JPS6369045A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
- Publication number
- JPS6369045A JPS6369045A JP61214329A JP21432986A JPS6369045A JP S6369045 A JPS6369045 A JP S6369045A JP 61214329 A JP61214329 A JP 61214329A JP 21432986 A JP21432986 A JP 21432986A JP S6369045 A JPS6369045 A JP S6369045A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- acrylate
- present
- transparent support
- protective layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 15
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 22
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 16
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 15
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 12
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 42
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 28
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 8
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 8
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 8
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 8
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003855 Adhesive Lamination Methods 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 benzyl dimethyl ketal Chemical compound 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光？用いて記録、再生または消去を行なう光記
録媒体に関する。
録媒体に関する。
従来の光記録媒体の接着層には、特開６〇−１８５２３
５にあるようにエポキシ系の接着剤をｍｍいたり、ある
いはウレタン系の接着剤を用いていた。あるいはエポキ
シ系、ウレタン系のオリゴマーまたはプレポリマーを溶
媒や反応性モノマーなとで稀釈して基板上にスピンコー
ド、ロールコートなどの方法により塗布後、８０℃から
１２０℃程度の熱をかげることによシ重合させる方法な
どが用いられている。
５にあるようにエポキシ系の接着剤をｍｍいたり、ある
いはウレタン系の接着剤を用いていた。あるいはエポキ
シ系、ウレタン系のオリゴマーまたはプレポリマーを溶
媒や反応性モノマーなとで稀釈して基板上にスピンコー
ド、ロールコートなどの方法により塗布後、８０℃から
１２０℃程度の熱をかげることによシ重合させる方法な
どが用いられている。
しかし、前述の従来技術ではエポキシ系、あるいはウレ
タン系の接着剤の粘度が数十ボイズから数ボイズと高い
ため作業性がよくない。また溶媒、反応性モノマーまた
はオリゴマーなどによシ稀釈して粘度を下げるかあるい
は熱をかけて粘度をさげるなどして作業性を向上させよ
うとするこころみもなされているが、アクリル樹脂やポ
リカーボネート樹脂などのプラスチック材料を基板とし
て用いた場合は溶媒により基板を劣化させ九シ、熱によ
シ基板を変形させ九りするという問題点を有していた。
タン系の接着剤の粘度が数十ボイズから数ボイズと高い
ため作業性がよくない。また溶媒、反応性モノマーまた
