JPS6372314A - 濾過装置 - Google Patents
濾過装置Info
- Publication number
- JPS6372314A JPS6372314A JP61215778A JP21577886A JPS6372314A JP S6372314 A JPS6372314 A JP S6372314A JP 61215778 A JP61215778 A JP 61215778A JP 21577886 A JP21577886 A JP 21577886A JP S6372314 A JPS6372314 A JP S6372314A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter
- filter box
- space
- filter membrane
- pure water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Filtration Of Liquid (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液体中の異物を除去するフィルター等の濾過
装置に適用して有効な技術に関するもので、たとえば、
半導体装置製造に用いられる純水を供給するための濾過
装置に利用して有効な技術に関するものである。
装置に適用して有効な技術に関するもので、たとえば、
半導体装置製造に用いられる純水を供給するための濾過
装置に利用して有効な技術に関するものである。
純水製造技術については、たとえば、株式会社工業調査
会、昭和６０年１１月２０日発行「電子材料１９８５年
別冊、ｊｉＨＬｓＩ製造・試験装置ガイドブックＪ Ｐ
１６２〜Ｐ１６６に記載されている。その概要は、超純
水の製造システム等が順を追って説明されている。
会、昭和６０年１１月２０日発行「電子材料１９８５年
別冊、ｊｉＨＬｓＩ製造・試験装置ガイドブックＪ Ｐ
１６２〜Ｐ１６６に記載されている。その概要は、超純
水の製造システム等が順を追って説明されている。
本発明者は、上記のようにして製造されて供給された純
水の濾過技術について検討した。以下は、公知とされた
技術ではないが、本発明者によって検討された技術であ
り、その概要は次の通りである。
水の濾過技術について検討した。以下は、公知とされた
技術ではないが、本発明者によって検討された技術であ
り、その概要は次の通りである。
すなわち、上記の純水製造装置によって製造された純水
は、所定の配管内を経由して、たとえばマスクあるいは
レチクル等の洗浄装置等に供給される。このとき、配管
内で純水に異物が混入される恐れがあるため、配管途中
に濾過装置を介装して当該異物の除去を行うことが知ら
れている。
は、所定の配管内を経由して、たとえばマスクあるいは
レチクル等の洗浄装置等に供給される。このとき、配管
内で純水に異物が混入される恐れがあるため、配管途中
に濾過装置を介装して当該異物の除去を行うことが知ら
れている。
このような濾過装置構造としては、ステンレス合金等か
らなるフィルターボックスの内部に長繊維あるいは合成
樹脂からなるフィルター膜が張設されており、このフィ
ルター膜により隔成された一次空間から二次空間側に純
水が流通する際に雑菌等の異物が除去される構造のもの
が知られている。
らなるフィルターボックスの内部に長繊維あるいは合成
樹脂からなるフィルター膜が張設されており、このフィ
ルター膜により隔成された一次空間から二次空間側に純
水が流通する際に雑菌等の異物が除去される構造のもの
が知られている。
ところで、このような濾過装置は、その除去効率の点か
ら、供給先の装置の直前に配設するのが最も効率的であ
ると考えられる。
ら、供給先の装置の直前に配設するのが最も効率的であ
ると考えられる。
ところが、上記の濾過装置はその配設位置によっては、
供給先の装置の電源あるいはモーターの近傍等、高温状
態の環境となる場合が多い。
供給先の装置の電源あるいはモーターの近傍等、高温状
態の環境となる場合が多い。
このような高温環境下で濾過装置を用いた場合には濾過
装置のフィルターボックス内で発生した雑菌が成長しや
すく、この雑菌の一部がフィルター膜を通過してしまい
、二次空間側に供給される純水を汚染したり、あるいは
フィルター膜の目詰まりを起こす等、濾過効率を著しく
低下させる場合がある。
装置のフィルターボックス内で発生した雑菌が成長しや
すく、この雑菌の一部がフィルター膜を通過してしまい
、二次空間側に供給される純水を汚染したり、あるいは
フィルター膜の目詰まりを起こす等、濾過効率を著しく
低下させる場合がある。
すなわち、濾過装置のフィルター内が雑菌の成長しやす
い温度環境となっている場合には、フィルター自体が本
来有している除菌効果を所定時間維持することができな
くなり、フィルターの交換を頻繁に行う必要が生じてし
まうことが本発明者によって見い出されたのである。
い温度環境となっている場合には、フィルター自体が本
来有している除菌効果を所定時間維持することができな
