JPS636997B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS636997B2 JPS636997B2 JP15129184A JP15129184A JPS636997B2 JP S636997 B2 JPS636997 B2 JP S636997B2 JP 15129184 A JP15129184 A JP 15129184A JP 15129184 A JP15129184 A JP 15129184A JP S636997 B2 JPS636997 B2 JP S636997B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- aluminum
- nickel
- copper
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 33
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 12
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 37
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 8
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 6
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- DITXJPASYXFQAS-UHFFFAOYSA-N nickel;sulfamic acid Chemical compound [Ni].NS(O)(=O)=O DITXJPASYXFQAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 3
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical group [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 2
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 2
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N copper(i) cyanide Chemical compound [Cu+].N#[C-] DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEKPFOXEZRZPGW-UHFFFAOYSA-N copper;dicyanide Chemical compound [Cu+2].N#[C-].N#[C-] LEKPFOXEZRZPGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229940071182 stannate Drugs 0.000 description 1
- 125000005402 stannate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアルミニウムブスバーの構造に関す
る。特に本発明は導体の接続部およびプラグとの
接触面の電気的接触を改良されたアルミニウムブ
スバーに関する。なお本明細書で用いる「アルミ
ニウム」という用語はアルミニウムとその合金を
意味する。従来ブスバーには銅導体が使用されて
いるが銅の資源、供給、価格が不安定なことか
ら、アルミニウム導体への移行が進行している。
しかしながら、アルミニウムブスバーを使用する
場合には、銅導体との接続部における腐食や、銅
またはアルミニウム導体との接触面における接触
抵抗の増加等の不安があり、工事の際に接触面の
研磨、コンパウンドの塗付が行われている。ま
た、このような作業を省略し、作業ミスによる事
故を防止するためには、通常、アルミニウムブス
バーの接続部にジンケート処理を施した後、銅メ
ツキを行い、その上に、錫または銀をメツキして
いる。ジンケート法により、錫または銀をメツキ
されたアルミニウムブスバーは、著しい腐食雰囲
気や高温に曝されない場所では、工事前に特別な
処理をしなくても使用できる。しかしながら、従
来の構造のものでは後述の比較例1に示すよう
に、メツキの工程数が非常に多い。また従来の構
造のものでは、銅のストライクおよび下地メツキ
層を有するために、一旦アルミニウム素地およ
び/または亜鉛の置換層が露出すると、銅との接
触腐食により、アルミニウムまたは亜鉛が著しい
腐食を受け、メツキがふくれるという欠点があ
る。また著しい腐食性の環境や高温での使用、ま
たはプラグにゆるみが生じたり他の導体との接続
時のボルトの締付けが不充分である場合には、接
触部の抵抗が増大して、過熱する危険がある。従