はオリゴマーなどによシ稀釈して粘度を下げるかあるい
は熱をかけて粘度をさげるなどして作業性を向上させよ
うとするこころみもなされているが、アクリル樹脂やポ
リカーボネート樹脂などのプラスチック材料を基板とし
て用いた場合は溶媒により基板を劣化させ九シ、熱によ
シ基板を変形させ九りするという問題点を有していた。
また、エポキシ系、ウレタン系の接着剤はカチオン重合
系のものが多く、接着剤の中にルイス酸などの強酸が存
在しているため記録層を酸化させるという問題点も有し
てい念。
系のものが多く、接着剤の中にルイス酸などの強酸が存
在しているため記録層を酸化させるという問題点も有し
てい念。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、高温多湿の場所での使用、運搬
、保管などによシ記録層を酸化させるということがない
、長期信頼性のある光記録媒体を提供することである。
の目的とするところは、高温多湿の場所での使用、運搬
、保管などによシ記録層を酸化させるということがない
、長期信頼性のある光記録媒体を提供することである。
本発明の光記録媒体は、光を用いて記録、再生または消
去を行なう光記録媒体の密着貼り合わせ構造において、
接着層が、アクリレートまたはメタクリレートのモノマ
ーまたはプレポリマーを用いて、そのアクリレートまた
はプレポリマーのモノマーまたはプレポリマーの中に塩
素、フッ素ま九は珪素を含有するアクリレート、メタク
リレートまたはオリゴマーを含有させて硬化させたこと
を特徴とする。
去を行なう光記録媒体の密着貼り合わせ構造において、
接着層が、アクリレートまたはメタクリレートのモノマ
ーまたはプレポリマーを用いて、そのアクリレートまた
はプレポリマーのモノマーまたはプレポリマーの中に塩
素、フッ素ま九は珪素を含有するアクリレート、メタク
リレートまたはオリゴマーを含有させて硬化させたこと
を特徴とする。
本発明に用いるアクリレートまたメタクリレートのモノ
マーまたはプレポリマーの粘度は含有される塩素、フッ
素または珪素を含有するアクリレート、メタクリレート
またはオリゴマーの容解度に合わせて１センチポイズか
ら３００センチポイズが望ましい。このアクリレートま
たはメタクリレートのモノマーまたはオリゴマーに含有
される塩素、フッ素または珪素を含有するアクリレート
、メタクリレートまたはオリゴマーは数量量パーセント
から数十重量パーセントの割合で混合することができる
が、塩素、フッ素または珪素を含有するアクリレート、
メタクリレートまたはオリゴマーはアクリレートまたは
メタクリレートの七ツマ−またはプレポリマーに対す溶
解度が少ないため低粘度のアクリレートまたはメタクリ
レートのモノマーまたはプレポリマーを用いるのがよい
。例エバ、シクロヘキシルアクリレート、ベンジルアク
’） しｈ ｓ カルピトールアクリレート、２−エチ
ルへキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピル
メタクリレート、グリシジルメタクリレート、エチレン
グリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジア
クリレート。
マーまたはプレポリマーの粘度は含有される塩素、フッ
素または珪素を含有するアクリレート、メタクリレート
またはオリゴマーの容解度に合わせて１センチポイズか
ら３００センチポイズが望ましい。このアクリレートま
たはメタクリレートのモノマーまたはオリゴマーに含有
される塩素、フッ素または珪素を含有するアクリレート
、メタクリレートまたはオリゴマーは数量量パーセント
から数十重量パーセントの割合で混合することができる
が、塩素、フッ素または珪素を含有するアクリレート、
メタクリレートまたはオリゴマーはアクリレートまたは
メタクリレートの七ツマ−またはプレポリマーに対す溶
解度が少ないため低粘度のアクリレートまたはメタクリ
レートのモノマーまたはプレポリマーを用いるのがよい
。例エバ、シクロヘキシルアクリレート、ベンジルアク
’） しｈ ｓ カルピトールアクリレート、２−エチ
ルへキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピル
メタクリレート、グリシジルメタクリレート、エチレン
グリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジア
クリレート。
トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート、ブチレングリコールジアク
リレート、ネオペンチルクリコールジアクリレート、１
．４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサ
ンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト等の比較的低粘度のアクリレートまたはメタクリレー
トを用いるとよい。
グリコールジアクリレート、ブチレングリコールジアク
リレート、ネオペンチルクリコールジアクリレート、１
．４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサ
ンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト等の比較的低粘度のアクリレートまたはメタクリレー
トを用いるとよい。
第１図から第８図は本発明の光記録媒体の基本構成図で
ある。 ′ 第１図の１はポリカーボネートの透光性支持体であり、
図には特に示さないが、射出成形によシトランキング用
の溝がある。２は５ＩＡｔＮの第１保護層であシ、５ｉ
Ａｚの焼結体ターゲットを用いて、窒素とアルゴンの混
合気体を導入することによるＲＦ反応マグネトロンスパ
ッタリング法によ構成膜したものである。３はＮｄＤｙ
ＦａＣｏＴＩの合金ターゲットを用いて、アルゴンガス
な導入することによるＤＣマグネトロンスパンタリング
法により成膜した記録層である。４は２と同様に５ｉＡ
ｔの焼結体ターゲットを用いて、窒素とアルゴンの混合
気体を導入することにより成膜した第２保膜層である。
ある。 ′ 第１図の１はポリカーボネートの透光性支持体であり、
図には特に示さないが、射出成形によシトランキング用
の溝がある。２は５ＩＡｔＮの第１保護層であシ、５ｉ
Ａｚの焼結体ターゲットを用いて、窒素とアルゴンの混
合気体を導入することによるＲＦ反応マグネトロンスパ
ッタリング法によ構成膜したものである。３はＮｄＤｙ
ＦａＣｏＴＩの合金ターゲットを用いて、アルゴンガス
な導入することによるＤＣマグネトロンスパンタリング
法により成膜した記録層である。４は２と同様に５ｉＡ
ｔの焼結体ターゲットを用いて、窒素とアルゴンの混合
気体を導入することにより成膜した第２保膜層である。
５は本発明になる接着層である。６は１と同様に射出成
形によシ形成したポリカーボネートの透光性支持体であ
るが、１のようにトラッキング用の溝はない。７はディ
スク状の透光性支持体を用いているのでそのセンターホ
ールである。
形によシ形成したポリカーボネートの透光性支持体であ
るが、１のようにトラッキング用の溝はない。７はディ
スク状の透光性支持体を用いているのでそのセンターホ
ールである。
第２図の８は第１図の１と同様に射出成形により形成し
たポリメチルメタクリレートの透光性支持体であシ、ト
ラッキング用の溝がある。９，１０および１１は第１図
の２．６および４と全く同様の方法により成膜したもの
であり、９はＳ Ｉ ＡｔＮの第１保穫層、１０はＮ
ｄ Ｄ ｙ Ｆ ｅ Ｃｏ Ｔ ｉの記録層、１１は８
１ＡｔＨの第２保護層である。１２は本発明になる接着
層である。１５は１４のポリメチルメタクリレートの透
光性支持体上に、ｓｉｏ、のターケラトラ用いてＲＦマ
グネトロンスパッタリング法により成膜したＳ ｔ Ｏ
，層である。１５はディスクのセンターホールである。
たポリメチルメタクリレートの透光性支持体であシ、ト
ラッキング用の溝がある。９，１０および１１は第１図
の２．６および４と全く同様の方法により成膜したもの
であり、９はＳ Ｉ ＡｔＮの第１保穫層、１０はＮ
ｄ Ｄ ｙ Ｆ ｅ Ｃｏ Ｔ ｉの記録層、１１は８
１ＡｔＨの第２保護層である。１２は本発明になる接着
層である。１５は１４のポリメチルメタクリレートの透
光性支持体上に、ｓｉｏ、のターケラトラ用いてＲＦマ
グネトロンスパッタリング法により成膜したＳ ｔ Ｏ
，層である。１５はディスクのセンターホールである。
第５図の１６はエポキシの透光性支持体であシ、酸硬化
型のエポキシを注型成形により形成したものである。１
７は図には特に示さないが、Ｎ１のスタンバを用いて２
Ｐ法によシトラッキング用の溝を形成した２部層である
。尚、２部層にはヘキサンジオールジアクリレート６３
部、トリメチロールプロパントリアクリレート１８部、
トリプロピレングリコールジアクリレート２部、ビスフ
ェノールクジオキシジエチレングリコールジアクリレー
