ｎ
ａＤｙＦｅｃｏ）５００ス厚、８“は酸化シリコン膜１
０００Ｘ厚である。第１３図は第１１図の内周［Ｆ］部
拡太図である。５はエポキシ基板１＃、 ４＃の内径φ
１５■と同心円状に基板４＃の貼り合せ面側に設けられ
九グループである。真空中で芯出しをして貼り合せ基板
４＃側よシ露光して第１１図に示す記録媒体とし次。グ
ループ５がある為、芯出し軸への紫外線硬化樹脂の貼り
合せ時の付着、及び、露光に於る芯出し軸への固着はな
く、均一に基板１１１ 、４＃ ｆ貼シ合せる事ができ
た。
する配合より戊っている。４＃は上下面ともに平滑なエ
ポキシ基板１．２■厚である。基板４′は紫外線波長３
６５ｎｍの光を単板状態で１０係以上透過するように紫
外線吸収剤の量わ抑えた材料を用いている。第１２図は
第１１で示し九［Ｆ］部の記録層部の拡大図である。１
２はプリピット及びトラッキング溝をフォトボリメリゼ
ーション法にて３０μ悔厚で形成した層である。６＃は
酸化シリコン膜１０００Ｘ厚、７“は光磁気記録膜（Ｎ
ａＤｙＦｅｃｏ）５００ス厚、８“は酸化シリコン膜１
０００Ｘ厚である。第１３図は第１１図の内周［Ｆ］部
拡太図である。５はエポキシ基板１＃、 ４＃の内径φ
１５■と同心円状に基板４＃の貼り合せ面側に設けられ
九グループである。真空中で芯出しをして貼り合せ基板
４＃側よシ露光して第１１図に示す記録媒体とし次。グ
ループ５がある為、芯出し軸への紫外線硬化樹脂の貼り
合せ時の付着、及び、露光に於る芯出し軸への固着はな
く、均一に基板１１１ 、４＃ ｆ貼シ合せる事ができ
た。
【実施例４〕
基板内径と同心円状に基板貼り合せ面内周部に形成され
たグループの数、形状が与える影響を検討した光記録媒
体の断面構造図を第１４図、第１５図、第１６図、第１
７図、第１８図、第１９図、第２０図、第２１図、第２
２図、第２３図。
たグループの数、形状が与える影響を検討した光記録媒
体の断面構造図を第１４図、第１５図、第１６図、第１
７図、第１８図、第１９図、第２０図、第２１図、第２
２図、第２３図。
第２４図、第２５図に示す。２１はポリカーボネート基
板でありトラッキング用溝ピッチ１．４μ倶溝巾α６μ
偽、厚さ１．２雪である。２２は光磁気記録膜（ＮａＩ
）ｙＦｅｏｏ ）で厚さ５００Ｘの層を窒化シリコン１
ｏｏｏＸの層でサンドイッチした形となっている。２３
は紫外線硬化樹脂よりなる接着層であり配合内容は表Ｉ
Ｋ示しである。２４は上下面が平滑なポリカーボネート
基板で厚さ１．２晴厚である。基板２４は紫外線波長３
６５ｎｍの光を単板状態で１０係以上透過するように紫
外線吸収剤の量を抑えた材料を用いている。先に示した
実施例と同様に真空中で芯出しをして貼り合せ、その後
基板２４側より露光して第１４図〜第２５図に示す光記
録媒体とし次。結果は表２に示す如く、グループ形状が
半円形（図１４〜図１７）。
板でありトラッキング用溝ピッチ１．４μ倶溝巾α６μ
偽、厚さ１．２雪である。２２は光磁気記録膜（ＮａＩ
）ｙＦｅｏｏ ）で厚さ５００Ｘの層を窒化シリコン１
ｏｏｏＸの層でサンドイッチした形となっている。２３
は紫外線硬化樹脂よりなる接着層であり配合内容は表Ｉ
Ｋ示しである。２４は上下面が平滑なポリカーボネート
基板で厚さ１．２晴厚である。基板２４は紫外線波長３
６５ｎｍの光を単板状態で１０係以上透過するように紫
外線吸収剤の量を抑えた材料を用いている。先に示した
実施例と同様に真空中で芯出しをして貼り合せ、その後
基板２４側より露光して第１４図〜第２５図に示す光記
録媒体とし次。結果は表２に示す如く、グループ形状が
半円形（図１４〜図１７）。
Ｖ形（図１８〜図２１）、角形（図２２〜図２５）いず
れであっても効果は同じであった。貼り合せ基板２１．
２４の両方にグループがある場合と、２１又は２４のい
ずれかにしかグループがない場合でも効果は同じであっ
た。グループが複数の場合と１つの場合では複数の方が
再現性の点でやや優れてい次。
れであっても効果は同じであった。貼り合せ基板２１．
２４の両方にグループがある場合と、２１又は２４のい