来の構造のもう一つの欠点は、その製造時に使用
する銅メツキ液がPH12以上の強アリカリ性である
ために、ジンケート層にわずかでも欠陥がある
と、そこからアルミニウムが溶解して、銅メツキ
をしている時にメツキ層がふくれるという不良が
しばしば発生することである。さらに、従来の構
造のものでは、その製造時に使用するメツキ液が
毒性の強いシアン化物を含んでいるという欠点が
ある。
る。特に本発明は導体の接続部およびプラグとの
接触面の電気的接触を改良されたアルミニウムブ
スバーに関する。なお本明細書で用いる「アルミ
ニウム」という用語はアルミニウムとその合金を
意味する。従来ブスバーには銅導体が使用されて
いるが銅の資源、供給、価格が不安定なことか
ら、アルミニウム導体への移行が進行している。
しかしながら、アルミニウムブスバーを使用する
場合には、銅導体との接続部における腐食や、銅
またはアルミニウム導体との接触面における接触
抵抗の増加等の不安があり、工事の際に接触面の
研磨、コンパウンドの塗付が行われている。ま
た、このような作業を省略し、作業ミスによる事
故を防止するためには、通常、アルミニウムブス
バーの接続部にジンケート処理を施した後、銅メ
ツキを行い、その上に、錫または銀をメツキして
いる。ジンケート法により、錫または銀をメツキ
されたアルミニウムブスバーは、著しい腐食雰囲
気や高温に曝されない場所では、工事前に特別な
処理をしなくても使用できる。しかしながら、従
来の構造のものでは後述の比較例1に示すよう
に、メツキの工程数が非常に多い。また従来の構
造のものでは、銅のストライクおよび下地メツキ
層を有するために、一旦アルミニウム素地およ
び/または亜鉛の置換層が露出すると、銅との接
触腐食により、アルミニウムまたは亜鉛が著しい
腐食を受け、メツキがふくれるという欠点があ
る。また著しい腐食性の環境や高温での使用、ま
たはプラグにゆるみが生じたり他の導体との接続
時のボルトの締付けが不充分である場合には、接
触部の抵抗が増大して、過熱する危険がある。従
来の構造のもう一つの欠点は、その製造時に使用
する銅メツキ液がPH12以上の強アリカリ性である
ために、ジンケート層にわずかでも欠陥がある
と、そこからアルミニウムが溶解して、銅メツキ
をしている時にメツキ層がふくれるという不良が
しばしば発生することである。さらに、従来の構
造のものでは、その製造時に使用するメツキ液が
毒性の強いシアン化物を含んでいるという欠点が
ある。
本発明の目的は、従来法の上記欠点に鑑み、こ
れらの欠点を一切有さないアルミニウムブスバー
の構造を与えるものである。
れらの欠点を一切有さないアルミニウムブスバー
の構造を与えるものである。
本発明のアルミニウムブスバーは、導体との接
続部およびプラグの接触面にニツケルを1〜50
mg/cm2の割合で直接電気メツキを施したものであ
る。すなわち、本発明のアルミニウムブスバー
は、ニツケルメツキの前処理として、塩酸5〜35
%を含む溶液でエツチングを行ない、次にスルフ
アミン酸塩またはホウフツ化物としてニツケルイ
オンを50g/以上含むメツキ液よりニツケルを
1〜50mg/cm2の割合で導体の接続部およびプラグ
の接触面に直接ニツケルメツキを施すことを特徴
とするアルミニウムブスバーの製造方法によつて
得ることができる。
続部およびプラグの接触面にニツケルを1〜50
mg/cm2の割合で直接電気メツキを施したものであ
る。すなわち、本発明のアルミニウムブスバー
は、ニツケルメツキの前処理として、塩酸5〜35
%を含む溶液でエツチングを行ない、次にスルフ
アミン酸塩またはホウフツ化物としてニツケルイ
オンを50g/以上含むメツキ液よりニツケルを
1〜50mg/cm2の割合で導体の接続部およびプラグ
の接触面に直接ニツケルメツキを施すことを特徴
とするアルミニウムブスバーの製造方法によつて
得ることができる。
本発明のアルミニウムブスバーを製造するに
は、まず該ブスバーの接続部は塩酸5〜35%を含
む溶液、好ましくは塩酸10〜20%、硝酸および/
または硫酸0.5〜1%を含む溶液で、5秒〜2分
間、好ましくは30秒〜1分間エツチングする。し
かる後、水洗して、ニツケルイオン50g/以上
を含むスルフアミン酸ニツケルメツキ液またはホ
ウフツ化ニツケルメツキ液よりメツキされる。本
発明によるアルミニウムブスバーの構造は、その
接続部において、著しい微視的な凹凸を有するア
ルミニウム上に、ニツケルが1〜50mg/cm2、好ま
しくは5〜20mg/cm2の割合で直接固着したものと
なつている。
は、まず該ブスバーの接続部は塩酸5〜35%を含
む溶液、好ましくは塩酸10〜20%、硝酸および/
または硫酸0.5〜1%を含む溶液で、5秒〜2分
間、好ましくは30秒〜1分間エツチングする。し
かる後、水洗して、ニツケルイオン50g/以上
を含むスルフアミン酸ニツケルメツキ液またはホ
ウフツ化ニツケルメツキ液よりメツキされる。本
