JPS6373352U - - Google Patents

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JPS6373352U
JPS6373352U JP16515286U JP16515286U JPS6373352U JP S6373352 U JPS6373352 U JP S6373352U JP 16515286 U JP16515286 U JP 16515286U JP 16515286 U JP16515286 U JP 16515286U JP S6373352 U JPS6373352 U JP S6373352U
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JP
Japan
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evaporation
shutter
substrate
cuts
vacuum
Prior art date
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Pending
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JP16515286U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、この考案の一実施例に係る膜形成装
置を示す概略図である。第2図は、第1図の装置
における制御の一例を示すタイムチヤートである
。第3図は、従来の膜形成装置の一例を示す概略
図である。 4…イオン源、6…イオンビーム、8…蒸発源
、10…蒸発物、16…基板、18…膜厚モニタ
、20…蒸発源シヤツター、21…膜厚モニタシ
ヤツター、22…基板シヤツター、24〜26…
駆動装置、32…制御装置。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. イオンビーム照射と真空蒸着の併用によつて真
    空中で基板上に膜を形成する装置であつて、真空
    蒸着用の蒸発源から出る蒸発物を断続するシヤツ
    ターと、蒸着速度制御用の膜厚モニタに入射する
    蒸発物を断続するシヤツターと、基板に入射する
    イオンビームおよび蒸発物を断続するシヤツター
    とを有するものにおいて、前記各シヤツターをそ
    れぞれ予め定められた所定のタイミングで自動的
    に少なくとも開かせることができる制御手段を備
    えることを特徴とする膜形成装置。
JP16515286U 1986-10-27 1986-10-27 Pending JPS6373352U (ja)

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JP16515286U JPS6373352U (ja) 1986-10-27 1986-10-27

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JP16515286U JPS6373352U (ja) 1986-10-27 1986-10-27

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JPS6373352U true JPS6373352U (ja) 1988-05-16

Family

ID=31094922

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JP16515286U Pending JPS6373352U (ja) 1986-10-27 1986-10-27

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