JPS6373363U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6373363U JPS6373363U JP16851386U JP16851386U JPS6373363U JP S6373363 U JPS6373363 U JP S6373363U JP 16851386 U JP16851386 U JP 16851386U JP 16851386 U JP16851386 U JP 16851386U JP S6373363 U JPS6373363 U JP S6373363U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- chamber
- high vacuum
- vacuum evacuation
- film forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は、この考案の１実施例であるＣＶＤ装
置の構成概念図、第２図はこのＣＶＤ装置におけ
る自動運転流れを示す図である。 １…入口室、３…第１成膜室、５…第２成膜室
、７…第３成膜室、９…出口室、３０…ＣＰＵ、
ＳＷ１，ＳＷ２，ＳＷ３…切替えスイツチ、１１
，３１，５１，７１，９１…基板搬入手段、１２
…真空排気手段、１３…加熱手段、３２，３５，
５２，５５，７２，７５…高真空排気手段、３３
，５３，７３…ガス調圧手段、３４，５４，７４
…成膜手段、１４，３６，５６，７６，９３…基
板搬出手段、９２…大気リーク手段。
置の構成概念図、第２図はこのＣＶＤ装置におけ
る自動運転流れを示す図である。 １…入口室、３…第１成膜室、５…第２成膜室
、７…第３成膜室、９…出口室、３０…ＣＰＵ、
ＳＷ１，ＳＷ２，ＳＷ３…切替えスイツチ、１１
，３１，５１，７１，９１…基板搬入手段、１２
…真空排気手段、１３…加熱手段、３２，３５，
５２，５５，７２，７５…高真空排気手段、３３
，５３，７３…ガス調圧手段、３４，５４，７４
…成膜手段、１４，３６，５６，７６，９３…基
板搬出手段、９２…大気リーク手段。
Claims (1)
- 入口室、複数の成膜室及び出口室を連設し、入
口室に搬入された基板を各成膜室に順次搬送して
、各成膜室においてそれぞれ基板搬入、高真空排
気、ガス調圧、成膜、高真空排気及び基板搬出の
各工程を経て、自動的に基板上に多層膜を形成し
て、その基板を出口室から搬出するようにしたＣ
ＶＤ装置において、前記各成膜室にそれぞれ、高
真空排気を行なつた後成膜工程を経ないで直ちに
基板排出を行なうようにする制御回路を併設する
ともに、その成膜工程を経ない処理操作と通常の
処理操作とを選択するための切替えスイツチを具
備させたことを特徴とするＣＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986168513U JPH069019Y2 (ja) | 1986-10-31 | 1986-10-31 | Ｃｖｄ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986168513U JPH069019Y2 (ja) | 1986-10-31 | 1986-10-31 | Ｃｖｄ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6373363U true JPS6373363U (ja) | 1988-05-16 |
| JPH069019Y2 JPH069019Y2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=31101454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986168513U Expired - Lifetime JPH069019Y2 (ja) | 1986-10-31 | 1986-10-31 | Ｃｖｄ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH069019Y2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5825226A (ja) * | 1982-07-19 | 1983-02-15 | Shunpei Yamazaki | プラズマ気相反応装置 |
| JPS5941470A (ja) * | 1982-08-31 | 1984-03-07 | Shimadzu Corp | 多室形薄膜作成装置 |
-
1986
- 1986-10-31 JP JP1986168513U patent/JPH069019Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5825226A (ja) * | 1982-07-19 | 1983-02-15 | Shunpei Yamazaki | プラズマ気相反応装置 |
| JPS5941470A (ja) * | 1982-08-31 | 1984-03-07 | Shimadzu Corp | 多室形薄膜作成装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH069019Y2 (ja) | 1994-03-09 |
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