発明によるアルミニウムブスバーの構造は、その
接続部において、著しい微視的な凹凸を有するア
ルミニウム上に、ニツケルが1〜50mg/cm2、好ま
しくは5〜20mg/cm2の割合で直接固着したものと
なつている。
塩酸5%以下あるいはエツチング時間5秒以下
では全面がエツチングされず、メツキが不均一に
なり、ブスバーとして使用した時に耐食性が悪
く、接触抵抗も大きい。塩酸35%以上ではガスの
発生が著しく、またエツチング時間2分以上では
生産速度が遅くなり、またニツケルイオン50g/
以下では、電着速度が小さくなりメツキ時間が
長くなり過ぎて、実際の操業では適用できない。
スルフアミン酸ニツケルメツキ浴またはホウフツ
化ニツケル化浴以外のメツキ液ではメツキが密着
せず、ブスバーとして使用できない。ニツケルメ
ツキ量1mg/cm2未満では耐食性の点でブスバーと
して使用するには問題があり、50mg/cm2を超える
とアルミニウムに比べ高価なニツケルを大量に使
用することになり、コストが高くなり過ぎる。
では全面がエツチングされず、メツキが不均一に
なり、ブスバーとして使用した時に耐食性が悪
く、接触抵抗も大きい。塩酸35%以上ではガスの
発生が著しく、またエツチング時間2分以上では
生産速度が遅くなり、またニツケルイオン50g/
以下では、電着速度が小さくなりメツキ時間が
長くなり過ぎて、実際の操業では適用できない。
スルフアミン酸ニツケルメツキ浴またはホウフツ
化ニツケル化浴以外のメツキ液ではメツキが密着
せず、ブスバーとして使用できない。ニツケルメ
ツキ量1mg/cm2未満では耐食性の点でブスバーと
して使用するには問題があり、50mg/cm2を超える
とアルミニウムに比べ高価なニツケルを大量に使
用することになり、コストが高くなり過ぎる。
本発明の具体的な実施においては、圧延または
押出によつて製造したアルミニウム板材を望まれ
る大きさに切断した後、必要に応じて研磨、脱脂
などを行ない、しかる後、接続部をアルカリでエ
ツチングする。アルカリエツチング液としては、
例えばカセイソーダ、炭酸ソーダ等の溶液が使用
され、場合によつては、グルコン酸ソーダ等の界
面活性剤を含む溶液が使用される。次に水洗し、
接続部を前述の塩酸5〜35%を含む溶液でエツチ
ングし、しかる後水洗して、ニツケルメツキを施
す。通常、接続面のみを処理するために、接続面
のみを液中に浸漬してエツチング、メツキが行な
われるが、同じ目的のために接続部以外の部分を
塗装、ビニルテープ、ゴム等によつて予め被覆し
ておいてもよい。スルフアミン酸ニツケルメツキ
液は、スルフアミン酸ニツケル以外に、塩化ニツ
ケル、ホウ酸を加えるのが好ましく、またホウフ
ツ化ニツケルメツキ液は、ホウフツ化ニツケル以
外にホウ酸を含むものが好ましい。また、本発明
のアルミニウムブスバーの製造は、手動、半自動
または自動のいずれにおいても操業できる。
押出によつて製造したアルミニウム板材を望まれ
る大きさに切断した後、必要に応じて研磨、脱脂
などを行ない、しかる後、接続部をアルカリでエ
ツチングする。アルカリエツチング液としては、
例えばカセイソーダ、炭酸ソーダ等の溶液が使用
され、場合によつては、グルコン酸ソーダ等の界
面活性剤を含む溶液が使用される。次に水洗し、
接続部を前述の塩酸5〜35%を含む溶液でエツチ
ングし、しかる後水洗して、ニツケルメツキを施
す。通常、接続面のみを処理するために、接続面
のみを液中に浸漬してエツチング、メツキが行な
われるが、同じ目的のために接続部以外の部分を
塗装、ビニルテープ、ゴム等によつて予め被覆し
ておいてもよい。スルフアミン酸ニツケルメツキ
液は、スルフアミン酸ニツケル以外に、塩化ニツ
ケル、ホウ酸を加えるのが好ましく、またホウフ
ツ化ニツケルメツキ液は、ホウフツ化ニツケル以
外にホウ酸を含むものが好ましい。また、本発明
のアルミニウムブスバーの製造は、手動、半自動
または自動のいずれにおいても操業できる。
本発明のアルミニウムブスバーは後述の実施例
1に示すように、従来の構造のものに比べ製造工
程数が著しく短縮している上に、シアン化物を一
切使用せず、またニツケルが直接アルミニウム表
面にメツキされているために、アルミニウム素地
が露出しても、接触腐食は従来のものに比べはる
かに小さい。また、ニツケルは銅に比べ耐酸化性
に優れておりアルミとの相互拡散が小さいため
に、従来のもののように高温での使用中に触触抵
抗が著しく増大するという現象は起らない。ま
た、本発明のアルミニウムブスバーは、通電サイ
クルテストの結果、接触抵抗が非常に安定してい
ることが分つた。これは、製造方法において、ア
ルミニウムをエツチングする際に著しい凹凸を生
じ、その上にメツキを施しても、メツキの表面に
著しい凹凸が生じていることと、何らかの関係が
あるものと思われるが、詳細は明らかではない。
1に示すように、従来の構造のものに比べ製造工
程数が著しく短縮している上に、シアン化物を一
切使用せず、またニツケルが直接アルミニウム表