ずれかにしかグループがない場合でも効果は同じであっ
た。グループが複数の場合と１つの場合では複数の方が
再現性の点でやや優れてい次。
表２ グループ形状と貼り合せ再現性の比較性）◎印・
・・２０回貼り合せて全てＯＫＯ印・・・２０回貼り合
せて１８回以上ＯＫ尚、光記録膜としては光磁気記録材
料Ｎ（ｌＤ７ＦθＣＯ１を実施例で示したが、他の光磁
気記録材料、Ｔｂ１ＰｅＣＯ、ＧｄＴｂＦｅ等も使用可
能であり、相変態形光記録膜も使用可能である。接着剤
として実施例では紫外線硬化樹脂を示したが、嫌気性接
着剤、２液硬化型工ポキシ系接着剤、２液硬化型ウレタ
ン基液着剤等、粘度が２０００ｃｐｓ以下のものであれ
ば何でも使用可能である。嫌気性、２液硬化性接着剤を
用いた場合には、貼り合せる２枚の基板それぞれに記録
層部をもつ事が可能となり、貼り合せた光記録媒体両面
よシの情報読み出しが可能である。
・・２０回貼り合せて全てＯＫＯ印・・・２０回貼り合
せて１８回以上ＯＫ尚、光記録膜としては光磁気記録材
料Ｎ（ｌＤ７ＦθＣＯ１を実施例で示したが、他の光磁
気記録材料、Ｔｂ１ＰｅＣＯ、ＧｄＴｂＦｅ等も使用可
能であり、相変態形光記録膜も使用可能である。接着剤
として実施例では紫外線硬化樹脂を示したが、嫌気性接
着剤、２液硬化型工ポキシ系接着剤、２液硬化型ウレタ
ン基液着剤等、粘度が２０００ｃｐｓ以下のものであれ
ば何でも使用可能である。嫌気性、２液硬化性接着剤を
用いた場合には、貼り合せる２枚の基板それぞれに記録
層部をもつ事が可能となり、貼り合せた光記録媒体両面
よシの情報読み出しが可能である。
［発明の効果〕
本発明の内径と同心円状に１つ又は複数の溝を設けた基
板を真空雰囲気中で、２０００ｃｐｓ以下の粘度をもっ
た接着剤を用いて密着貼り合せする事により、貼り合せ
による光学歪を記録媒体に与えず、歩留良く容易に光記
録媒体を製作できる効果があった。又従来の粘着剤を用
いた貼り合せでは不可能だつ次、光記録媒体の透過光に
よる情報読み出しも本発明に従った光記録媒体では光透
過性の良い接着剤を用いる事により容易に製作できる効
果があつ九。
板を真空雰囲気中で、２０００ｃｐｓ以下の粘度をもっ
た接着剤を用いて密着貼り合せする事により、貼り合せ
による光学歪を記録媒体に与えず、歩留良く容易に光記
録媒体を製作できる効果があった。又従来の粘着剤を用
いた貼り合せでは不可能だつ次、光記録媒体の透過光に
よる情報読み出しも本発明に従った光記録媒体では光透
過性の良い接着剤を用いる事により容易に製作できる効
果があつ九。
第１図は本発明の実施例で光記録媒体の断面構造図。
第２図は第１図■部詳細図。
第３図はｗｃ１図■部詳細図。
第４図は従来の光記録媒体の断面構造図。
第５図は従来構造の基板を真空中で貼り合せ九場合の状
況図。 第６図は本発明構造の基板を真空中で貼υ合せた場合の
状況図。 第７図（ａ）は従来構造の光記録媒体の内周部の複屈折
発生状況図。 第７図（ｂ）は第７図（ａ）のＡ−Ａ断面図。 第８図は本発明の実施例で光記録媒体の断面構造図。 第９図は第８図■部詳細図。 第１０図は第８図■部詳細図。 第１１図は本発明の実施例で光記録媒体の断面構造図。 第１２図は第１１図の［Ｆ］部詳細図。 第１３図は第１１図の［Ｆ］部詳細図。 第１４図〜第２５図は本発明の実施例で光記録媒体の断
面構造図。 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 易７図 第２０ 名３図 躬７図（２） 第８０ 躬ＩＪ 粘１０回 蕗１４．図 躬１５０ 名ＩＧ ｍ 藝ｔ１ Ｏ 易１８図 葛１’？ Ｚ 葛２０図 葛２１ノ 名２２０ 擦、２３７ 葛長田 葛２５図
況図。 第６図は本発明構造の基板を真空中で貼υ合せた場合の
状況図。 第７図（ａ）は従来構造の光記録媒体の内周部の複屈折
