JPS6376355A - 半導体装置用容器 - Google Patents

半導体装置用容器

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JPS6376355A
JPS6376355A JP61221296A JP22129686A JPS6376355A JP S6376355 A JPS6376355 A JP S6376355A JP 61221296 A JP61221296 A JP 61221296A JP 22129686 A JP22129686 A JP 22129686A JP S6376355 A JPS6376355 A JP S6376355A
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JP
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insulating substrate
transistor
container
insulating material
conductor layer
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Isamu Nagameguri
長廻 勇
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置用容器に関し、特に超高周波用トラ
ンジスタを搭載して収容するための半導体装置用容器に
関する。
〔従来の技術〕
従来の半導体装置用容器のうち、容器の内部に整合用コ
ンデンサ等を含んで超高周波用トランジスタを搭載する
ための容器は、第4図に例示するような構造のものが用
いられている。第4図は、超高周波電力用トランジスタ
と整合用コンデンサとを搭載して収容した半導体装置用
容器の斜視図である。
一般に超高周波トランジスタでは、外部線路(一般には
50Ω)との整合をとって使用するが、不整合による損
失を少なくするために、可能な限りトランジスタの近く
で整合をとることが必要であり、このため第4図に例示
するように、同一の容器内に整合用コンデンサ8とトラ
ンジスタ7とを搭載するような構成としている。また接
地インダクタンスを低減するため、トランジスタのエミ
ッタの配線用金属19の細線は、同一エミッタ電極につ
いて複数本を接続している。このため、ブリッジ用金属
10を容器内にろう付等の手段を用いて取付けている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の超高周波トランジスタを搭載するための半導体装
置用容器は、上述のように金属ブリッジ10を絶縁基板
11にろう付等で固着しているため、信号導入用メタラ
イズ層との間に空間を設けて絶縁する必要があり、この
ためある程度の金属ブリッジ10の高さく1朋程度)が
必要である。
更に金属ブリッジ10の機械的強度を保つためにも、そ
の形状も大きくする必要がある。従って従来の半導体装
置用容器は、その形状が大きくなり、また製造コストも
高くなるという欠点がある。
本発明の目的は、上述のような従来の半導体装置用容器
の欠点を除去して、形状が小さくまた製造コストを低減
できる半導体装置用容器を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の半導体装置用容器は、電子部品搭載部と前記電
子部品搭載部に搭載した電子部品間の接続を行うための
信号導入用導体層とを上面に有しかつ上面または下面に
第一の接地用導体層を有する絶縁基板と、上面に第二の
接地用導体層を有し前記絶縁基板上に載置された絶縁体
とを備え、前記第一および第二の接地用導体層を電気的
に接続して構成される。
〔実施例〕
次に本発明の実施例について図面を参照して説明する。
第1図(a)および(b)は本発明の第一の実施例の平
面図および側面図である。
第1図において参照符号1は絶縁基板、2は絶縁基板1
上に設けられている第二絶縁体であり、絶縁基板1の上
下面に設けられている接地導体層3a・3bと第二絶縁
体2の上面に設けられている接地導体層3Cとは、絶縁
基板1と第二絶縁体2とを貫通するスルーホール4によ
って導通されている。電力用トランジスタのように熱消
費が大きいトランジスタを搭載する場合は、絶縁基板1
としてはべりリアのような熱伝導度の大きい材料が選ば
れるが、第二絶縁体2は、アルミナのような安価な材料
でよい。絶縁基板1の上面には、接地用導体層3aと絶
縁された信号導入用導体層5および6が設けられている
。
第2図は第1図の実施例にトランジスタ7と、整合用コ
ンデンサ8とを搭載した状態を示す平面図である。
トランジスタ7は信号導入用導体層6上に、整合用コン
デンサ8は接地用導体層3a上に搭載し、トランジスタ
7の接地用端子は配線用金属9によって接地導体層3c
または3aと接続する。これによって従来のように金属
ブリッジを使用せずに所望の接続を行うことができる。
第3図は本発明の第二の実施例を示す平面図である。
本実施例は絶縁基板21の上面または下面の接地導体層
と第二絶縁体22の上面の接地導体層との接続を、スル
ーホールの代りにそれらの側面に被着させた金属化層2
3によって行ったものである。
なお、上記の各実施例は、トランジスタや整合コンデン
サ等の電子部品搭載部が露出された構成の容器の場合の
例であるが、本発明はキャップを有して、搭載した電子
部品を封止する構成の容器の場合にも適用できる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明は従来トランジスタの設置
のなめ用いていた金属ブリッジの代りに導体層を表面に
被着した第二絶縁体を用い、第二絶縁体を絶縁基板上に
直接搭載することによって小形で安価な半導体装置用容
器が得られるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図(a>および(b)は本発明の第一の実施例の平
面図および側面図、第2図は第1図の実施例にトランジ
スタを搭載した状態を示す平面図、第3図は本発明の第
二の実施例を示す平面図、第4図は従来の半導体容器の
一例にトランジスタを搭載した状態を示す斜視図である
。 1.11.21・・・・・・絶縁基板、2.22・・・
・・・第二絶縁体、3a・3b・・・・・・接地導体層
、4・・・・・・スルーホール、5・6・15・16・
・・・・・信号導入用導体層、7・・・・・・トランジ
スタ、8・・・・・・整合用コンデンサ、9・19・・
・・・・配線用金属、10・・・・・・金属ブリッジ、
11・・・・・・絶縁基板。 ((j)             (4)信1図 第 2 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  電子部品搭載部と前記電子部品搭載部に搭載した電子
    部品間の接続を行うための信号導入用導体層とを上面に
    有しかつ上面または下面に第一の接地用導体層を有する
    絶縁基板と、上面に第二の接地用導体層を有し前記絶縁
    基板上に載置された絶縁体とを備え、前記第一および第
    二の接地用導体層を電気的に接続したことを特徴とする
    半導体装置用容器。
JP61221296A 1986-09-18 1986-09-18 半導体装置用容器 Expired - Fee Related JPH0783072B2 (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59126654A (ja) * 1983-01-10 1984-07-21 Toshiba Corp 高周波電力増幅器

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS59126654A (ja) * 1983-01-10 1984-07-21 Toshiba Corp 高周波電力増幅器

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