面にメツキされているために、アルミニウム素地
が露出しても、接触腐食は従来のものに比べはる
かに小さい。また、ニツケルは銅に比べ耐酸化性
に優れておりアルミとの相互拡散が小さいため
に、従来のもののように高温での使用中に触触抵
抗が著しく増大するという現象は起らない。ま
た、本発明のアルミニウムブスバーは、通電サイ
クルテストの結果、接触抵抗が非常に安定してい
ることが分つた。これは、製造方法において、ア
ルミニウムをエツチングする際に著しい凹凸を生
じ、その上にメツキを施しても、メツキの表面に
著しい凹凸が生じていることと、何らかの関係が
あるものと思われるが、詳細は明らかではない。
次に、本発明の実施例について述べる。
実施例 1
厚さ10mm、幅200mm、長さ5mのA1060−Fア
ルミニウム押出板で、裸導体3極フイーダバスダ
クトを製造した。その際、導体は押出後、接続部
をカセイソーダ30g/、炭酸ソーダ30g/か
らなる60℃の溶液で1分間エツチングし水洗し、
次いで塩酸16%、硝酸1%からなる溶液で1分間
エツチングし、水洗し、Ni(SO3NH2)2・
4H2O320g/、NiCl2・6H2O15g/、
H3BO330g/からなる50℃のメツキ液に浸漬
し、5A/dm2の電流密度で5分間メツキして、
ニツケル約4.6mg/cm2のメツキを得た。厚さ10mm、
幅200mm、長さ150mmの同一材質の当て板にも、同
じ方法で約4.6mg/cm2のニツケルメツキを施した。
2組のバスダクトの各導体間にこの当て板を挿入
し、亜鉛メツキ銅製ボルト、ナツト、座金を用い
て接続した。接続部の温度を熱電対を用いて測定
しながら、600Vで3000Aの電流を45分間流し、
45分間通電を停止した。これを1000サイクル繰返
したところ、最大温度上昇は30℃で、非常に小さ
かつた。
ルミニウム押出板で、裸導体3極フイーダバスダ
クトを製造した。その際、導体は押出後、接続部
をカセイソーダ30g/、炭酸ソーダ30g/か
らなる60℃の溶液で1分間エツチングし水洗し、
次いで塩酸16%、硝酸1%からなる溶液で1分間
エツチングし、水洗し、Ni(SO3NH2)2・
4H2O320g/、NiCl2・6H2O15g/、
H3BO330g/からなる50℃のメツキ液に浸漬
し、5A/dm2の電流密度で5分間メツキして、
ニツケル約4.6mg/cm2のメツキを得た。厚さ10mm、
幅200mm、長さ150mmの同一材質の当て板にも、同
じ方法で約4.6mg/cm2のニツケルメツキを施した。
2組のバスダクトの各導体間にこの当て板を挿入
し、亜鉛メツキ銅製ボルト、ナツト、座金を用い
て接続した。接続部の温度を熱電対を用いて測定
しながら、600Vで3000Aの電流を45分間流し、
45分間通電を停止した。これを1000サイクル繰返
したところ、最大温度上昇は30℃で、非常に小さ
かつた。
実施例 2
厚さ4mm、幅25mm、長さ2mのA1060−H14ア
ルミニウム圧延板で、タツプ付バスダクトを製造
した。圧延、伸直、切断後、トリクロルエチレン
で洗滌し、タツプ部を、カセイソーダ50g/、
グルコン酸ソーダ3g/の50℃の溶液で2分間
エツチングし、水洗し、塩酸15%、硫酸0.5%を
含む溶液でエツチングした後、水洗して、実施例
1と同一のメツキ液より、50℃の浴温、8A/d
m2の電流密度で10分間メツキし、約14.6mg/cm2の
ニツケルメツキを施した。タツプ部に、黄銅製端
子ねじを用いて、2.6mmφのビニル覆銅線を接続
し、50Aの電流を流した。最大上昇温度は27℃
で、小さかつた。
ルミニウム圧延板で、タツプ付バスダクトを製造
した。圧延、伸直、切断後、トリクロルエチレン
で洗滌し、タツプ部を、カセイソーダ50g/、
グルコン酸ソーダ3g/の50℃の溶液で2分間
エツチングし、水洗し、塩酸15%、硫酸0.5%を
含む溶液でエツチングした後、水洗して、実施例
1と同一のメツキ液より、50℃の浴温、8A/d
m2の電流密度で10分間メツキし、約14.6mg/cm2の
ニツケルメツキを施した。タツプ部に、黄銅製端
子ねじを用いて、2.6mmφのビニル覆銅線を接続
し、50Aの電流を流した。最大上昇温度は27℃
で、小さかつた。
実施例 3
厚さ0.8mm、幅10cm、長さ0.5mのA1060−H14
アルミニウム圧延板のバスダクトアダプターを製
造した。両端より7cmをトリクロルエチレンで洗
滌し、50g/のカセイソーダを含む60℃の溶液
で1分間エツチングし、水洗し、塩酸18%の溶液
でエツチングし、 ホウフツ化ニツケル 650g/ ホウ酸 30g/ からなるメツキ液で10A/dm2の電流密度で2分
間メツキして、約3.7mg/cm2のニツケルメツキを
施た。NaCl5%、35℃で72時間の塩水噴霧試験を
行つたが全く腐食は生じなかつた。
アルミニウム圧延板のバスダクトアダプターを製
造した。両端より7cmをトリクロルエチレンで洗
滌し、50g/のカセイソーダを含む60℃の溶液