くなり、フィルターの交換を頻繁に行う必要が生じてし
まうことが本発明者によって見い出されたのである。
本発明は、上記問題点に着目してなされたものであり、
その目的は長期間にわたって所定の除菌効果を維持でき
る濾過技術を提供することにある。
その目的は長期間にわたって所定の除菌効果を維持でき
る濾過技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、濾過装置の濾過作用を行うフィルターボック
スの周囲に冷却機構を設けたものである。
スの周囲に冷却機構を設けたものである。
上記した手段によれば、水の滞留を生じるフィルターボ
ックス内の一次空間および二次空間の各空間を所定の低
温条件で維持できるため、雑菌の成長を抑制でき、長期
間にわたってフィルター膜の除菌効果を維持できる。
ックス内の一次空間および二次空間の各空間を所定の低
温条件で維持できるため、雑菌の成長を抑制でき、長期
間にわたってフィルター膜の除菌効果を維持できる。
第１図は本発明の一実施例である濾過装置を示す説明図
である。
である。
本実施例の濾過装置１は半導体装置製造用マスクの洗浄
を行う、いわゆるスクラバー洗浄装置！（図示せず）に
純水などの水を供給するための濾過装置であり、純水供
給源とスクラバー洗浄装置との配管２の途中部分に介装
されて使用されるものである。
を行う、いわゆるスクラバー洗浄装置！（図示せず）に
純水などの水を供給するための濾過装置であり、純水供
給源とスクラバー洗浄装置との配管２の途中部分に介装
されて使用されるものである。
濾過装置２は、上記配管２と接続されたフィルターボッ
クス３が冷却槽４の内部に設けられた構造を有しており
、この冷却槽４内には冷却水５が満たされている。当該
冷却水５は上記冷却槽４の近傍に配設された循環式の低
温恒温装置６によって順次冷却槽４内との間を循環され
る構造となっており、これによりフィルターボックス３
内が常に所定の低温条件に維持されるようになっている
。
クス３が冷却槽４の内部に設けられた構造を有しており
、この冷却槽４内には冷却水５が満たされている。当該
冷却水５は上記冷却槽４の近傍に配設された循環式の低
温恒温装置６によって順次冷却槽４内との間を循環され
る構造となっており、これによりフィルターボックス３
内が常に所定の低温条件に維持されるようになっている
。
本実施例では、たとえば冷却槽４内は１〜７℃の温度条
件となるように低温恒温装置６によって温度制御がなさ
れている。
件となるように低温恒温装置６によって温度制御がなさ
れている。
フィルターボックス３の内部は、純水供給源側の配管２
と連通される一次空間７と、スクラバー洗浄装置側と連
通される二次空間８とに隔成されている。これらの各空
間７および８を隔成する中央部分にはフィルター膜９が
、多数の貫通孔の開設されたステンレス合金からなる支
持板１０ａ。
と連通される一次空間７と、スクラバー洗浄装置側と連
通される二次空間８とに隔成されている。これらの各空
間７および８を隔成する中央部分にはフィルター膜９が
、多数の貫通孔の開設されたステンレス合金からなる支
持板１０ａ。
１０ｂに挟持された状態で張設されている。
ここで、本実施例で使用されるフィルター膜９は、たと
えばセルロースエステル系のいわゆるメンブランフィル
タ−であり、セルロースエステルをアルコール、水、ア
セトン等の混合溶媒に溶かし込み、これをキャスティン
グにより例えば厚さ１５０μｍ程度のフィルム状に加工
して得られるものである。
えばセルロースエステル系のいわゆるメンブランフィル
タ−であり、セルロースエステルをアルコール、水、ア
セトン等の混合溶媒に溶かし込み、これをキャスティン
グにより例えば厚さ１５０μｍ程度のフィルム状に加工
して得られるものである。
なお、このフィルター膜９としては、他にセルロース繊
維等の長繊維材を所定の厚さに圧縮して得られる、いわ
ゆるデプスフィルターを用いてもよい。
維等の長繊維材を所定の厚さに圧縮して得られる、いわ
ゆるデプスフィルターを用いてもよい。
これらのフィルター膜９はその膜の表裏面を貫通する細
孔、たとえば１μｍ程度の細孔が多数設けられている構
造を有しており、−次空間７側から二次空間８側へ水た
とえば純水１１が流通する際に、このフィルター膜９の
一次空間７側の表面あるいはフィルター膜９の内部で異
物粒子が捕捉されるようになっている。したがって、水
たとえば純水１１はフィルター膜９を通過する際にその
中の異物粒子が捕捉されて所定の純度となって二次空間
８側に流出される。
孔、たとえば１μｍ程度の細孔が多数設けられている構
造を有しており、−次空間７側から二次空間８側へ水た
とえば純水１１が流通する際に、このフィルター膜９の
一次空間７側の表面あるいはフィルター膜９の内部で異
物粒子が捕捉されるようになっている。したがって、水
たとえば純水１１はフィルター膜９を通過する際にその
中の異物粒子が捕捉されて所定の純度となって二次空間
８側に流出される。
ところで、このようなフィルター膜９による濾過技術で
は、フィルター膜９で捕捉された異物粒子から雑菌が成