発生状況図。 第７図（ｂ）は第７図（ａ）のＡ−Ａ断面図。 第８図は本発明の実施例で光記録媒体の断面構造図。 第９図は第８図■部詳細図。 第１０図は第８図■部詳細図。 第１１図は本発明の実施例で光記録媒体の断面構造図。 第１２図は第１１図の［Ｆ］部詳細図。 第１３図は第１１図の［Ｆ］部詳細図。 第１４図〜第２５図は本発明の実施例で光記録媒体の断
面構造図。 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 易７図 第２０ 名３図 躬７図（２） 第８０ 躬ＩＪ 粘１０回 蕗１４．図 躬１５０ 名ＩＧ ｍ 藝ｔ１ Ｏ 易１８図 葛１’？ Ｚ 葛２０図 葛２１ノ 名２２０ 擦、２３７ 葛長田 葛２５図
Claims (1)
- 情報記録層部が２枚の基板の貼り合せ面側に形成されて
いる密着貼り合せ構造で、その２枚の基板の少なくとも
一方の内周貼り合せ面に、基板内径と同心円状に１つ又
は複数の溝を設けた事を特徴とする光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61206505A JPS6363146A (ja) | 1986-09-02 | 1986-09-02 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61206505A JPS6363146A (ja) | 1986-09-02 | 1986-09-02 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6363146A true JPS6363146A (ja) | 1988-03-19 |
Family
ID=16524477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61206505A Pending JPS6363146A (ja) | 1986-09-02 | 1986-09-02 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6363146A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0844608A3 (en) * | 1996-11-20 | 1999-09-08 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information medium |
| USRE39412E1 (en) | 1995-02-15 | 2006-11-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information medium, and method and apparatus for fabricating the same |
-
1986
- 1986-09-02 JP JP61206505A patent/JPS6363146A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE39412E1 (en) | 1995-02-15 | 2006-11-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information medium, and method and apparatus for fabricating the same |
| EP0844608A3 (en) * | 1996-11-20 | 1999-09-08 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information medium |
| US6445676B1 (en) | 1996-11-20 | 2002-09-03 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information medium |
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