ト１３部、ベンジルジメチルケタール４部に微量のトリ
エチルアミンを添加した混合物を用いた。１８．１９お
よび２０はＮ１図の２．３および４と全く同様の方法に
より成膜したものであシ、１８は５ＩＡｔＮの第１保護
層、１９はＮｄＤｙＦａＣｏＴＩの記録層、２０は５Ｉ
ＡｔＮの第２保掻層である。
型のエポキシを注型成形により形成したものである。１
７は図には特に示さないが、Ｎ１のスタンバを用いて２
Ｐ法によシトラッキング用の溝を形成した２部層である
。尚、２部層にはヘキサンジオールジアクリレート６３
部、トリメチロールプロパントリアクリレート１８部、
トリプロピレングリコールジアクリレート２部、ビスフ
ェノールクジオキシジエチレングリコールジアクリレー
ト１３部、ベンジルジメチルケタール４部に微量のトリ
エチルアミンを添加した混合物を用いた。１８．１９お
よび２０はＮ１図の２．３および４と全く同様の方法に
より成膜したものであシ、１８は５ＩＡｔＮの第１保護
層、１９はＮｄＤｙＦａＣｏＴＩの記録層、２０は５Ｉ
ＡｔＮの第２保掻層である。
２１は本発明になる接着層である。２２は１６と同様に
注型成形により形成したエポキシの透光性支持体である
。２３はディスクのセンターホールである。
注型成形により形成したエポキシの透光性支持体である
。２３はディスクのセンターホールである。
第４図の２４は第３図の１６と同様に注型成形によシ形
成したエポキシの透光性支持体である。
成したエポキシの透光性支持体である。
２５は第３図の１７と同様の方法によシ形成した２部層
である。２６．２７および２８は第１図の２．３および
４と全く同様の方法により成膜したものであシ、２６は
５ＩＡｔＮの第１保護層、２７はＮｄＤｙＦｅＣｏＴｉ
の記録層、２８は５ＩＡｔＮの第２保護層である。２９
は本発明になる接着層である。３０は第２図の１５と同
様な方法によυ成膜したｓｉｏ、層である。３１エポキ
シの透光性支持体である。３２はディスクのセンターホ
ールである。
である。２６．２７および２８は第１図の２．３および
４と全く同様の方法により成膜したものであシ、２６は
５ＩＡｔＮの第１保護層、２７はＮｄＤｙＦｅＣｏＴｉ
の記録層、２８は５ＩＡｔＮの第２保護層である。２９
は本発明になる接着層である。３０は第２図の１５と同
様な方法によυ成膜したｓｉｏ、層である。３１エポキ
シの透光性支持体である。３２はディスクのセンターホ
ールである。
第５図から第８図は第１図から第４図の第２保護層を記
録層の側端面を覆うようにして成膜したものであり、透
光性支持体、保護層、２部層、記録層及び接着層の材質
はＭｃ１図から第４図までと同じである。
録層の側端面を覆うようにして成膜したものであり、透
光性支持体、保護層、２部層、記録層及び接着層の材質
はＭｃ１図から第４図までと同じである。
第５図の３３はポリカーボネートの透光性支持体３４は
５ＩＡｔＮの第１保護層、５５はＮｄＤｙＦｅＣｏＴｌ
の記録層、３６は５ｉＡｔＮ第２保獲層、３７は本発明
になる接着層、５８はポリカーボネートの透光性支持体
、３９はディスクのセンターホールである。
５ＩＡｔＮの第１保護層、５５はＮｄＤｙＦｅＣｏＴｌ
の記録層、３６は５ｉＡｔＮ第２保獲層、３７は本発明
になる接着層、５８はポリカーボネートの透光性支持体
、３９はディスクのセンターホールである。
第６図の４０はポリメチルメタクリレートの透光性支持
体、４１は５ＩＡ４Ｎの第１保護層、４２はＮｄＤｙＦ
ｅＣｏＴｉの記録層、４３は５ＩＡｔＮの第２保護層、
４４は本発明になる接着層、４５はＳｔＯ，層、４６は
ポリメチルメタクリレートの透光性支持体、４７はディ
スクのセンターホールである。
体、４１は５ＩＡ４Ｎの第１保護層、４２はＮｄＤｙＦ
ｅＣｏＴｉの記録層、４３は５ＩＡｔＮの第２保護層、
４４は本発明になる接着層、４５はＳｔＯ，層、４６は
ポリメチルメタクリレートの透光性支持体、４７はディ
スクのセンターホールである。
第７図の４８はエポキシの透光性支持体、４９は２部層
、５０は５ＩＡｔＮの第１保護層、５１はＮｄＤｙＦｅ
ＣｏＴｉの記録層、５２は５ＩＡｔＮの第２保護層、５
３は本発明になる接着層、５４はエポキシの透光性支持
体、５５はディスクのセンターホールである。
、５０は５ＩＡｔＮの第１保護層、５１はＮｄＤｙＦｅ
ＣｏＴｉの記録層、５２は５ＩＡｔＮの第２保護層、５
３は本発明になる接着層、５４はエポキシの透光性支持
体、５５はディスクのセンターホールである。
第８図の５６はエポキシの透光性支持体、５７は２部層