長し、この雑菌がフィルターボックス３内の高温な温度
環境によってさらに成長が加速される場合がある。この
ように−次空間７内での雑菌量が増大した場合には、相
対的にフィルター膜９による濾過効率が低下するととも
に、フィルター膜９の目詰まり、さらには雑菌の二次空
間８側への流出を生じることになる。このように、高温
温度条件ではフィルター膜９の本来の濾過効率を所定期
間維持できず、二次空間８側へ流出される純水１１が汚
染された状態となる場合もある。
は、フィルター膜９で捕捉された異物粒子から雑菌が成
長し、この雑菌がフィルターボックス３内の高温な温度
環境によってさらに成長が加速される場合がある。この
ように−次空間７内での雑菌量が増大した場合には、相
対的にフィルター膜９による濾過効率が低下するととも
に、フィルター膜９の目詰まり、さらには雑菌の二次空
間８側への流出を生じることになる。このように、高温
温度条件ではフィルター膜９の本来の濾過効率を所定期
間維持できず、二次空間８側へ流出される純水１１が汚
染された状態となる場合もある。
しかし、本実施例によればフィルターボックス３が冷却
水５の循環される冷却槽４内に浸漬されており、このフ
ィルターボックス３内の一次空間７および二次空間８内
の温度条件が１℃〜７℃程度の範囲で保たれている。こ
のような低温の温度条件の下では雑菌の成長は抑制され
るため、本来のフィルター膜９の濾過効率を長期間にわ
たって維持することができる。
水５の循環される冷却槽４内に浸漬されており、このフ
ィルターボックス３内の一次空間７および二次空間８内
の温度条件が１℃〜７℃程度の範囲で保たれている。こ
のような低温の温度条件の下では雑菌の成長は抑制され
るため、本来のフィルター膜９の濾過効率を長期間にわ
たって維持することができる。
このように、本実施例によれば以下の効果を得ることが
できる。
できる。
（１）、フィルター膜９の張設されたフィルターボック
ス３が冷却槽４内の冷却水５中に浸漬され所定の低温状
態を維持されているため、フィルターボックス３内での
雑菌の成長を抑制でき、フィルター膜９による除菌効果
を長期間にわたって維持できる。
ス３が冷却槽４内の冷却水５中に浸漬され所定の低温状
態を維持されているため、フィルターボックス３内での
雑菌の成長を抑制でき、フィルター膜９による除菌効果
を長期間にわたって維持できる。
（２）、上記（１）により、フィルター膜９の交換細度
を低減できるため、低コストで基準純度の純水１１を供
給することが可能となる。
を低減できるため、低コストで基準純度の純水１１を供
給することが可能となる。
（３）、冷却機構を、冷却槽４内に冷却水５を循環させ
る構造とすることにより、従来の濾過機構に僅かな付加
機構を設けるのみでフィルターボックス３内での雑菌の
成長を抑制できる。。
る構造とすることにより、従来の濾過機構に僅かな付加
機構を設けるのみでフィルターボックス３内での雑菌の
成長を抑制できる。。
（４）、上記（１）〜（３）により、信頼性の高い純水
処理が可能となる。
処理が可能となる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。たとえば、冷却機構とし
てはフィルターボックス３を冷却水５の循環される冷却
槽４内に浸漬した場合について説明したが、これに限ら
ずフィルターボックス３の周囲に冷却ガス等の流通され
る冷却管を配管した構造等、いかなる冷却機構によって
もよい。
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。たとえば、冷却機構とし
てはフィルターボックス３を冷却水５の循環される冷却
槽４内に浸漬した場合について説明したが、これに限ら
ずフィルターボックス３の周囲に冷却ガス等の流通され
る冷却管を配管した構造等、いかなる冷却機構によって
もよい。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその利用分野である、いわゆる半導体装置製造の純水
供給用の濾過装置に適用した場合について説明したが、
これに限定されるものではなく、たとえば製薬、医療等
の分野で水の供給に使用される濾過装置に適用できる。
をその利用分野である、いわゆる半導体装置製造の純水
供給用の濾過装置に適用した場合について説明したが、
これに限定されるものではなく、たとえば製薬、医療等
の分野で水の供給に使用される濾過装置に適用できる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。
すなわち、液体の流通配管の途中部分に介装され各々の
流通配管と連通されるとともにフィルター膜により一次
空間と二次空間とに隔成され外部とは隔絶されたフィル
ターボックスを有し、このフィルターボックスの周囲に
上記各空間を冷却する冷却機構が設けられた濾過装置構
造とすることにより、水の滞留を生じるフィルターボッ
クス内の一次空間および二次空間の各空間を所定の低温
条件で維持できるため、雑菌の成長を抑制でき、長期間
にわたってフィルター膜の除菌効果を維持できる。