で1分間エツチングし、水洗し、塩酸18%の溶液
でエツチングし、 ホウフツ化ニツケル 650g/ ホウ酸 30g/ からなるメツキ液で10A/dm2の電流密度で2分
間メツキして、約3.7mg/cm2のニツケルメツキを
施た。NaCl5%、35℃で72時間の塩水噴霧試験を
行つたが全く腐食は生じなかつた。
比較例 1
従来の方法で、実施例1と同型のバスダクトを
製造した。ただし、接続部の表面処理は従来のジ
ンケート法により、押出後カセイソーダ30g/
、炭酸ソーダ30g/からなる60℃の溶液でエ
ツチングし、水洗し、硝酸50%の溶液に10秒間浸
漬し、 NaOH 525g/ ZnO 100g/ の溶液に1分間浸漬してジンケート処理を施し、
水洗し、シアン化銅ストライクメツキ浴より40℃
で2.6A/dm2の電流密度で1分間メツキし、水
洗し、次いでシアン化銅メツキ液(89℃)より
4A/dm2で5分間メツキし、その上に錫酸塩浴
より、5μ錫メツキを施した。実施例1と同一材
質、同一形状の当て板にも、ジンケート法で錫メ
ツキを施した。これらのバスダクトおよび付属品
に、実施例1と同一の方法で試験したところ、最
大上昇温度は120℃に達した。
製造した。ただし、接続部の表面処理は従来のジ
ンケート法により、押出後カセイソーダ30g/
、炭酸ソーダ30g/からなる60℃の溶液でエ
ツチングし、水洗し、硝酸50%の溶液に10秒間浸
漬し、 NaOH 525g/ ZnO 100g/ の溶液に1分間浸漬してジンケート処理を施し、
水洗し、シアン化銅ストライクメツキ浴より40℃
で2.6A/dm2の電流密度で1分間メツキし、水
洗し、次いでシアン化銅メツキ液(89℃)より
4A/dm2で5分間メツキし、その上に錫酸塩浴
より、5μ錫メツキを施した。実施例1と同一材
質、同一形状の当て板にも、ジンケート法で錫メ
ツキを施した。これらのバスダクトおよび付属品
に、実施例1と同一の方法で試験したところ、最
大上昇温度は120℃に達した。
比較例 2
実施例3と同型のアダプターを製造した。トリ
クロルエチレンで洗滌後、両端より7cmに比較例
1と同一のエツチング、酸洗、ジンケート処理、
銅ストライクメツキを施し、その上に実施例3と
同一の方法で同一時間ニツケルメツキを施した。
実施例3と同一の塩水噴霧試験を施したところ、
14ケ/dm2の割合でふくれを生じた。
クロルエチレンで洗滌後、両端より7cmに比較例
1と同一のエツチング、酸洗、ジンケート処理、
銅ストライクメツキを施し、その上に実施例3と
同一の方法で同一時間ニツケルメツキを施した。
実施例3と同一の塩水噴霧試験を施したところ、
14ケ/dm2の割合でふくれを生じた。
上述のごとく、本発明のアルミニウムブスバー
は電気的接触抵抗が安定でかつ耐食性にも優れた
安価なものでその工業的応用価値は多大なものが
ある。
は電気的接触抵抗が安定でかつ耐食性にも優れた
安価なものでその工業的応用価値は多大なものが
ある。
Claims (1)
- 1 導体の接続部およびプラグの接触面にニツケ
ルを1〜50mg/cm2の割合で直接電気メツキしたア
ルミニウムブスバー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15129184A JPS6035477A (ja) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | 改良されたアルミニウムブスバー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15129184A JPS6035477A (ja) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | 改良されたアルミニウムブスバー |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6035477A JPS6035477A (ja) | 1985-02-23 |
| JPS636997B2 true JPS636997B2 (ja) | 1988-02-15 |
Family
ID=15515468
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15129184A Granted JPS6035477A (ja) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | 改良されたアルミニウムブスバー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6035477A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10697643B2 (en) * | 2015-08-26 | 2020-06-30 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Cooker |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5146841B2 (ja) * | 2009-06-11 | 2013-02-20 | 横浜プレシジョン株式会社 | メッキ装置 |