、５８は５ｉＡｚＮの第１保護層、５９はＮ ｄ Ｄ
ｙ Ｅ ＠Ｃｏ Ｔ ｉの記録層、６０は５ＩＡｔＮの
第２保護層、６１は本発明になる接着層、６２は８１０
ｍ／ｅｌｆ、６３はエポキシの透光性支持体、６４はデ
ィスクのセンターホールである。
、５８は５ｉＡｚＮの第１保護層、５９はＮ ｄ Ｄ
ｙ Ｅ ＠Ｃｏ Ｔ ｉの記録層、６０は５ＩＡｔＮの
第２保護層、６１は本発明になる接着層、６２は８１０
ｍ／ｅｌｆ、６３はエポキシの透光性支持体、６４はデ
ィスクのセンターホールである。
次に、本発明になる接着ノーについて説明する。
表１に、本発明になる接着層の配合例及び、その配合な
用いて、第１図に示す光記録媒体を作成して、６０℃９
０チＲＨで１０００時間放置したときのビットエラーレ
ートを、貼シ合わせ直後のピントエラーレートで規格化
した値を、比較例とともに示す。
用いて、第１図に示す光記録媒体を作成して、６０℃９
０チＲＨで１０００時間放置したときのビットエラーレ
ートを、貼シ合わせ直後のピントエラーレートで規格化
した値を、比較例とともに示す。
表１の結果かられかるように本発明になる接着層を用い
た光記録媒体は、６０℃９０４ＲＨという高温多湿の場
所でもピントエラーレートの変化がないきわめて安定で
、長期信頼性のある光記録媒体であることがわかる。
た光記録媒体は、６０℃９０４ＲＨという高温多湿の場
所でもピントエラーレートの変化がないきわめて安定で
、長期信頼性のある光記録媒体であることがわかる。
尚、本発明にこれらの実施例に限定されるものではなく
、本発明の主旨を逸脱し表い限シ種々の変更は可能であ
る。
、本発明の主旨を逸脱し表い限シ種々の変更は可能であ
る。
表１
＊６０℃９０’１Ｒｆｌ＋［］ＯＯ時間後のビットエラ
ーレート／貼り合わせ直後のビットエラーレートＴＭＰ
ＴＡ Ｈ，Ｃ＝ＣＨ−Ｃ−０−ＣＨ。
ーレート／貼り合わせ直後のビットエラーレートＴＭＰ
ＴＡ Ｈ，Ｃ＝ＣＨ−Ｃ−０−ＣＨ。
Ｈ，Ｃ＝ＣＨ−Ｃ−０−ＣＨ！−Ｃ−ＣＨ，−ＣＨ！Ｈ
，Ｃ＝ＣＨ−Ｃ−０−ＣＨ。
，Ｃ＝ＣＨ−Ｃ−０−ＣＨ。
ＨＤＤＡ Ｈ，Ｃ＝ＣＨ−Ｃ−０（−ＣＨ！−）１
１０−Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ。
１０−Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ。
ＤＥＧＤＡ Ｈ，Ｃ＝ＣＨ−Ｃ−０（−ＣＨ，−ＣＨ
！−０−）、 Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ。
！−０−）、 Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ。
ＣＨ畠
ＰＥＴＡ ＣＨ，−０−Ｃ−ＣＨ＝ＣＨｔＨＯ
−ＣＨ！−Ｃ−ＣＨ，−〇−Ｃ−ＣＩ（＝ＣＨ。
−ＣＨ！−Ｃ−ＣＨ，−〇−Ｃ−ＣＩ（＝ＣＨ。
ＣＨ，−０−Ｃ−ＣＨ＝Ｃ当
イルガキュア６５１ チバガソギー社製（西ドイツ
）Ａ ＣＨ，＝ＣＨＣ００ＣＨＩＣＦ。
）Ａ ＣＨ，＝ＣＨＣ００ＣＨＩＣＦ。
Ｂ Ｃ１（、＝ＣＨＣ００ＣＨＩＣＦ。
ＣＣ馬＝ＣＨＣ００ＣＨ，（ＣＦ、）、ＨＤ ＣＨ，
＝ＣＨ（ＣＯＯＣＨ，Ｃ馬（ＣＦり？ＣＦ！Ｅ ＥＢ
ＥＣＲＹＬ ３５０ ＵＣＢ裂（ベルギー）Ｆ
ＥＢＥＣＲＹＬ ５６０ ＵＣＢ製（ベルギー）Ｇ
ＥＢＥＣＲＹＬ ５８４ ＵＣＢ裂（ベルギー
）ＨＥＢＥＣＲＹＬ ５８５ ＵＣＢ＃（ベルギー
）Ｉ ＥＢＥＣＲＹＬ ５８６ ＵＣＢ＃（ベル
ギー）Ｊ ＸＦ４２−５０５ 東芝シリ
コーン■裂Ｋ ＺｏｎｙｌＲＰ ｄｕｐｏ
ｎｔ製（アメリカ〕Ｌ Ｋｒｙｔｏｘ１４３
ｄｕｐｏｎｔ袈（アメリカ）Ｍ Ｈ＋ＣＦ、−〇
Ｆ、−）ｎｃＯＯＨｎ＝１〜５Ｎ テックスガード
ダイキン工業■製０ スミフロイル
住人化学工業■製〔発明の効果〕 以上述べたように本発明によれば、光を用いて記録、再
生ま念は消去を行なう光記録媒体の密着貼シ合わせ構造
において、接着層がアクリレートまたはメタクリレート
のモノマーまたはプレポリマーを用いて、そのアクリレ
ートまたはメタクリレートのモノマーまたはプレポリマ
ーの中に塩素、フッ素または珪素を含有するアクリレー
ト ゝメタクリレートまたはオリゴマーを含有させて硬
化させたことによシ、高温多湿の場所での使用、運搬、
保管などによシ記鎌層を酸化させるということがない長
期信頼性のある光記録媒体を提供するという効果を有す
る。
＝ＣＨ（ＣＯＯＣＨ，Ｃ馬（ＣＦり？ＣＦ！Ｅ ＥＢ