流通配管と連通されるとともにフィルター膜により一次
空間と二次空間とに隔成され外部とは隔絶されたフィル
ターボックスを有し、このフィルターボックスの周囲に
上記各空間を冷却する冷却機構が設けられた濾過装置構
造とすることにより、水の滞留を生じるフィルターボッ
クス内の一次空間および二次空間の各空間を所定の低温
条件で維持できるため、雑菌の成長を抑制でき、長期間
にわたってフィルター膜の除菌効果を維持できる。
第１図は本発明の一実施例である濾過装置を示す説明図
である。 １・・・濾過装置、２・・・配管、３・・・フィルター
ボックス、４・・・冷却槽、５・・・冷却水、６・・・
低温恒温装置、７・・・−法主間、８・・・二次空間、
９・・・フィルター膜、１０ａ、ｌＱｂ・・・支持板、
１１・・・水たとえば純水。 第 Ｉｍ 、 ７ ノσｂ デー プ／Ｉし９
である。 １・・・濾過装置、２・・・配管、３・・・フィルター
ボックス、４・・・冷却槽、５・・・冷却水、６・・・
低温恒温装置、７・・・−法主間、８・・・二次空間、
９・・・フィルター膜、１０ａ、ｌＱｂ・・・支持板、
１１・・・水たとえば純水。 第 Ｉｍ 、 ７ ノσｂ デー プ／Ｉし９
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、液体の流通配管の途中部分に介装され各々の流通配
管と連通されるとともにフィルター膜により一次空間と
二次空間とに隔成されたフィルターボックスを有してお
り、このフィルターボックスの周囲に上記各空間を冷却
する冷却機構が設けられていることを特徴とする濾過装
置。 ２、流通配管内を流通される液体が水であることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の濾過装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61215778A JPS6372314A (ja) | 1986-09-16 | 1986-09-16 | 濾過装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61215778A JPS6372314A (ja) | 1986-09-16 | 1986-09-16 | 濾過装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6372314A true JPS6372314A (ja) | 1988-04-02 |
Family
ID=16678071
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61215778A Pending JPS6372314A (ja) | 1986-09-16 | 1986-09-16 | 濾過装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6372314A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005088684A1 (ja) * | 2004-03-16 | 2005-09-22 | Hirata Corporation | フィルタ装置 |
| US7040737B2 (en) | 1997-03-28 | 2006-05-09 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Ink jet recording device |
| JP2014050779A (ja) * | 2012-09-05 | 2014-03-20 | Kureha Corp | ストレーナー |
| JP2022151218A (ja) * | 2021-03-26 | 2022-10-07 | 横河電機株式会社 | フィルタ装置及び採水システム |
-
1986
- 1986-09-16 JP JP61215778A patent/JPS6372314A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7040737B2 (en) | 1997-03-28 | 2006-05-09 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Ink jet recording device |
| WO2005088684A1 (ja) * | 2004-03-16 | 2005-09-22 | Hirata Corporation | フィルタ装置 |
| JP2014050779A (ja) * | 2012-09-05 | 2014-03-20 | Kureha Corp | ストレーナー |
| JP2022151218A (ja) * | 2021-03-26 | 2022-10-07 | 横河電機株式会社 | フィルタ装置及び採水システム |
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