| JP7162413B2 (ja) * | 2017-03-29 | 2022-10-28 | 日本軽金属株式会社 | アルミニウム合金製車載用バスバー及びその製造方法 |
| JP6738849B2 (ja) * | 2018-03-26 | 2020-08-12 | 昭和電線ケーブルシステム株式会社 | ブッシング |
-
1984
- 1984-07-23 JP JP15129184A patent/JPS6035477A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10697643B2 (en) * | 2015-08-26 | 2020-06-30 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Cooker |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6035477A (ja) | 1985-02-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4346128A (en) | Tank process for plating aluminum substrates including porous aluminum castings | |
| US3895851A (en) | Brittle-surfaced connector | |
| US3654099A (en) | Cathodic activation of stainless steel | |
| US4169770A (en) | Electroplating aluminum articles | |
| US4789437A (en) | Pulse electroplating process | |
| US5464524A (en) | Plating method for a nickel-titanium alloy member | |
| WO1998033959A1 (en) | Method for electroplating nonconductive material | |
| JPH01268896A (ja) | 電気めっき方法 | |
| US3455014A (en) | Method of joining by plating aluminum and alloys thereof | |
| US4670312A (en) | Method for preparing aluminum for plating | |
| GB2079321A (en) | Electrolytic stripping bath and process | |
| JPS636997B2 (ja) | ||
| US4360411A (en) | Aluminum electrical contacts and method of making same | |
| US4400248A (en) | Electrolytic stripping process | |
| US3867265A (en) | Process for electroplating an aluminum wire | |
| JPS583348B2 (ja) | アルミニウム端子およびその製造法 | |
| US3468765A (en) | Method of plating copper on aluminum | |
| CN110306220B (zh) | 接插件电镀工艺 | |
| JPS6013272B2 (ja) | 改良されたアルミニウムブスバ−の製造方法 | |
| US2662054A (en) | Method of electrodepositing chromium directly on aluminum | |
| US2966448A (en) | Methods of electroplating aluminum and alloys thereof | |
| US2195231A (en) | Art of coating metals | |
| US4039410A (en) | Electrocleaning process | |
| US2563229A (en) | Method of producing bright electroplate on electropolished surfaces | |
| CN112680757B (zh) | 一种电极的电镀镀镍工艺 |