ＥＣＲＹＬ ３５０ ＵＣＢ裂（ベルギー）Ｆ
ＥＢＥＣＲＹＬ ５６０ ＵＣＢ製（ベルギー）Ｇ
ＥＢＥＣＲＹＬ ５８４ ＵＣＢ裂（ベルギー
）ＨＥＢＥＣＲＹＬ ５８５ ＵＣＢ＃（ベルギー
）Ｉ ＥＢＥＣＲＹＬ ５８６ ＵＣＢ＃（ベル
ギー）Ｊ ＸＦ４２−５０５ 東芝シリ
コーン■裂Ｋ ＺｏｎｙｌＲＰ ｄｕｐｏ
ｎｔ製（アメリカ〕Ｌ Ｋｒｙｔｏｘ１４３
ｄｕｐｏｎｔ袈（アメリカ）Ｍ Ｈ＋ＣＦ、−〇
Ｆ、−）ｎｃＯＯＨｎ＝１〜５Ｎ テックスガード
ダイキン工業■製０ スミフロイル
住人化学工業■製〔発明の効果〕 以上述べたように本発明によれば、光を用いて記録、再
生ま念は消去を行なう光記録媒体の密着貼シ合わせ構造
において、接着層がアクリレートまたはメタクリレート
のモノマーまたはプレポリマーを用いて、そのアクリレ
ートまたはメタクリレートのモノマーまたはプレポリマ
ーの中に塩素、フッ素または珪素を含有するアクリレー
ト ゝメタクリレートまたはオリゴマーを含有させて硬
化させたことによシ、高温多湿の場所での使用、運搬、
保管などによシ記鎌層を酸化させるということがない長
期信頼性のある光記録媒体を提供するという効果を有す
る。
第１図から第８図は本発明の光記録媒体の基本構成図で
ある。 １・・・ポリカーボネートの透光性支持体２・・・８１
ＡｔＮの第１保護層 ！−ＮｄＤｙＦｅＣｏＴｉの記録層２ ４・・・５ＩＡｔＮの第２保護層 ５・・・本発明になる接着層 ６・−ポリカーボネートの透光性支持体７・・・ディス
クのセンターホール ８・・・ポリメチルメタクリレートの透光性支持体 ９・−８１ＡｔＮの第１保護層 １０・”ＮｄＤｙＦｅＣｏＴ１の記録層１ｌ−８ＩＡｔ
Ｎの第２保護層 １２−・本発明になる接着層 １３・・・Ｓ ｔ Ｏ，層 １４−・ポリメチルメタクリレートの透光性支持体 １５・・・ディスクのセンターホール １６・・・エポキシの透光性支持体 １７・・・２Ｐ層 １８・−８ｉＡｔＮの第１保護層 １９−ＮｄＤｙＦａＣｏＴｌの記録層 ２０−８ Ｉ ＡｔＮＦ）？Ｊ ２保護層２１・一本発
明になる接着層 ２２・−エポキシの透光性支持体 ２５・・・ディスクのセンターホール ２４・・・エポキシの透光性支持体 ２５・・・２Ｐ層 ２６・・・５ｔＡｔＮの第１保護層 ２７−”ＮｄＤｙＦｅＣｏＴ１の記録層２８・・・５Ｉ
ＡｔＮの第２保護層 ２９・・・本発明になる接着層 ｓ ｏ−ｓ ｉ、ｏ、層 ５１・・・エポキシの透光性支持体 ３２・・・ディスクのセンターホール ５３・・・ポリカーボネートの透光性支持体３４・５ｉ
ＡｔＮの第１保護層 ３５・−ＮｄＤｙＦｓＣｏＴｉの記録層３６・・・８１
ＡｔＮの第２保護層 ５７−・・本発明になる接着層 ６８・・・ポリカーボネートの透光性支持体３９・・・
ディスクのセンターホール ４ Ｑ−・・ポリメチルメタクリレートの透光性支持体 ４ｌ−８ｘｈｔＮの第１保護層 ４２−ＮｄＤｙＦａＣｏＴｌの記録層 ４３・・・５ＩＡｔＮの第２保護層 ４４・・・本発明になる接着層 ４５・−５ｔＯ，層 ４６・・・ポリメチルメタクリレートの透光性支持体 ４７・・・ディスクのセンターホール ４８・・・エポキシの透光性支持体 ４９・・・２Ｐ層 ５０・・５ｉＡｔＮの第１保護層 ５１−ＮｄＤｙＦｅＣｏＴｉの記録層 ５２・−８ＩＡｔＮの第２保護層 ５３・一本発明になる接着層 ５４ ・・・エポキシの透光性支持体 ５５−・・ディスクのセンターホール ５６−・・エポキシの透光性支持体 ５７・・・２Ｐ層 ５８・・・８１／ｌＮの第１保護層 ５９ ・＝ＮｄＤｙＦｅＣｏＴ１の記録層６０・・−８
ｉＡｔＮの第２保護層 ６１・・・本発明になる接着層 ６２・ ＳＩＯ，層 ６３−・・エポキシの透光性支持体 ６４・・・ディスクのセンターホール。 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 第２で ８４勿 ８５」 ８６１刀
ある。 １・・・ポリカーボネートの透光性支持体２・・・８１
ＡｔＮの第１保護層 ！−ＮｄＤｙＦｅＣｏＴｉの記録層２ ４・・・５ＩＡｔＮの第２保護層 ５・・・本発明になる接着層 ６・−ポリカーボネートの透光性支持体７・・・ディス
クのセンターホール ８・・・ポリメチルメタクリレートの透光性支持体 ９・−８１ＡｔＮの第１保護層 １０・”ＮｄＤｙＦｅＣｏＴ１の記録層１ｌ−８ＩＡｔ
Ｎの第２保護層 １２−・本発明になる接着層 １３・・・Ｓ ｔ Ｏ，層 １４−・ポリメチルメタクリレートの透光性支持体 １５・・・ディスクのセンターホール １６・・・エポキシの透光性支持体 １７・・・２Ｐ層 １８・−８ｉＡｔＮの第１保護層 １９−ＮｄＤｙＦａＣｏＴｌの記録層 ２０−８ Ｉ ＡｔＮＦ）？Ｊ ２保護層２１・一本発
明になる接着層 ２２・−エポキシの透光性支持体 ２５・・・ディスクのセンターホール ２４・・・エポキシの透光性支持体 ２５・・・２Ｐ層 ２６・・・５ｔＡｔＮの第１保護層 ２７−”ＮｄＤｙＦｅＣｏＴ１の記録層２８・・・５Ｉ
ＡｔＮの第２保護層 ２９・・・本発明になる接着層 ｓ ｏ−ｓ ｉ、ｏ、層 ５１・・・エポキシの透光性支持体 ３２・・・ディスクのセンターホール ５３・・・ポリカーボネートの透光性支持体３４・５ｉ
ＡｔＮの第１保護層 ３５・−ＮｄＤｙＦｓＣｏＴｉの記録層３６・・・８１
ＡｔＮの第２保護層 ５７−・・本発明になる接着層 ６８・・・ポリカーボネートの透光性支持体３９・・・
ディスクのセンターホール ４ Ｑ−・・ポリメチルメタクリレートの透光性支持体 ４ｌ−８ｘｈｔＮの第１保護層 ４２−ＮｄＤｙＦａＣｏＴｌの記録層 ４３・・・５ＩＡｔＮの第２保護層 ４４・・・本発明になる接着層 ４５・−５ｔＯ，層 ４６・・・ポリメチルメタクリレートの透光性支持体 ４７・・・ディスクのセンターホール ４８・・・エポキシの透光性支持体 ４９・・・２Ｐ層 ５０・・５ｉＡｔＮの第１保護層 ５１−ＮｄＤｙＦｅＣｏＴｉの記録層 ５２・−８ＩＡｔＮの第２保護層 ５３・一本発明になる接着層 ５４ ・・・エポキシの透光性支持体 ５５−・・ディスクのセンターホール ５６−・・エポキシの透光性支持体 ５７・・・２Ｐ層 ５８・・・８１／ｌＮの第１保護層 ５９ ・＝ＮｄＤｙＦｅＣｏＴ１の記録層６０・・−８
ｉＡｔＮの第２保護層 ６１・・・本発明になる接着層 ６２・ ＳＩＯ，層 ６３−・・エポキシの透光性支持体 ６４・・・ディスクのセンターホール。 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 第２で ８４勿 ８５」 ８６１刀
Claims (1)
- 光を用いて記録、再生または消去を行なう光記録媒体
の密着貼り合わせ構造において、接着層が、アクリレー
トまたはメタクリレートのモノマーまたはプレポリマー
を用いて、該アクリレートまたはメタクリレートのモノ
マーまたはプレポリマーの中に塩素フッ素または珪素を
含有するアクリレート、メタクリレートまたはオリゴマ
ーを含有させて硬化させたことを特徴とする光記録媒体
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61214329A JPS6369045A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61214329A JPS6369045A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6369045A true JPS6369045A (ja) | 1988-03-29 |
Family
ID=16653947
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61214329A Pending JPS6369045A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6369045A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03128248U (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-24 | ||
| US5312714A (en) * | 1991-08-02 | 1994-05-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical recording medium, process for producing recording medium, and information recording method |
| JP2006348230A (ja) * | 2005-06-17 | 2006-12-28 | Jsr Corp | 接着剤用紫外線硬化性液状組成物及び接着剤 |
| US9028941B2 (en) * | 2012-09-25 | 2015-05-12 | Lintec Corporation | Sheet for producing multilayer optical recording medium, multilayer optical recording medium, and adhesive |
-
1986
- 1986-09-11 JP JP61214329A patent/JPS6369045A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03128248U (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-24 | ||
| US5312714A (en) * | 1991-08-02 | 1994-05-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical recording medium, process for producing recording medium, and information recording method |
| JP2006348230A (ja) * | 2005-06-17 | 2006-12-28 | Jsr Corp | 接着剤用紫外線硬化性液状組成物及び接着剤 |
| US9028941B2 (en) * | 2012-09-25 | 2015-05-12 | Lintec Corporation | Sheet for producing multilayer optical recording medium, multilayer optical recording medium, and adhesive |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6503593B2 (en) | Radiation-curable coatings for optical discs and optical discs incorporating such coatings | |
| JPH1067970A (ja) | 光ディスク用接着剤及び光ディスク | |
| JP2000345111A (ja) | 接着剤組成物及びそれを用いた光ディスク | |
| JPH1067977A (ja) | 光ディスク用接着剤及び光ディスク | |
| JP4164722B2 (ja) | 光ディスク及び光ディスク用紫外線硬化型組成物 | |
| JPH11191240A (ja) | 光記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH04337307A (ja) | 光ディスク用オーバーコート剤及びその硬化物 | |
| JP2009543936A (ja) | 放射線硬化性アクリラート組成物 | |
| JPS6330880B2 (ja) | ||
| JPH02116036A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH0341639A (ja) | 光記録媒体 | |
| JP2001311067A (ja) | 紫外線硬化型組成物及び光ディスク | |
| CN103874693B (zh) | 能量可固化的粘合树脂 | |
| JP5104766B2 (ja) | 光ディスク用紫外線硬化型組成物および光ディスク | |
| JPS6045952A (ja) | 情報記録用ディスク | |
| JPH04261418A (ja) | 光情報記録媒体用ハードコート樹脂組成物 | |
| JP2002109785A (ja) | 光ディスク及びこれに用いる紫外線硬化性組成物 | |
| JPH04247338A (ja) | 光ディスク | |
| JPS6374142A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP4038417B2 (ja) | 光学記録媒体及びそれに使用される光透過性保護膜の製造方法 | |
| JP2918719B2 (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JP2004103152A (ja) | 光ディスク及び光ディスク用紫外線硬化型組成物 | |
| JPH0480457B2 (ja) | ||
| JP2012203917A (ja) | 光透過層用光硬化性組成物、光ディスク及び光ディスクの製造方法 | |
| JPH10199049A (ja) | 光記録媒体の製造方法 |